テルモセラ・ジャパン-en Official Info
Series : 【MiniLab(ミニラボ)】フレキシブル薄膜実験装置
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
There is no registered distributor
Would you like to list your products?
Register at Apérza蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材),EB蒸着, RF/DC兼用マグネトロン式スパッタ, ドライエッチ, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・RF/DCエッチングシステム
・CVD(熱CVD, PECVD)
Main Usage
真空薄膜実験、開発用途
・真空薄膜、電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜(Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜(SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.)
MiniLab-080_スパッタリングカソード
スパッタカソード:Φ2inch 〜 Φ4inch
Φ2inchカソード x 最大4
Φ3inchカソード x 最大3
Φ4inchカソード x 最大2
MiniLab-080_電子銃
7ccるつぼ x 6、又は4ccるつぼ x 8
手動/自動回転セレクタ, ビーム偏向270°,X-Yスイープ
MiniLab-080_ロードロックチャンバー
ロードロックチャンバー(ガス冷却機構付)
MiniLab-080_RF/DCエッチングステージ
RF/DCプラズマエッチング
MiniLab-080_デポサイドチャンバー
デポサイド(スパッタソース、基板ステージを左右に配置)
MiniLabフレキシブル薄膜装置 紹介動画
チャンバー | 80L容積 SUS304 フロントローディング式 デポダウン・アップ ロードロックポート、観察用サイドポート、フロントビューポート(x2箇所)400(W) x 400(D) x 570(H)mm |
---|---|
基板サイズ | 最大Φ11inch基板 |
抵抗加熱蒸着源(金属) | TE1ボックスシールド式蒸着源 x 最大4 |
有機材料蒸着源 | LTE-1cc(又は5cc)石英、又はアルミナるつぼ x 最大4 K熱電対付 |
マグネトロンスパッタリング | Φ2inch x 4、Φ3inch x 3、Φ4inch x 2 RF, DC, PulseDC兼用 |
RF/DCエッチングステージ | RF150W自動マッチング付 DC850W |
同時成膜 | 2〜4源同時成膜 |
スパッタ電源 | RF150〜500W自動マッチング付属 DC850W HiPIMS電源 |
回転・上下ステージ | 回転・上下(100mmストローク) |
基板加熱ヒーター | Max500℃ ランプヒーター Max1000℃ C/Cコンポジット、又はSiCコーティングヒーター |
Catalog | Download |
---|
Manufacturer Brand | テルモセラ・ジャパン-en |
---|---|
Series Name | 【MiniLab(ミニラボ)】フレキシブル薄膜実験装置 |
Sales Start Date | 01/04/2020 |
Category |