SHシリーズ基板加熱ヒーター

SH-IN, SH-BN

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現性に優れた高真空超高温ウエハー加熱用ホットプレート

大学・官公庁研究機関、半導体・真空装置メーカーなどで真空薄膜実験用に多数の採用実績がある信頼性高い超高温真空用ホットプレートです。独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。

◆ヒーター仕様◆
◎ 使用発熱体
・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型）
◎ 最高使用温度
・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型
◎ 対応基板サイズ
・1〜6inch
◎ 使用雰囲気
・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他
・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可）
◎ 基板固定用サンプルクリップ付属
◆オプション仕様◆
◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO）
◎ 基板回転, 上下昇降機構
◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini

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SHシリーズ基板加熱ヒーターの情報・製品仕様

主な用途	半導体・電子部品基板基礎技術開発分野でのCVD, PVD（PLD, ALD, 蒸着, スパッタリング）などの薄膜実験、物性研究、材料分析などの研究開発用途に最適、又、生産用途装置での活用も可能です。
URL	http://www.thermocera.com/products/substrateheater.html