テルモセラ・ジャパン メーカー公式情報
MINILAB-080 ｜ MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置
シリーズ ： 【MiniLab（ミニラボ）】フレキシブル薄膜実験装置
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置 の販売情報
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置の製品概要
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材）,EB蒸着, RF/DC兼用マグネトロン式スパッタ, ドライエッチ, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）
・RF/DCエッチングシステム
・CVD（熱CVD, PECVD）
この製品の利用用途
真空薄膜実験、開発用途
・真空薄膜、電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜（Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜（SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.）
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置の製品特長
MiniLab-080_スパッタリングカソード
スパッタカソード：Φ2inch 〜 Φ4inch
Φ2inchカソード x 最大4
Φ3inchカソード x 最大3
Φ4inchカソード x 最大2
MiniLab-080_電子銃
7ccるつぼ x 6、又は4ccるつぼ x 8
手動/自動回転セレクタ, ビーム偏向270°,X-Yスイープ
MiniLab-080_ロードロックチャンバー
ロードロックチャンバー（ガス冷却機構付）
MiniLab-080_RF/DCエッチングステージ
RF/DCプラズマエッチング
MiniLab-080_デポサイドチャンバー
デポサイド（スパッタソース、基板ステージを左右に配置）
MiniLabフレキシブル薄膜装置 紹介動画
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置の製品仕様
| チャンバー | 80L容積 SUS304 フロントローディング式 デポダウン・アップ ロードロックポート、観察用サイドポート、フロントビューポート（x2箇所）400(W) x 400(D) x 570(H)mm |
|---|---|
| 基板サイズ | 最大Φ11inch基板 |
| 抵抗加熱蒸着源（金属） | TE1ボックスシールド式蒸着源 x 最大4 |
| 有機材料蒸着源 | LTE-1cc（又は5cc）石英、又はアルミナるつぼ x 最大4 K熱電対付 |
| マグネトロンスパッタリング | Φ2inch x 4、Φ3inch x 3、Φ4inch x 2 RF, DC, PulseDC兼用 |
| RF/DCエッチングステージ | RF150W自動マッチング付 DC850W |
| 同時成膜 | 2〜4源同時成膜 |
| スパッタ電源 | RF150〜500W自動マッチング付属 DC850W HiPIMS電源 |
| 回転・上下ステージ | 回転・上下（100mmストローク） |
| 基板加熱ヒーター | Max500℃ ランプヒーター Max1000℃ C/Cコンポジット、又はSiCコーティングヒーター |
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置の関連ドキュメント
| 製品カタログ | ダウンロード |
|---|
MiniLab-080 フレキシブル薄膜実験装置の詳細情報
| メーカー | テルモセラ・ジャパン |
|---|---|
| シリーズ | 【MiniLab（ミニラボ）】フレキシブル薄膜実験装置 |
| 発売日 | 2020年4月1日 |
| 登録カテゴリ |