半導体用フォトマスク欠陥検査装置

MIS-CAシリーズ

半導体用フォトマスクの欠陥検査が可能

株式会社東光高岳

・高速・高感度Die-DB検査に対応
・CD欠陥を敏感に検出
・オフラインレビューが可能(検査と同時処理の場合はクラスタPCが別途必要)
・DieとDB検査領域の混在検査が可能(オプション)
・MIS-CA1804T/180nmデザインルールに対応(最小検出欠陥サイズ:250nm)
・MIS-CA1303T/130nmデザインルールに対応(最小検出欠陥サイズ:180nm)

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主な用途 130-180nmデザインルールの半導体用フォトマスクの外観検査
URL https://www.tktk.co.jp/product/electronics/blanks/#tabpanel03

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株式会社東光高岳

東光高岳は、電力流通システムを一貫してカバーする製品とサービスを提供する中で培った計測・伝送・制御のコア技術をもとに、半導体の製造に欠かせない部品・パーツの検査装置を開発しています。

〒 135-0061
東京都江東区豊洲5-6-36 ヒューリック豊洲プライムスクエア8F

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