粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』
粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です
また、ソフト販売だけではなく、受託解析も実施しております
◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動 など
◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など
※詳しくはお気軽お問い合わせください
HPhttp://www.wavefront.co.jp
MAIL:information@wavefront.co.jp
このカタログについて
| ドキュメント名 | 【Patricle-PLUS解析事例】CCPを用いた基板表面クリーニング解析事例 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 事例紹介 |
| ファイルサイズ | 1019.3Kb |
| 取り扱い企業 | 株式会社ウェーブフロント (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
このカタログの内容
Page1
Particle-PLUS計算事例
CCPを用いた基板表面クリーニング
Page2
モデル概要 CCPを用いた基板表面クリーニング
Arプラズマによる表面ダスト金属（Ru)除去 軸対称モデル
シミュレーション領域
誘電体
（誘電率：石英相当）
Arガス
4 Pa
基板
ターゲット：不要なRu膜 40 mm
～ 交流 電圧： 500 V
振幅： 13.56 MHz 誘電体
コンデンサ： 100 pF （誘電率：石英相当）
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 2
20 mm
Page3
電位 CCPを用いた基板表面クリーニング
電位（周期平均） 基板側電位の時間変化
（基盤側）
[V]
時間 [s]
✓ 自己バイアス効果により、基盤側の電位が負に偏って
いることが分かる。（※ 印加電圧は交流500 V）
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 3
電位 [V]
Page4
粒子数密度 CCPを用いた基板表面クリーニング
電子数密度（周期平均） Arイオン数密度（周期平均）
[/m3] [/m3]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 4
Page5
エネルギー分布 CCPを用いた基板表面クリーニング
電子エネルギー Arイオンエネルギー
（1個当たり、周期平均） （1個当たり、周期平均）
[eV] [eV]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 5
Page6
電子流束 CCPを用いた基板表面クリーニング
電子数流束（周期平均） 電子エネルギー流束（周期平均）
※ 値の押上表示 ※ 値の押上表示
（基盤側） （基盤側）
[/ m2 ⋅ s ] [W/m2]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 6
Page7
Arイオン流束 CCPを用いた基板表面クリーニング
Arイオン数流束（周期平均） Arイオンエネルギー流束（周期平均）
※ 値の押上表示 ※ 値の押上表示
（基盤側） （基盤側）
[/ m2 ⋅ s ] [W/m2]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 7
Page8
基板表面のクリーニング CCPを用いた基板表面クリーニング
Ruエロージョン率 ※ 値の押上表示
（基盤側）
✓ ダストによる再汚染まで考慮
した正味のクリーニング量を
評価できます。
[m/s]
※ レジスト（基盤の部分保護材）は考慮していません。
基板上の距離 [m]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 8
エロージョン率 [m/s]
Page9
お問い合わせ先 CCPを用いた基板表面クリーニング
Particle-PLUS 開発元 :
株式会社ウェーブフロント
神奈川県横浜市西区みなとみらい 2-3-3 クイーンズタワーB 12階
TEL : 045-682-7070 (代)
E-mail: sales@wavefront.co.jp
Web : http://www.wavefront.co.jp/
弊社取り扱いの製品に関するお問い合わせや、
受託業務に関するご相談などは、上記の連絡先へ
お気軽にお問い合わせください。
Copyright © 2019 Wave Fr9ont Co.,Ltd All Rights Reserved.