二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタ装置
金属を成膜させたい対象物に
ゴミなどの不純物が混入したら嫌ですよね!？
本装置のスパッタ室は常に真空のため安定した成膜が可能です。
また、スパッタには不活性ガス(Ar)を使用するので
金属ターゲットと気体分子が反応せず純度の高い膜を成膜できます。
従来装置のカソードから3 インチUP したので生産量の重視にはうってつけです。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 【生産性向上・省力化】ロードロック式 通過型スパッタ装置 SPH-2410-Ⅱ |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 788.8Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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