1/3ページ
ダウンロード(1.6Mb)
テルモセラ・ジャパン 超高温実験炉をご紹介します。
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉シリーズを紹介。
□■掲載ラインナップ■□
◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃
◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
◉ TE-Thermic Edge furnace セミオート式 超高温卓上型実験炉 Max2000℃
◉ MiniLab-CF セミオート式 超高温実験炉 Max2900℃
◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃
◉ TVF-110 石英反応管縦型炉 Max1200℃
◉ Nanofurnace 石英反応管 ホットウオール熱CVD装置
◉ ANNEAL ウエハーアニール装置 Max1000℃
◎ ご要望に応じ特注装置も承ります。当社までご用命下さい。
このカタログについて
ドキュメント名 | Products Guide_実験炉セレクションガイド |
---|---|
ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 1.6Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | テルモセラ・ジャパン株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
このカタログの内容
Page1
研究開発用実験炉 製品ガイド
High-temperature vacuum furance
【カーボン炉、タングステン炉】(内熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Mini-BENCH
Max 2000C
CCC heater element
Vacuum or Inert Gas
A) Chamber
B ) Temperature Controller/PSU
C) Vacuum equips (Pump, valves & Gauge)
*A + B is minimum configuration. C is also acceptable if requested.
Mini-BENCH-prism
MiniLab-CF, -WCF
Max 2000C
CCC heater element
Vacuum or Inert Gas
- 7inch Touch panel HMI
- PLC auto sequence: Pump/purge cycle & Vent
- Pump/gauge, DC PSU are all stored in cabinet
- Plug and play
- Lid open/close: momentary switch
- Safety option:
Water flow meter
Chamber thermostat
Pop off valve
EMO
Max 2900C (CF)
Compact footprint: 603 (W) x 603 (D) x 1171 (H) mm Max 2000C (WCF)
【SiC, TiCコーティングヒーター マルチ雰囲気炉】(内熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Thermic Edge furnace_TE MiniLab-CF (Max 2000C), -WCF (Max 2000C)
Max 2000C
Heater option:
*SiC3 coating
*TiC3 coating
- 7” Touch panel
- PLC auto sequence
- Plug and play
- Safety option:
Water flow
Chamber thermostat
Pop off valve Max 2000C
EMO *SiC3 coating or TiC3 coating heater option
- max 8inch wafer annealing
- 2900C furnace: C thermocouple & Pyrometer
- PLC auto sequence, Plug and play
Compact Bech-top size:
889 (W) x 503 (D) x 629 (H) mm *exclude pump 1240 (W) x 535 (D) x 1667 (H) mm *exclude pump
Thermocera Japan Ltd. Tel: 03-6214-3033 Fax: 03-6214-3035 e-mail: sales@thermocera.com web site: www.thermocera.com
セミオート PLC自動シーケンス セミオート PLC 自動シーケンス 手動制御
Page2
研究開発用実験炉 製品ガイド
High-temperature vacuum furance
【石英反応管縦型炉】(外熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
TVF-110, Vertical furnace
Max 1200C
Quartz reactor, clean wafer annealing
Vacuum or Processing gases
Heater: Kanthal element
Wafer size: 1~4inchr
K type thermocouple
Quartz wafer susceptor
Manual load, manual z-shift lift up
【石英反応管(横型)】ホットウオール式 熱 CVD(外熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Nanofurnace, Model. BWS-NANO
for Carbon Nanotube, Graphene synthesis, ZnO nanowires.
Max 1200C
Hot wall type T-CVD
3 x MFC: CH4, Ar, H2
1 x MFC for bubbler
APC pressure control with precise capaciatance manometer
Rotary Pump
‘Lab View’ software
Thermocera Japan Ltd. Tel: 03-6214-3033 Fax: 03-6214-3035 e-mail: sales@thermocera.com web site: www.thermocera.com
手動制御(APC 圧力コントロール) 手動制御
Page3
研究開発用実験炉 製品ガイド
High-temperature vacuum furance
【ウエハーアニール装置(カスタムメイド真空チャンバー)】(内熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Custom made chamber with substrate heater
Customer made vacuum chamber, Substrate Heater, vacuum equipments.
Φ4inch_1200C, SiC coated heater Vacuum chamber, front view port
We provide bespoke solutions for annealing system, heating applications
that cannot be fulfilled using standard products.
These systems, heaters can be any shape to suit your application.
【ウエハーアニール装置 セミオート制御 , APC 圧力コントロール】(内熱式)
1inch 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
ANNEAL by Moorfield
Max 1000C
3 types of heating element options;
- Halogen lamp heater (600C)
- CCC heater (1000C)
- SiC coated CCC (1000C)
7inch Touch panel HMI
PLC auto sequence: Pump & Vent cycle
3 x MFC’ s
Precise pressure control
Capacitance manometer, high-resolution pressure control
Wafer size: 4inch and 6inch
K type thermocouple
Turbo Pump with RP (or Dry scroll) backing pump
Thermocera Japan Ltd. Tel: 03-6214-3033 Fax: 03-6214-3035 e-mail: sales@thermocera.com web site: www.thermocera.com
セミオート PLC自動シーケンス(APC 圧力コントロール) 手動制御