株式会社ナノフィルム テクノロジーズジャパンは、シンガポールに本社をおく、ナノフィルムテクノロジーズインターナショナル社(NTI)の日本法人です。本社社長のDr.Shiは、1999年にFCVA方式の商業化に成功しNTI社を設立、新しい真空成膜技術による、ta-C(水素基フリーのDLC膜)、MiCC膜、各種金属膜を提供しています。2001年には、シンガポール政府から技術革新賞「i-Award」をはじめ数々の賞を受賞しています。
弊社の開発技術は国際特許を取得し社会的にも大きな役割を担っています。FCVA方式によるta-C(水素フリーのDLC膜)は、既存のPVD方式やCVD方式により生成されるDLC膜と比較し全く異なるプロセスで成膜されております。その他に金属とプラスチックとの離型性に優れた複合金属膜「MiCC膜」があります。FCVA方式により生成されるコーティング膜は、現在 ハードディスク産業、 精密金型産業、コピー機、自動車産業などの分野で急速に採用されており、今後、光学部品や樹脂材料へのコーティング分野への展開が期待されています。
会社名 | 株式会社ナノフィルムテクノロジーズジャパン (かぶしきがいしゃなのふぃるむてくのろじーずじゃぱん)
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所在地 |
〒 158-0083 東京都世田谷区奥沢3-28-7ノヴァインターナショナルビル3階 |
事業内容 | FCVA方式コーティングシステムの開発・製造、及びコーティングサービス |
FAX | 03-3729-5020 |
WEBサイト | http://www.nanofilm.co.jp |
業種 | その他の製造業 |