アクティブ除振台付き石定盤上に載ったサーフェイス式XYZステージに、自社製のダブルパス方式He-Neレーザー干渉計測長システムを搭載。
レーザー波長は光学トラッキング方式で補正し、ステージ位置決めはプレーンミラーにより0.3nm分解能で制御します。
撓み補正やグリッド・線幅補正といったソフト補正機能も充実。
主な用途 | 半導体・MEMS用フォトマスク |
---|---|
URL | http://sinto-sp.co.jp/products/sam.html |
・精密座標測定機、その他精密測定機器の開発・製造・販売及びメンテナンス ・精密加工装置の開発・製造・販売及びメンテナンス
〒 243-0036
神奈川県厚木市長谷260-63