MINILAB-090 ｜ MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置

MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置の製品概要

グローブボックス収納可能 PVD, CVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。

・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・最大Φ8inch加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）
・RF/DCエッチングシステム
・CVD（熱CVD, PECVD）

【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4点（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4点（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能（*オプション）
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4
・膜厚制御：Inficon社製 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 13A, 水冷3ℓ/min, N2ベントガス0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, バイアス印加ステージ, ドライポンプ

この製品の利用用途

電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜（Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜（SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.）