低温成膜で樹脂基板にも対応 ガスバリア性に優れた薄膜が得られます
ALDによって生み出される膜、
それは広く普及している成膜技術によって、
生み出される膜とは性質が異なる。
①基板内面内分布に優れている
②高性能なバリア特性(水蒸気透過率0.05g/m2・day)を持つ
③複雑な形状の物にまできれいに密着
このような特徴を持つ膜が出てくる。
※そしてなんとこの膜、基板温度100℃以下で実現できるんだとか。
緻密、いや、緻密どころじゃない。
◆詳細はカタログをダウンロードしてご覧下さい。
このカタログについて
| ドキュメント名 | 【緻密どころじゃない膜に、基板が覆われる】 原子層堆積装置 ALD-Series |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 781.4Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社昭和真空 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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