MIS-CAシリーズ
・高速・高感度Die-DB検査に対応
・CD欠陥を敏感に検出
・オフラインレビューが可能(検査と同時処理の場合はクラスタPCが別途必要)
・DieとDB検査領域の混在検査が可能(オプション)
・MIS-CA1804T/180nmデザインルールに対応(最小検出欠陥サイズ:250nm)
・MIS-CA1303T/130nmデザインルールに対応(最小検出欠陥サイズ:180nm)
検査装置 総合カタログのダウンロード (3.8Mb)
主な用途 | 130-180nmデザインルールの半導体用フォトマスクの外観検査 |
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URL | https://www.tktk.co.jp/product/electronics/blanks/#tabpanel03 |
半導体用フォトマスク欠陥検査装置の関連カタログ
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