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このカタログについて
ドキュメント名 | 極微⼩リーク計測の_ソリューション技術資料 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 1.8Mb |
取り扱い企業 | 東京電子株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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極微⼩リーク計測の
ソリューション技術資料
Happy,Unique, Onlyone
東京電⼦株式会社
Page2
破壊分析型超⾼感度ガス分析装置
WATMASS‐MPH DA System
Destruction Analysis
Happy,Unique, Onlyone
東京電⼦株式会社
Page3
破壊型ガス分析とは
DA (Destruction Analysis)
封⽌デバイスの極微⼩リークチェック、
ウエハからの脱ガス、気泡分析など
マニピュレータにより試料を破壊し ウェハ
極微量のガス分析を⾏う⼿法である。
マニピュレーター
パッケージの破壊
Q-MASS
Gas 極微⼩リークの計測
デバイスパッケージ
封⽌デバイスの破壊リーク計測
(イメージ)
Page4
⾞載デバイスの破壊型ガス分析
極微⼩リーク検査
⾃動運転の広がりから⾞載デバイスの信頼性は
益々求められています。
信頼性試験のひとつとして、デバイスの破壊試験
で 10-15Pa・m3/s(He)という極微⼩リークの
検出を求められております。
Gas
封⽌デバイスの破壊リーク計測
(イメージ)
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破壊分析型超⾼感度ガス分析装置
WATMASS-MPH DA System
完全封⽌ガス法による分析システム
完全封⽌ガス分析法は、弊社の超低ガス放出 WATMASS
の技術と超低ガス放出真空構造材 (02%BeCu 合⾦)
の技術を組み合わせた新しい発想のガス分析法です。
WATMASS の持つポンプ作⽤を巧みに利⽤することに
より、新しいガス分析装置を提供致します。
スループット法では
10-8~10-12Pa・m3/S、He(±25%)を計測可能
蓄積法では
10-8~10-15Pa・m3/S以下、He(±25%)を計測可能
破壊分析型超⾼感度ガス分析装置
主な仕様 WATMASS-MPH DA System
0.2% BeCuによる超低ガス放出
He による機密および、破壊分析
到達真空度︓10-8Pa 以下
超微⼩リーク校正ユニット(産総研)
による検証済(He)
100, 200, 300amu FC/EM センサー
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WATMASS-MPH DA System
特徴
蓄積法による分析
【特 ⻑】
・10-7Pa台の保持
・封⽌デバイス内の圧⼒、残留成分
・組成⽐(分圧)完全封⽌ガス法による分析システム
破壊分析型超⾼感度ガス分析装置
WATMASS-MPH DA System
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WATMASS-MPH DA System
装置構成
サンプルを分析室に設置し真空排気後 L1を閉じた状態
で分析管内を10-7Pa 台に保持します。サンプルからの
放出ガスおよび、直線導⼊器による破壊後のガス分析
から、真空度・残留成分・各分圧を測定します。
制御部 分析部
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WATMASS-MPH DA System
装置構成
質量分析計
WATMASS-MPH
直線導⼊器
破壊/計測室
分析部
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低ガス放出による超⾼真空を保持する技術
0.2%BeCu
BeCuはSUSと⽐較して熱伝導率は13倍、熱輻射率は1/7以下
の特性を持ちます。
0.2%BeCu製品
⾼熱伝導率・低熱輻射率が
低ガス放出・低温化を実現
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WATMASS-MPH DA System
極微少リーク計測の実現
0.2%BeCuを真空構造材として使⽤し、オールメタル
で構成することにより分析室・破壊室の真空を10-7Pa
台の保持。
これにより極微⼩リーク10-15Pa・m3/S(He)以下の
計測を実現。
SUSから熱特性の優れたBeCuに
10-15 Pa m3/s (He) 以下の
極微⼩リーク計測を実現
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WATMASS-MPH DA System
計測データ
N2封⽌光デバイス
He 検査
測定開始
N2の漏れ N
MEMS: 破壊による残留成分の分析
He
Heのリーク量1.7×10-15Pa・m3/s を検出
サンプルからの放出ガス
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超⾼感度ガス分析装置を校正する
極微⼩リーク校正ユニット
産総研の特許「参照リーク発⽣装置および、それを⽤いた超微⼩リーク試験装置」
(特許第6091017号)のライセンスを受け、本極微⼩リーク校正ユニットと弊社製超
⾼感度ガス分析装置を接続させ 10-15Pa・m3/s 以下の校正が可能となりました。
産総研 超微⼩リーク校正ユニット
10-10
10-11 He
10-12
10-13 世界最⼩
10-14 10-15Pa・m3/s(He)
10-15 のリーク量が校正可能
10-16
10-17
10-14 10-13 10-12 10-11 10-10 10-9 10-8 10-7
*1) Reference leak rate, Q (Pa m3/s)
RHe *2)
[10-15Pa・m3/sオーダー [27⽇間における7回の校正曲線]
のリーク量測定・校正の例]
10-14Pa・m3/sオーダーまでの校正結果の
検査室に校正⽤ヘリウムリーク量を導⼊して 例。その後、弊社装置を⽤いた、産総研と
、質量分析計の検量線を作成する。次に試験 の共同実験により10-15Pa・m3/sオーダー
体試験体からのヘリウムリーク量を測定し、 までの測定・校正が可能であることが確認
検量線を⽤いて定量化する された*3)
*1), 2) Hajime Yoshida and Kenta Arai, “Calibration of ultra-fine helium leak rates
for leak testing of microelectromechanical systems“, Journal of Vacuum
Science & Technology A 37, 031602 (2019).
ΔdI /dt (A/s)
4
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