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湿式メディアレス微粒子化技術 ナノヴェイタ(TM)システム
ナノヴェイタの特徴、構造と原理、技術説明から製品ラインアップをご紹介している総合カタログになります。
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このカタログについて
ドキュメント名 | 湿式超高圧微粒化装置ナノヴェイタシステムのご案内 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
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登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 吉田機械興業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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Nanovater_表1-表4_1911
2019 1201-1000
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Nanovater_P01-02_1510
ナノテク技術で製品化をサポートする ナノヴェイタ™システムのご案内
INDEX
吉田機械興業の ナノヴェイタ™の特徴 3
ナノヴェイタ™の構造と ナ
ナノヴェイタ™システム ノ
ノズルについて 4 ヴ
分 散 乳 化 ェ
イ
タ
™
・均一分散 ・透明化 に
つ
ナノテク技術は、既に私たちの暮らしに密接に関わっ ・樹脂分散 ・安定化(分離防止) い
て
ています。医薬品、電子機器、電池、化粧品、食品等 ・溶融乳化 ・浸透性
を初め、その技術は身近な製品に使われています。 ・凝集沈降改善 切 断 技術説明
技
吉田機械興業のナノテク事業は、湿式メディアレス ・金属コンタミ発生量について 5 術
・粘質改善 ・ナノヴェイタ™分散の特徴 6 説
微粒子化技術(ナノヴェイタ™)をコアとした、コンタ ・低分子化 ・ナノヴェイタ™破砕の特徴 7 明
ミレス、粒子ダメージレス、均一分散化等の市場要求
に対応すると共に、より適したアプリケーションとラ
イン化を提案させて頂いております。
お客様の新製品開発と市場投入のお手伝いとして、 製品ラインアップ
実験や、受託生産(試作、サンプル作成)等も対応さ インク 関係 化粧品 ・量産機 8 製
・卓上実験機 9・10 品
ラ
せて頂いておりますので、お気軽に問合せ下さい。 11
顔料・樹脂 etc. セラミド・酸化チタン・ヒアルロン酸・ ・2液処理装置 イ
コラーゲン etc. ・粗粒処理装置 11 ン
ア
・ダマトリシステム 12 ッ
プ
分 散
・コンタミレス 分野ごとの オプション 13・14
・素材機能維持 ・外付けオプション オ
プ
・高密度 電子・ 微細化用途・ ・本体オプション シ
ョ
・薄膜 ン
・粒子ダメージレス分散 電池材料 メリット 健康食品
・膜の平滑化 酸化チタン・セラミックス・ 大豆・野菜・添加物・
・高粘度 カーボン・金属・レアメタル 花粉 etc.
etc.
実験・レンタルについて 15・16
実
験
医薬品 ・
破 砕 レ
ン
タ
難水溶性薬剤・リポソーム ・食感、消化率向上 ル
に
こんなご要望にお応え致します! etc. ・新規製品化 つ
い
・細胞膜破砕 て
●コンタミネーションを出来る限り少なく出来ないか ・風味改善
●粒子にダメージを与えず処理が出来ないか ・W/Oエマルジョン化 導入支援 17
実験室・営業窓口紹介 18 実導
●原料の分子量調整を出来ないか(低分子化) 験入
室支
●繊維を切断が出来ないか ・
破 砕 営援
業
●粒度分布の粗大粒子を無くせないか 窓
・毒性軽減 口
●粒度分布をシャープに出来ないか ・吸収率向上 紹
介
●極少量(6 ml~)の試料で実験が出来ないか ・浸透性向上
●色々な処理(加熱・2液処理等)方法を試せないか ・粒径コントロール
●量産化移行条件を簡単に出来ないか ・溶解速度向上
2
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Nanovater_P03-04_1510
ナノヴェイタ™について ナノヴェイタ™とは、湿式のメディアレス微粒化装置です。媒体となるメディアが無く、メディアによる打撃や、粒子が直接衝突する
タイプと違う為、粒子に与えるエネルギーのコントロールが可能となります。
ナノヴェイタ™の特徴 ナノヴェイタ™の原理
最高圧力(200 MPa)時に得られる速流(290 m/s)より発生する超高速せん断力による流体エネルギーを利用して乳化・分散・破砕を
1 粉砕媒体不要なので、メディアコンタミ及び管理が不要です。ハードよりのコンタミ発生を 行います。 ナ
コンタミレス 極小(ppbオーダー)に抑えられます。実験機~量産機まで高いサニタリー性を維持しているため、 ノ
ヴ
●サニタリー性 クロスコンタミを抑えることが出来ます。 ェ
ナノヴェイタ™の構造とノズルについて イ
タ
●卓上実験機( L/Cシリーズ) に™
接液部の分解・洗浄・組立が容易となり、多品種試験の効率アップとなります。 クロスノズル内速度分布
350 つ
試料 い
300 クロス点流速 て
200MPa
250 150MPa
速 100MPa
流(200 第1流速 50MPa
〈ノズル〉
150
〈プランジャ〉
)100 第2流速
50
0
加圧 -1.5
吐出圧力:
カバーヘッドは開閉可能です。 各部品を分解して洗浄。簡単に Max.200 MPa 速度位置1.5
(mm)
LーES007 組立ることができます。
●量産機(B/Tシリーズ)
分解・組立がお客様にて実施可能なため、洗浄・殺菌・保管管理・メンテナンスのユーザビリティが IN側ディスク OUT側ディスク
大幅にアップ。接液部の確認が直接可能な為、GMP対応にも貢献致します。
第1流速
第2流速
クロス点流速
青い流路より押し込まれた高速流が中央のクロス部分で、90度
変芯して赤い流路に送り込まれます。クロス部分で起こる、強力
な乱流によって起こるせん断力によって処理されます。
前部のカバーを取りはずしでき 分解することで、お客様ご自身に
ます。 よるメンテナンスが可能です。
BーED-060 大 エネルギー 小
●クリーン性 ナノヴェイタ™の駆動は、電動に拘っています。(一部防爆の関係でエア駆動あり)
コンタミは装置の接液部分(溶出や残渣)と思われがちですが、電子材料や医薬・化粧品の製造現場では、
クリーンルームは当たり前です。 ストレート(Ⅰ型)ノズル
そこに油圧ユニット等の、油分が飛散する可能性のある装置は提供出来ません。弊社ではよりクリーンである事も
コンタミ対応と考え、これからもコンタミリスクの少ない装置を提供して参ります。 クロス(X型)ノズル
2 粒子ダメージレス 今までの粒子に直接ダメージを与える微粒化方法に対し、ナノヴェイタ™は高速せん断力にて
処理されているため、直接粒子にダメージを与えずに処理が可能となります。
3 均一分散 処理時にノズル部分の細いオリィフィスを通過させる為2種、3種の種類の違う
粒子を均一に分散させる事が可能です。
細い部分で流速を上げ合流時点で大き
な乱流エネルギーを発生させます。
発生エネルギーが大きいノズルです。2つの高速流を90度クロスさせる 発生エネルギーをマイルドに抑えたノズルです。2つの穴を通過する間
ナノヴェイタ™の処理条件 事で小さな反応場で大きなせん断力(乱流)を作り出します。 にクロス型ノズルより大きな空間を作り、その中でせん断力(乱流)を作
材質も単結晶ダイヤモンド、焼結ダイヤモンド等を使い分けることでコン り出します。
●高粘度(100.000 mPa・s以上)、処理対応可能です タミネーションを抑さえています。 材質は単結晶ダイヤモンドを使いコンタミネーションを抑えています。
●最大投入可能粒径に制限があり、目安として卓上実験機では30 μm以下、量産機では100 μm以下となります。 ◎溝サイズ:80 μm~1 m m ※処理量・処理物によって適正サイズに設計します。 ◎溝サイズ:80 μm~1 m m ※処理量・処理物によって適正サイズに設計します。
3 4
m/sec
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Nanovater_P05-06_1510
技術説明 今までの微粒子化概念と違い、ノズル内での発生エネルギーがほぼ一定である事を利用し、粒子にかかるエネルギーをコントロール
する事で今まで出来なかった様々な処理が可能となりました。その一例が「ダメージレス」分散です。
ナノヴェイタ™分散の特徴
ニッケル、銀、チタンなど精巧な電子部品に用いられる材料や、生体に対して医薬品として用いられる材料は、製品の電気的特性や人体への悪影響を 弊社では発生エネルギーをコントロールする事で粒子ヘのダメージを低減した「ダメージレス分散処理」が可能です。
減らすため、製造工程で混入する金属系不純物をppbオーダー以下に抑えることが求められています。 焼成や表面処理、コーティングなどによる、粒子の凝集・凝結を壊したり傷つけたり、コーティングを剥がしたりすることなく、一次粒子に分散します。
金属系不純物は主に材料の精製限界により残留するものと、材料の加工段階で機械装置等から混入するものがあり、特に粉砕・分散の工程で叩く・潰
すなどの原理を用いる場合には、粉砕メディアの摩耗粉が不純物として混入するケースがあります。粉砕メディアを用いない吉田機械興業の超高圧
流体せん断方式では、粉砕・分散の工程で混入する金属系不純物の量を極めて低レベルに抑えることが可能です。 ■ 粒子ダメージレス分散の例
ゼ ロ
コ ン タ ミ 焼成前
粒 子ダメージ ≒ 0 の微粒化技術
技
術
説
■量産機(B-ED)におけるシリカスラリー分散時の金属コンタミ発生量 明
50μm 50μm
粒子径分布
40
焼成前
30
20 粒子ダメージレス
分散
10 ダメージ分散
(破砕) 焼成後
0
1 5 10 100 1000
Particle Diamete(r um)
■量産機(B-ED)におけるコンタミ発生のメカニズム
クロス型ノズル ストレート型ノズル
50μm 50μm
処理条件:クロス型ノズル 処理条件:ストレート型ノズル
80 MPa×1パス 80 MPa×1パス
5 6
Volume %
(
)
Page5
Nanovater_P07-08_1911
技術説明 ナノヴェイタ™(NV)シリーズ量産機ラインアップ
ナノヴェイタ™破砕の特徴 量産機
ナノヴェイタ™における破砕の特徴は、超高速で流れる流体により発生するせん断力です。 モジュール型量産機B-EDシリーズは、電動サーボ駆動のポンプ機能を搭載、タッチパネル操作によるモニタリング、品種データ、
その為、今までの粉砕・分散・乳化装置とは異なったナノヴェイタ™特有の傾向があります。 稼働履歴の管理、ユニット同士の同期による省電力稼働、上位通信によるリモート運転など、多種多様な運用に対応します。
デジタル制御による品種管理の復元や管理ができ、卓上実験機からのスケールアップも容易です。
10 粒子径分布
9 B-EDX150(1ユニット型/ビルドアップ型)
8 ピークがスライド
7 するわけではない。 1ユニット専用タイプから増設可能タイプまで、内圧防爆仕様(ExP)での対応も可能。
6 処理圧力 外形寸法
5
200 MPa(MAX) 1250(W)×1800(D)×1990(H) mm
4
※(W)寸法は1unit追加毎に600mm+となります。 技
3 処理量 術
説
2 連続処理量 質量
・明
1 150 L/H(MAX 200 L/H)at 200 MPa(D24) 1,600 kg 製
0 200 L/H(MAX 270 L/H)at 150 MPa(D28) 品
0.04 0.1 0.4 1 2 4 6 10 20 40 100 200 400 1000 2000 ※1unit専用タイプ(増設不可) ラ
Particle Diamete(r um) 300 L/H(MAX 400 L/H)at 100 MPa(D34) 1,900 kg イ
※増設可能タイプ ン
電源 最大連結数4uni(t 基本unit+増設3unit) B-ED150-D24X ア
基本ユニット部 ッ
AC200V 55kVA / 基 増設部 プ
●破砕は角をとりながら進行 B-ED152-D24X-Exp
●球状または展性・延性のある物質の破砕は苦手 1パスで凝集は解けるが、1次粒径は変化しない。 B-EDX110(スリム型) B-ED060(内圧防爆型)
1ユニット専用の省スペースタイプ。 内圧防爆(ExP)専用量産機 省スペース設計
処理圧力 質量 処理圧力 質量
■真球状シリカ【 宇部日東化成(株)ハイプレシカ】 200 MPa(MAX) 1500 kg 200 MPa(MAX) 950 kg
処理量 処理量
処理前 処理後 32 粒子径分布 連続処理量 連続処理量
30 100 L/H(MAX 130 L/H)at 200 MPa(D20) 80L/H(MAX 88 L/H)at 200 MPa(D20)
28
26 1 Pass 150 L/H(MAX 190 L/H)at 150 MPa(D24)
24 10 Pass 200 L/H(MAX 260 L/H)at 100 MPa(D28) 電源
22
20 (重なっている) AC200V 22kVA
18 電源
16
14 AC200V 36kVA 外形寸法
12 760(W)×1910(D)×1730(H) mm
粒子表面 粒子表面 10 外形寸法
8
6 900(W)×1800(D)×1990(H) mm
4
2 処理前 B-ED110-D28X-R-S B-ED060-D20-ExP
0
0.04 0.1 0.4 1 2 4 6 10 20 40 100 200 400 1000 2000
Particle Diamete(r um) P-150-0600
ご要望の圧力・処理量によりオーダーメイド設計製作。周辺機器、付帯設備連結、流れのレイアウトなど任意に設計・製造が可能です。
処理圧力 外形寸法
■球状ポリエチレン【 住友精化(株)フロービーズ】 150 MPa(MAX) 2350(W)×1200(D)×2000(H) mm
処理量 質量
処理前 処理後 7.5 粒子径分布 最小処理量1000 mL~連続処理量600 L/h r. 1,800 kg(制御盤装置一体型)
7
6.5 電源
6 1 Pass
5.5 100 Pass AC200V 100 kVA
5
4.5 ※耐圧防爆仕様での対応も可能です。
4 P-150-0600
3.5
3 ●ナノヴェイタ™量産機対応表
粒子表面 粒子表面 2.5
2 処理量 50 L/Hr 100 L/Hr 200 L/Hr 300 L/Hr 400 L/Hr 500 L/Hr 750 L/Hr 1000 L/Hr 3000 L/Hr 8000 L/Hr
1.5
1 170 ℃ 10 MPa
0.5 30 Pass 処理前
0 15 MPa
0.04 0.1 0.4 1 2 4 6 10 20 40 100 200 400 1000 2000
Particle Diamete(r um) 処 20 MPa
理 30 MPa
圧 50 MPa
力 75 MPa
100 MPa
150 MPa
200 MPa
●印部を標準として対応(標準外処理量をご要望の場合は、ご連絡下さい)
吐出量(処理量)は装着ノズルサイズ、装着本数、処理圧力設定、液性状によって変化します。
7 8
Volume % Volume % Volume %
(
)
(
)
(
)
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Nanovater_P09-10_1510
ナノヴェイタ™(NV)シリーズラボ機ラインアップ 弊社ナノヴェイタ™は、卓上型試験機から量産機、オプション品まで、お客様の用途に合わせたラインアップをご用意しています。
付帯周辺機器も含め、お客様のご使用環境に合わせた製作も可能です。
卓上実験機
L-ED
定吐出モードや倍吐出モードに加え、各軸に異種試料を投入し、
任意の割合で吐出できる異種吐出モードを装備しています。
処理圧力 電源
200 MPa(MAX) AC200V 6 kVA
処理量 外形寸法
最小処理量6 mL 703(W)×383(D)×684(H) mm
連続処理量
17 L/hr[定(] MAX 22 L/hr[倍]) at 200 MPa(D10) 質量
32 L/hr[定(] MAX 43 L/hr[倍]) at 100 MPa(D14) 90 kg
*定=定吐出モード、倍=倍吐出モード選択時。
L-ED015
■エアタイプ(防爆対応) 製
品
ラ
イ
L-AS ン
ア
ッ
プ
電動型のL-ESに対する、エア駆動型のスタンダードモデル。
電源不要、防爆対応になります。
処理圧力 エアー源
200 MPa(MAX) 0.7 MPa 900 NL/min.以上
処理量 外形寸法
写真はC-ESを撮影 最小処理量8 mL 737(W)×282(D)×439(H) mm
■電動タイプ 連続処理量
MAX 12 L/hr at 200 MPa(D10) 質量
MAX 24 L/hr at 100 MPa(D14) 67 kg
L-ES ※コンパクトタイプ L-AS160もあります。 L-AS200
(受注生産)
湿式メディアレス微粒化実験機のスタンダードモデル。
1台で乳化・分散・破砕の3役をこなす卓上型実験機です。
処理圧力 電源
200 MPa(MAX) AC200V 1.5 kVA( L-ES008)
処理量 外形寸法 L-AD
最小処理量6 mL 548(W)×349(D)×517(H) mm
連続処理量 L-ASを2台並列接続した処理量拡大モデル。単軸使用、複軸使用が
6 L/h(r MAX 11 L/hr) at 200 MPa(D10) 質量
11 L/h(r MAX 21 L/hr) at 100 MPa(D14) 38 kg 任意に操作可能。非吐出速度の調整による脈動低減運転が可能です。
*処理量はノズルサイズにより変わります。 ※AC100V 0.8 kVA( L-ES004) L-ES008
(受注生産) 処理圧力 エアー源
C-ES 200 MPa(MAX) 0.7 MPa 1500 NL/min.以上
処理量 外形寸法
省スペースへの要望を追求したコンパクトタイプです。 最小処理量8 mL 830(W)×570(D)×608(H) mm
L-ESタイプよりひとまわり小型となりました。 連続処理量
MAX 18 L/hr at 200 MPa(D10) 質量
処理圧力 電源 MAX 36 L/hr at 100 MPa(D14) 138 kg
200 MPa(MAX()D10) L-AD200
AC200V 1.5 kVA( C-ES008)
処理量 外形寸法
最小処理量6 mL 370(W)×289(D)×314(H) mm
連続処理量
6 L/h(r MAX 9 L/hr) at 200 MPa(D10) 質量
11 L/h(r MAX 17 L/hr) at 100 MPa(D14) 41 kg
C-ES008
*処理量はノズルサイズにより変わります。 ※AC100V 0.8 kVA( C-ES004)
9 (受注生産) 10
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Nanovater_P11-12_1702
製品ラインアップ
高圧マイクロリアクタ ダマトリシステム
弊社マイクロリアクタは2液が100~190μm 「攪拌・混合・予備分散・予備乳化」
の反応場にて高圧(高速流)で反応する為、今ま 平均粒径(nm)
でのマイクロリアクタと違った反応が期待出来
ダマトリは粉体の懸濁時に発生するダマをとる ■ダマトリシステム(2L用)
ます。
ノズルです。効率の良い攪拌・混合をお手伝い エア式ダイヤフラムポンプ
致します。濡れの悪い微粉混合や、界面活性剤 圧送ポンプ (サニタリータイプ)
による泡立ちの防止などを、アウトライン・イン 吐出量 9 L/分(540 L/Hr)
ラインで解消できます。 エア圧 0.3~0.7 MPa
ユーティリティ (max200 NL)
エア接続 ハイカプラ20型
ダマトリ 1/2"クラス、接続口径:10 A
ホッパ仕様 60°、容量:2 L(OP:5 L、10 L)
0.01 32 接液部使用材料 SUS 316 L、PTFE
58 197.00
44 DTU
1.35
0.01 1 100 36時間後 ●ダマトリの構造と原理
■外形寸法(DTN)
F 製
エレメント 品
ラ
乱 (φD) φd イ
流 ン
発 ケース本体 ア
L ッ
DTN 生 プ
耐圧:1 MPa(ケース標準)
粗粒処理装置 呼び L※1 (φD) φd F※2
2S 220
・複数の孔を有した部屋を流動 ・孔通過時の乱流発生 (314※3) φ64.0 φ48.6 2Sへルール
NVR-P020-0600は300μm以下の粗粒を数十μmオーダーまで分散する事を目的として製造致しました。粗粒分散、微粒子化処理の前処理 1S・1S-S 150 φ50.5 φ28.4 1Sへルール
壁衝突やせん断力による微粒化と 強力な混合作用を発揮します。
(ビーズミルやメディアレス装置への投入前処理)装置としてご利用頂けます。 1/2 S 106 φ34.0 φ14.0 1/2Sへルール
相互衝突によるエネルギーで微粒化します。
※1 管接続方法(F)変更の場合、問合せ下さい。
※2 JISフランジ、異サイズへルール等への対応も可能です。
<原理> ※3 アダプタ取付時の寸法です。
ダマトリ、ナノヴェイタ™と同じくせん断力を利用した製品で、液体中に高速ジェット流を作る事で、液中に乱流を起こし処理をします。 ●他の攪拌方法との比較 ■材質
弊社の得意技術であるコンタミを押さえた処理を実現しました。 ケース本体 SUS316(標準)
・強力な混合作用で ダ ダ
マ マ SUS316(標準)
“ダマ”を除去 発 な エレメント オプション材質:セラミクス、超鋼、樹脂、
処理圧力 生 し 高硬度コーティング材
20 MPa(MAX) ( CMC 1 wt%、0.3 MPa、3分) ※上記以外の材質での製作も行います。
※ケース本体は内面接液部に表面処理施工あるいはエレメント同材質も可能です。
処理流量 混合作用
水換算600 L/Hr(Max.760 L/Hr) ■適用スラリー液
電源 呼び 投入可能一次粒径 最大投入可能粒径
3相 AC 200 V 60 Hz 2S 0.25 mm 2.2 mm
小 大 1S 0.25 mm 2.2 mm
消費電力 1S-S 0.10 mm 0.7 mm
12 kVA Max.(40 A:推奨) 1/2 S 0.12 mm 0.9 mm
※内圧防爆仕様での対応も可能です。
※上表の最大投入可能粒径は、指先または爪にて潰すことができる程度の
手動 プロペラ攪拌 ホモジナイザー ダマトリ 凝集体または多結晶体に限ります。
■粘度変化
●圧力-流量線図 ダマトリを通すことによる粘度変化
180 10000
(水処理の場合) 試験流体:水道水 ■処理前 ■処理後
160 2S 8000 試料名:CMC
140 粘
120 度( 分子構造は変化しない
6000
100 1S ・
80 ) 4000
60 1S-S
40 2000
20 1/2S
0 0
NVRーP020-0600 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 1.00% 0.50%
ダマトリノズル前圧力[MPa] 濃度
※お客様のご準備頂く試料粘度によって異なります。
11 12
流量[L/min]
mPa s
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Nanovater_P13-14_1510
オプション及び材質変更可能部品 ナノヴェイタ™システムのオプションは下記のようになります。お客様のご要望やご要求を実現するため、
様々な周辺機器をご用意しております。
外 材質変更可能部品
付
け ●バックプレッシャーノズル ■大容量リザーバ ■IN 弁座
オ ●熱交換器ユニット 処理が多い場合はSUS316製のロート 硬い粒子を処理する場合は、超硬(弁座
プ (500 ml、1000 ml、2000 ml)を製 部のみ)IN弁座を使用する事により、耐
シ ●加熱システム 作可能です。 久性を上げる事が可能です。
ョ ※標準:ガラスロート〈100 ml〉が付属。 ※標準:SUS316製IN弁座が付属。
ン
■ボール ■ヘッド
窒化珪素ボールを使用する事で、コンタ 材質をSUS630にする事で強度
●大容量リザーバ ミのコントロールが可能です。 アップが可能です。又接液部を特
※標準:アルミセラミック製ボールが付属。 殊電解研磨にする事によりコンタ
ミや残渣によるクロスコンタミレ
ス、洗浄性を向上できます。
※標準:SUS316製ヘッドが付属。
■プランジャガイド ■プランジャ
ジルコニア、窒化珪素を使う事でコンタ ジルコニア、窒化珪素やボアフリー材質
ミや耐腐食性があげられます。 を使用する事により、コンタミの量や種
※標準:C1720(ベリリウム銅)プラン 類をコントロールする事が可能です。
●IN弁座 ジャガイドが付属。 ※標準:アルミナセラミックス製プラン
ジャが付属。
本体オプション
●プランジャガイド ●ボール ■プランジャシール オ
プ
プランジャシールは、処理する材料や、使 オプション シ
用する溶媒によって、耐久性が変わりま ョ
す。 ン
■バックプレッシャーノズル
●プランジャシール
■加熱システム
特にエマルジョンの製造時、ノズル処理後にバックプレッ
シャーノズルを接続する事でより小さなエマルジョンを製造す
る事が可能となります。
■熱交換器ユニット
●プランジャ
●ヘッド
オートクレープ処理ではどうしてもバッチ処理になってし
まいますが、弊社加熱システムは実液〈水〉処理温度が
180℃まで可能です。
高せん断力のかかる装置は処理後の温度上昇があります。
弊社の熱交換器ユニットは二重管構造になっており、効率よく熱交
換が可能な為小型でありながら高効率な熱処理が可能です。
13 14
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Nanovater_P15-16_1910
実験・レンタルについて
実験について レンタルについて
項 目 基本お客様立会による 卓上ラボ機から量産機までレンタルをさせて頂きます。弊社担当による操作説明もご要望により賜っております。(有償となりますのでご了承下さい)
テスト開始及び終了時間 レンタル期間は1週間単位となりますが、短期、長期でのレンタルをご要望の場合は、担当までご相談下さい。
10:00~16:30
・事前打合せ(別紙実験前資料及び実験可否伺い、実験依頼書)に基づき実施
テスト条件 ・お客様ご指示に基づき実施 L-ES
テスト試料 ・1日で処理可能な量、又は1日で処理可能検体数にて実施 処理圧力 L-AS
※詳細はテスト内容ににて大きく変わる為、別途内容お打合せの上決定します。 200 MPa Max. 処理圧力
準備品 ・縣濁液、洗浄液、分散剤、サンプル瓶、廃液処理容器はお客様にてご負担(ご支給) 処理量 200 MPa Max.
※テスト残品、廃液は全て返却させて頂きますのでお客様にて処理下さい。 最小処理量 6mL
連続処理量 処理量
6 L/h(r MAX 11 L/hr) at 200 MPa(D10) 最小処理量 6mL
三重ナノテク生産技術センター(ナノテク事業本部) 卓 11 L/h(r MAX 21 L/hr) at 100 MPa(D14) 連続処理量
上 *処理量はノズルサイズにより変わります。 200 MPa:5 L/h(r MAX)
試 100 MPa:8 L/h(r MAX)
〒511-0102 電源
三重県桑名市多度町香取284-5 験
機 3 φAC200 V エアー源
TEL:0594-49-2255╱FAX:0594-49-2277 容量 0.6 MPa 640 NL/分以上
1.5 kVA
環 境:実験室:2室(共有測定室 1室) 少量実験 L-ES007 L-AS160 質量
質量
試験室:3室(共有調合室 1室) 量産実験 50 kg
38 kg
設 備:ラボ機:C-ES, L-AS, LEDダマトリシステム
量産機:P-150-0100、B-ED
測定器:レーザー顕微鏡、光学顕微鏡、粒度分布計、 オ ・500 ml SUSリザーバ ・超硬逆止弁(医薬他のコンタミ極少仕様に)
粘度計、光電比色計 プ
シ ・ポアフリープランジャ(医薬他のコンタミ極少仕様に) ・熱交換器
ョ
ン ・ジルコニアガイド(医薬他のコンタミ極少仕様に) ・バックプレッシャーノズル
装置設備
ダマトリシステム(2L用)
C-ES 圧送ポンプ
卓 DTN エア式ダイヤフラムポンプ
上 処理圧力
試 200 MPa Max. (サニタリータイプ)
験 吐出量 9 L/分(540 L/hr)
処理量
機
& 最小処理量 6mL ユーティリティ
ダ 連続処理量
マ 6 L/h(r MAX 9 L/hr) at 200 MPa(D10) エア圧 0.3~0.7 MPa(max200 NL)
ト 11 L/h(r MAX 17 L/hr) at 100 MPa(D14) エア接続 ハイカプラ20型
L-AS200 L-ED015& リ *処理量はノズルサイズにより変わります。
C-ES008 ダマトリ 実
マイクロリアクタ 電源 1/2"クラス、接続口径:10A 験
C-ES007 3 φAC200 V ・
測定設備他 容量 ホッパ仕様 レ
ン
1.5 kVA 60°、容量:2 L(OP:5 L、10 L) タ
ル
質量 接液部使用材料 に
●粒度分布測定器 41 kg DPU-AT008 SUS316 L、PTFE つ
レーザー回折散乱式 ●比色計 い
(ベックマン・コールター社製) 光電比色計(東京光電社製) て
型 式 LS 13 320 XR 型 式 ANA-18A+
測定レンジ 0.01~3,500μm 干渉フィルタ 波長720 nm
試料導入部 循環モジュールタイプ(約125ml) 試料導入部 10 mm角ガラスセル B-ED
媒体種類 水または一般的な有機溶媒 単位表示 %TまたはAbs P-150-0100 処理圧力
200 MPa Max.
処理圧力
●レーザー顕微鏡 ●その他の機器 150 MPa Max. 処理量
3D形状測定顕微鏡(キーエンス社製) 名 称 性 能 等 数量 最小処理量200 mL
型 式 VK-X1100 ●粘度計 量 処理量 連続処理量
コーンプレート型粘度計(E型)(ブルックフィールド社製) 秤 0.01~6 g、0.1~12000 g 2台
倍 率 60 L/h(r MAX 84 L/hr) at 200 MPa(D20)
~28,800倍 産 100 L/h r. Max.
型 式 LVDV-Ⅰ+(温度制御付き) pHメーター 簡易型(半導体方式) 1台 機 120 L/h(r MAX 165 L/hr) at 100 MPa(D28)
測定分解能 0.5nm
測定範囲 0.3~30,720(mPa’s(cP)) 電源
ホモジナイザー 卓上型(50~5000 ml) 1台 電源
AC200V(三相)
●光学顕微鏡 必要試料量 0.5~1.0 ml 強制熱風式乾燥機 40~270 ℃ 450×400×400 mm 1台 AC200 V(三相)
デジタルマイクロスコープ(キーエンス社製) 容量
ロータリーエバボレータ 100~2000 ml 1台 容量
型 式 VH-8000 デジタル型粘度計(B型)(ブルックフィールド社製) 7 kVA 19 kVA
ズームレンズ VH-Z25 VH-Z45 型 式 HVDV-Ⅰ+ 超音波洗浄機 240 W 506×303×150 mm 1台
質量 質量
倍 率 25~175 450~3000 測定範囲 200~26,000,000(mPa’s(cP)) 攪拌機 20~1200 rpm 2台 P-150-0100 400 kg B-ED060 500 kg
照明方式 落射 落射・透過 必要試料量 50~500 ml スターラー 50~500 ml程度 1台
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導入支援 実験室・営業窓口紹介
ナノヴェイタ™導入をご検討のお客様に対する支援の流れは次のようになります。様々なご要望に応じて、開発部門・製造部門で実験・検証を行った 実験室は三重県に設けております。お客様のご要望内容によってラボ機、量産機での実験を実施させていただきます。
上での導入が可能です。導入をご検討中のお客様は、お気軽にご相談下さい。
例えば… 三重ナノテク生産技術センター
貴社からの ●1市場ニーズ(生産量)がつかめない、しかし生産量が見込めた段階でインライン化したい。
ご要望 〒511-0102
● 至大垣
2サンプル出荷するには実験機では生産量が少ない、しかしその為に生産機を入れられない。 養 258 三重県桑名市多度町香取284-5
老
(問題点) ●3イニシャルコストは見積もれるが、ランニングコストが読めない。 鉄
道 柚井 木曽三川公園 TEL:0594-49-2255
FAX:0594-49-2277
●4 実験機から安定した量産化が得られるか不安である。 三重ナノテク
生産技術センター 環 境:実験室 2室(共有測定室 1室) 少量実験
試験室:3室(共有調合室 1室) 量産試験
ご要望に応じて実験いたします。 実験せずに 多 ピアゴ 揖 長木
度 多度店 斐 良曽
川 川川 設 備:実験機 L-ES、L-AS200、L-ED
導入することも 駅 混合・攪拌ユニットダマトリ君(DTU)
可能です。 スギ薬局 香取南 量産機:P-150-D100、B-ED
測定器:●粒度分布計 LS-13320(ベックマン・コールター社製レーザー回折散乱式 2000~0.04 μm)
●光学式顕微鏡(キーエンス社製 マイクロスコープ 25~3000倍)
三重ナノテク生産技術センター 桑名東IC ●ブルーレーザ顕微鏡(キーエンス社製 分解能0.14 μm)
●B型粘度計(Brook Field社製100~30000 mPa・s)
開発部門 至桑名 ●E型粘度計(Brook Field社製100~30000 mPa・s)
●光電比色計(東京光社製 波長720 nm)
●試験・評価用サンプル製造
●研究開発実験のバックアップ 実験室
●製品共同開発 ●実験機による実験
●粒度分布測定
●測定受託
営業窓口
製造部門
サンプル品生産 少量受託生産 少量受託生産
INプラント化までの INプラント化までの 貴社保有設備トラブル
つなぎ つなぎ 時のバックアップ
サテライトサービス
●サテライト工場設置 大阪支店 東京支店
●量産機レンタル対応 〒532-0011 〒103-0023
大阪市淀川区西中島7-4-21 東京都中央区日本橋本町4丁目7-10
生産コストの検証 ホーククレセント第2ビル8F エイチ・アール・ネット日本橋ビル9階
●ナノヴェイタ™設備導入時のコスト提案データ収集 アライアンスパートナー TEL:06-6304-5341 TEL:03-6214-3900
FAX:06-6304-5340 FAX:03-6214-3901
●ナノヴェイタ™製法ノーハウの構築 コラボレーションパートナー 実導
・前処理、後処理 ・洗浄、メンテ 験入
●得意技術(ノーハウ)の共有 室支
●資源の共有 ・営援
業
名古屋本社 窓
口
〒456-0004 紹
愛知県名古屋市熱田区桜田町3-13 介
TEL:052-882-2511
FAX:052-882-2302
三重ナノテク生産技術センター
生産設備購入(実験機・量産機) 〒511-0102
三重県桑名市多度町香取284-5
TEL:0594-49-2255
FAX:0594-49-2277
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