1/20ページ
ダウンロード(9.4Mb)
各種デバイスウェハにスラリー組成をアジャスト!
・砥粒、エッチャント、インヒビター、酸化剤、保存安定化剤、接触角調整剤、増粘剤、潤滑剤、段差解消性向上剤、pH緩衝剤 etc.
・樹脂接合とレイヤートラストファー
・超低圧接合プロセスへの取り組み
◆詳細はカタログをダウンロードしてご覧下さい。
このカタログについて
ドキュメント名 | CMP 受託加工用オーダーメイドスラリー |
---|---|
ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 9.4Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 株式会社D-process (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
このカタログの内容
Page1
一》一
一
霞1札11■■辺
=一彦鍔雲
 ̄
 ̄
 ̄ WlfmCnM頚rO虹'1虹AZING露OUNDRYLAND1
iHI
N
ll乱
V'1
=|,Iを 熟
|'|L,〈 灘露#~、、F1
「 パー薑堯
ノ
''1蝋
l薑 貢
ラー富雷雲
雪唇 ご陸
=iiiii
 ̄ iiillli ■宅
d
,1--:罎糊T ̄
91
理嚢二篝 ■I■ ■■■■■■■■ ■句■二
ご堕sslOOj
P
Page2
’
汀10■
 ̄
i二一
 ̄ ̄
==
戸建量蓋息c--
I IAFOUNDRYLAND1
ざぁはご鐘豊わよっ
P百
 ̄⑮ ̄△
--句=
 ̄
 ̄
 ̄
!
Page3
『
■』
塞一
|ロ
蕊w型》眠い。、,}||』一
一ニーーーニ
L= iii雲篝篝薑
|震 ル
V和YLDYlommlL(BMND瓦NGj CMPORGRINDING:
葱にしてあそぶ!?
薑 議轤
 ̄■
 ̄■
亀
慰
I
/ HU
Page4
=
-.7運i ̄TUTF-E-APIN:層OUNDi'鼠:yfXAND
 ̄=.-_
Ⅲ
丘
一
1
.JP
Page5
こ=
ざ」-,遇1-通iJiIu藤ごnjIPPRTMJ,--
驍聡V編
蕊
P1理gBump
「
z屋
Ⅱと
、【息lmmg ETL塒ifwI 、
r
1-厚膜によ1)加l塒Mllの増加及び凹凹則通の1悪化
2.長時間に及ぶ加11-より面内均毯⑬悪他
凹
型蓑そな[2断。.、リア・耀繊騨識を用トユ士鶴嘩-15,1
J--「
三一
一
Page6
Ⅱ
lmfllP
li1''
壜
1リh
灘
■
Ⅱ ハ
T篭‘
ソ己$
房
鑿
品~ガーーー
一〆司ir
ョ鑑 甦。
冨受差解消はするか、 謹面粗さ↓よ醗函ij-ウガ L結,騒唯丁tiiHこよる加工速度の蓋
表面の粗きが大恵ぃ 段憲癖猫;--壱嫌い 2.結晶粒界二上纏段差鞠発生
「
一戸一 ,iF
記一一
一
一… ■==  ̄
 ̄
旨便
》|》
←典
Ⅱ『l〆’一
》
■『
11
Page7
--
--,J賎L彊囲MIO艀C:MP三。(_Z
|解
H1
qLI1;F
…l
FDV
琵率1F
薑篝篝I [醜皿】副thiT
弧Gla轡PadOrl錘J,段差f霧消CMP I
動
=
 ̄
-霧 己■
菱迩証さ饒禰CMP
_◆蓮 I
■■
iFw41…いい ■
■
スラリーの化学的作川竺鰯Illiih作jllを蔚蕊ず婚
--=
2段階CMP仁より、 職界段差、発生を抑制I ■
用
,:÷v圏涼」」Ei化埠騨H1
』
一
丹二
一一
)
)
一『』
Page8
房Tll
巴
旦廻彊TAP]iPRiC。(rrnF垣 -.L ■ ITJDjFRY
各種デバイスウェハに
スラリー組戚r壷アジャスト
砥粒
エッチャント
インヒピター
露化剤
'曝逵二.定化剤
蓬」雪洞整剤
b
鱈粘Tm
祷滑剤
段差解消'性向上剤
pH緩衝剤etc_
Page9
乢鯏X二Aし,瓦字d-燭麗R艀ORCMPiPR四cmE艶
承り. ←腱『品ulL・貝一IF室壼徹底 凶 -回Lで且威をニューーー
]で剛上Ⅲ た、麓菅II1lの4,二鐘腱皀遺で 1 簿すり’ご一命強ヌー鑓i11舞一
,ォIlliIF
王当字司一 1
》
一足
蕊①|
圭邑
嚇し種」
夢ケ
Pス唖
エ跨り醗
一終繊澪笙
』忽喜響ろ
橇一》密室・幸一-
-蓬ロ旨
蕊 一J
Page10
一一一一
一読
竃雪ミミニー
菫冒毫
11
iE-L壱し望噸AC蕊ROUGHNESsJFLr二両j:i1rLAND
P5
凸
I
’
Page11
= ̄
鳳○NDI]i、'○園MKE1iO1
対応接合一ロセス
:馨壼重重鑓i麺塾霊蝋隣嚇:涛
フデズ埒llZh.“30,W
藤
錦V1#1鏑・狸'1よんだ梼念金座JH1MlfI瑳金
Al唄打/麹(』rCAUjA1I/郷1,回(
jIW難/39げCAWMIP斗叩℃
IilL[1【ソ』灯{ⅨCⅡ】CIj)鵡(1K
ffラュコ11冤卜腰告擢dMf村撞iir鋤I誼麹櫛
鋤=Ij-蕊iyC耐Cnl/25(l□
ずwイーFhaDOに
エ躯等診】磯】u囮
邑IjJ-ン’9'どDOC
 ̄
q尋.
、ボン1-7f=--メゾ’L1L。」1町αⅢ辿噂'9 M耐鐘ノ
」琴一三=Ⅲ。
三二一
一型》繍
蕊一一》
鐡鍵・
蕊一蘂
Page12
---止卜‘坦彊一=…鰹ANDLAYEiRTrAN霊壕霊i7
P
l蕊:1蕊
,….i篝鑿鬘鑿蕊
竺艫 」
浜
匹
珀
蝿雛
F
樹脂  ̄曇,
ロ凸
霞
Ⅱ I
■
、■
 ̄
[‐酒
ヨニ蕗
』鐵薑
』
Page14
一一ご上尾
一一
=
四
L`三ALLi副N`G1副TOエーー』『汽函」L二
l接合プロセス)への謨禰Lみ
ぱ
「
。,(
[
「
[Elj加圧での接合
才
渥備⑩接合
誓量. 二
操
P
fl-‐-----国-=-一-二--畳= ̄
弗
,IIiY圧にまり駿鎚繕謹砿壊
接合 P
起河
鹸化僻が阻害し、
接合H1来ない
露化層を『iII腰H  ̄
 ̄~ ̄
》
一エ
》ニ
エポ
Page15
■力一
Z卿TRODlB垣1rIClNO]FiGRXND1LKqj1i’ごOmWRk.,奥’
i対・応研削プロセテ
=
F百弓
轌陣一In-Pr“essGan直eによる基板厚制御
iih蕊
四
「-戸■ロロ
ウエハ
チャック
■
--
-=
=
==ご
房事二=
凪
ご藍各種材聯Iへの錘f手ゲラざシ蓋iZ鐘也エニル⑫邊蝿
:璽邑,
:::i魁~仇劉可竺'欄『・鼻A典」AAV払盈へムハ
通常プロセス
pBLJ日嗣戸芒■ぞ、函z,ひ
■白樺
[
ヨ
、 ロ 高蓄手プロセス
高霧手プロセスにj:り研削痕を少なく1-、CMPの除扉
農i、限に抑える二とで、耐品位と厚み分布の低滅を両立
妻髭、ガ詠風、SiCGaN等の難釧紘料I-biWii
Page16
■-
割
「
PP
股G
雨
好
半
墓面IMUを除去することで貫渥化老実現II liIjFl- CMP~」妾合~薄片化毒で‐摺で対応:
ザ
⑪■
F
勺
ー
正一 ̄-癌= My・毛f-=u声 亘a ̄塚 ̄ヱ ̄
ー
ユ1 角ヨ ご§lP
I
一》知】一面
一念
三二
』
雲
」
r
Ⅲ
Page17
 ̄
訂
■
NiEiATIC'N」+雇区ilj'mw- U ■■
アプリケーション・材料代表剛
座
一三三豊一一
l:TSV
231圏覇勘
3:各種MEMS
4:パヮーデパィス(SiSiQGaN。SJ巳lc・ノ
5;ナノインプリント
弾一一一
=
壽=〒量一一
メタル材料:Au血Ag,Rh竺Rn揮哩。CoCoPdmALWjTaiTaB【
1丁i薊riNgNi。Ni-P,Ni-Pe,P。、Cr,ZIIO,etc.
絶縁材料gSiO翼mTEOS,各種POlymer,A1趣O3etc.
基板材.料晉Si,SiCGaN,Al203副Al翅O認複合材料,Polymer,Class_
LiTa'03,DLC,GaP,GaAs,InPGtc.
琴一一一
悼片J
毎山設
へ‐
}
Page18
コ
モー
ー
lII
P
族」 ‐WNALYZE
|測定。蒟祈1
蝿轤曇篝鬘鬘薑篝 -鑿鑿三一罵菫三
W釧腿r思睡C M【M1,巴I R仇【1釦rk借
1 黙!’ ’ 超音波顕微鏡 ソノスキャン ~の12抄 、9500
,1 |認イド繼出鵬露…
11
= ̄ 光学式膜厚引 ナノメトリクス ~⑩12詞 NANOSPEC息IDO 測定スポヅト径:2mm
1
U『
満 標 金]属膜厚計Ⅱ 三菱化学 ~のlど” MCP-T610 暦
I
恩
段差計 小坂研究所 ~UbiZP> ET4000L 振萢分解能;01mm
蘆髻皇豊111i二1jjjiii1篝 日立ハイテク ̄ AFM ~砂8,, AlJM5400L
ーサイエンス 垂直分解能:00511m
遇
[ パーティクル
トプコン の6” WM-l500
一カウカンウンタター
iZL、
微分干渉顕微鏡 オリンパス ~⑪8,, BH2-UMA
□ 非接融(表面 ZYGD ~、68,。 NEWVIEW7300
形Hii息測宝器 垂直分解能:OJialmp
F
忠
■」
I
1】
! 曇。
--==~.,--氏-F二m 臘蕊曇
E1 鏑 四藝鑿 色■ 正一 =ニー員
_一三---
■
llll--冒= 閻
超音溌5-
凸凸
鶴詫曜に
》〉
印}叩
で
Page19
TCTALPRO起彊一一'--Jr蝿lj1uTr
トータルブロセスファンダリー
一『
二
三一
』一F
Page20
一
望一
=二
震薑薑臺篝雲ii=。
-- ̄--
瀞 霞OUNDR」iLA茎寺,
〆■も
春霞、1
識i1llI
:□)■
蔚鴛夢竺箕寝:D認rい‐蕊’ z、表欝.筏 TI震撞蔓、肥鑓逵
一議,if:200翻釘6責本金:薑7CLOO圏-,
雲業内容:gIvl空及びウエハ謹接接合試搾。葦塞、それに俳 ヨセくりZDI
罵璽鑑(iIjics遇 a要z〒璽墾一○0馴l蓋iii県犬和市大麺南2-9-塁fZT<1,3蕊F塗罪21 --t載ゾノ1Fi7Ww-d-p.。“率.脇/