1/7ページ
ダウンロード(862Kb)
粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』
粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。
・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です
また、ソフト販売だけではなく、受託解析も実施しております
◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動 など
◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など
※詳しくはお気軽お問い合わせください
HPhttp://www.wavefront.co.jp
MAIL:information@wavefront.co.jp
このカタログについて
ドキュメント名 | 【Patricle-PLUS解析事例】誘電体標的のRF マグネトロンスパッタリング解析事例 |
---|---|
ドキュメント種別 | 事例紹介 |
ファイルサイズ | 862Kb |
取り扱い企業 | 株式会社ウェーブフロント (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ

このカタログの内容
Page1
Particle-PLUS計算事例
誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
Page2
モデル概要 誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
軸対称
基板 ガス流入 軸対称モデル
ガス流入 Ar 10 sccm
ガス流出 1.0 Pa
永久磁石 フェライト
磁気ヨーク Fe
標的 材質 Si
プラズマ 比誘電率 11.9
電圧 裏側に印加
波形 サイン波
振幅 1 kV (peak-to-peak)
誘電体標的 周波数 13.56 MHz
2次電子放出 係数 0.1
~
N S ガス流出 標的-基板間距離 45 mm
S N
磁気ヨーク 永久磁石
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 2
Page3
中性ガス圧力と静磁場 誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
流入:Ar 10 sccm
Ar圧力 磁束密度
流出:1.0 Pa
[T]
[Pa]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 3
Page4
電位と電子数密度 誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
電位 (周期平均) 電子数密度 (周期平均)
~
[V] [/m3]
自己バイアス電位
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 4
Page5
イオンエネルギー 誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
Ar+イオンエネルギー
Ar+イオン入射エネルギーフラックス
(1個当たり、周期平均)
(周期平均)
[W/m2]
[eV]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 5
Page6
スパッタと成膜 誘電体標的のRFマグネトロンスパッタリング
基板表面のデポジションレート
数密度(色表示)と流速(矢印表示)
[m]
標的表面のエロージョンレート
[/m3]
[m]
Copyright © 2020 Wave Front Co., Ltd. All Rights Reserved. 6
[m/s] [m/s]
Page7
お問い合わせ先
Particle-PLUS 開発元 :
株式会社ウェーブフロント
神奈川県横浜市西区みなとみらい 2-3-3 クイーンズタワーB 12階
TEL : 045-682-7070 (代)
E-mail: sales@wavefront.co.jp
Web : http://www.wavefront.co.jp/
弊社取り扱いの製品に関するお問い合わせや、
受託業務に関するご相談などは、上記の連絡先へ
お気軽にお問い合わせください。
Copyright © 2019 Wave Fr7ont Co.,Ltd All Rights Reserved.