化学気相成長装置の研究開発
・原料およびプロセスに関して、スクリーニングから高精度の成膜まで
一連の実験を短期間に終結させる装置作製
・安価な小型研究用装置の販売
化学気相成長装置を用いた依託実験
・半導体新規プロセス用の原料探索や基礎実験の依託成膜
・新規プロセスの販売、及び知財活用
新規化学気相成長用原料の開発と成膜評価
・原料候補の試作合成と成膜評価
・試作から評価へとすばやい動きによる開発を基にした知財獲得
少量高付加価値原料の販売
・化学気相成長用原料化合物の合成と分析
・通常行われない特殊化学分析
・化合物の蒸気圧測定、及び輸送実験
代行実験,レンタルラボ、立会実験
会社名 | 気相成長株式会社 (きそうせいちょうかぶしきがいしゃ)
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所在地 |
〒 184-0012 東京都小金井市中町2-24-16 農工大・多摩小金井ベンチャーポート301号室 |
資本金 | 4,500,000円 |
設立 | 2008年 7月29日 |
事業内容 | ファインケミカルの研究開発 ファインケミカル及びその関連部品・関連装置の製作・販売 ファインケミカルに関するコンサルタント 化学物質の製造・販売及び分析 |
FAX | 042-401-1783 |
WEBサイト | http://www.kisoh-seicho.com/ |
業種 | 無機化学工業製品製造業 |