R&D用超高温実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」

www.thermocera.com R&D用 超高温実験炉・ヒーター_2022 BHseries 超高真空 薄膜実験用基板加熱ヒーター（*大学・研究機関限定） 研究開発・基礎研究分野に最適な実験炉・超高温ヒーターをご提案いたします。 Mini-BENCH High Temperature Furnace series for R&D MBseries ”Mini-BENCH furnace” 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ High-temperature Carbon/Metal furnace for R&D 大学・研究機関の基礎実験に最適な、コンパクトサイズ超高温実験用カーボン炉（真空 不活性ガス）・メタル炉（還元雰囲気） 最小構成（ヒーター・チャンバー・温度制御）から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。 有効加熱範囲：～Φ4inch BHS-Φ4inch BHS-Φ2inch BHS-Φ1inch ・真空導入端子付、導入端子フランジ接続式、等も製作致します。 ・使用条件、最高温度によっては水冷が必要となります。 Max 1000℃：カンタル素線（真空中, Ar, N2, He ,O2, H2） Max 1800℃：Graphite, C/Cコンポジット素線_（真空中, Ar, N2） Max 1400℃：SiCコーティング素線_（真空中, Ar, N2, O2） Max 1600℃：タングステン素線_（真空中, Ar, N2, He, H2） SiC3 - Silicon Carbide “Cubic structure” high-density coating 【CCC円筒状ヒータ】 標準Φ50（Φ70mmまで製作） “SiC3”立方晶炭化珪素コーティンググラファイト部品 High-density, high-purity, low surface roughness 耐熱性・耐蝕性・耐摩耗性・高密着性 “Cubic-Coating”立方晶炭化珪素コーティング グラファイト部品 膜均一性に優れ（±10um～±5um@80～100um）、更に長寿命！ 短納期で納入致します。 【フラットヒータ】（ウエハー用） 【特徴】 Φ1inch～Φ4inch ・膜均一性：±10μm～最小±5μm（@100μmコーティング） ・密着性に優れる ・ブラインドホールへの均一なコーティングも可能（アスペクト比 5：1） ・高純度：脱ガス量、発塵量や不純物量を低減 ◉省スペース： 328(W) x 220(D) x 250(H)mm（ *Φ2inchの場合 *加熱範囲によりチャンバー外形寸法異なります） 【用途事例】 ◉円筒ヒータ（坩堝用）・面状ヒータ（Φ1”～Φ4”基板用） ・エピタキシャル成長用サセプター ・単結晶引上げ装置用部品 ◉フレキシブルな装置構成：ご予算に応じた装置構成をご提案致します。 ・MOCVD用サセプター, ウエハーホルダー, トレーなど A：チャンバー + コントロールボックス B：チャンバー + コントロールボックス + 真空排気ユニット C：チャンバー + コントロールボックス + 真空排気ユニット + 筐体/インターロックユニット 真空・ガス置換炉（カーボン炉） 主仕様 還元雰囲気炉（メタル炉） 主仕様 最高使用温度 Max2000℃（カーボン炉） 最高使用温度 Max2000℃（メタル炉） ヒーター グラファイト, 又はC/Cコンポジットヒーター ヒーター タングステンヒーター 断熱材 グラファイトフェルト材 断熱材 タングステン、モリブデン多層ヒートシールド 真空チャンバ SUS304水冷ジャケット構造 真空チャンバ SUS304水冷ジャケット構造 使用雰囲気 真空中、又は不活性ガス（Ar） 使用雰囲気 真空中、不活性ガス（Ar）、還元性ガス（H2, He等） 有効加熱範囲 Φ1”～Φ4（” 面状ヒーター） , Φ50 x 100(H)mm（円筒ヒーター） 有効加熱範囲 Φ50 x 100(H)mm（円筒ヒーター） 到達真空度 1x10-2 Pasca（l *但し空炉の状態） 到達真空度 1x10-2 Pasca（l *但し空炉の状態） 真空ポンプ ロータリーポンプ（オプション：ドライポンプ, 高真空ポンプ） 真空ポンプ ロータリーポンプ（オプション：ドライポンプ, 高真空ポンプ） 熱電対 Cタイプ熱電対付属 熱電対 Cタイプ熱電対付属 容量・冷却水 ヒータ容量：3KVA max, 冷却水：2ℓ/min 0.4Mpa 25～30℃ 容量・冷却水 ヒータ容量：*13KVA max, 冷却水：2ℓ/min 0.4Mpa 25～30℃ 〒103-0027 東京都中央区日本橋3-2-14 新槇町ビル別館町第一 2F Tel：03-6214-3033 Fax：03-6214-3035 sales@thermocera.com ◉その他、特注仕様製作致します。当社までご相談下さい。 Copyright© 2022. Thermocera Japan Ltd. All Rights Reserved World Wide.

Semi-auto control High-Temperature furnace series MiniLab High Temperature Wafer Annealing Furnace TEseries 超高温卓上型マルチ雰囲気実験炉 Max２000℃ MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃ Thermic Edge Furnace: High temperature semi-auto furnace up to 2000℃ MiniLab-WCF high-temperature wafer anneal furnace 小サンプル焼成用 セミオート式 卓上型実験炉 有効加熱範囲：～Φ3inch セミオート式 超高温ウエハーアニール炉 有効加熱範囲：Φ6inch, Φ8inch ヒーター素線オプション ヒーター素線オプション 【小型・コンパクトサイズ】 SiC3コーティング（～Φ8inch） SiC3コーティング（～Φ3inch） TEシリーズは、Mini-BENCHシリーズのセミオートモデルです。小型・卓上サイズ TiC3コーティング（～Φ8inch） TiC3コーティング（～Φ3inch） にも関わらず、自動真空引き～自動ベント、インターロック（冷却水・異常加熱・ チャンバー表面温度）など充実した機能を備えています。 【タッチパネルHMI】 電気炉の基本操作（温度調節器操作は除く）は全て前面タッチパネルにて行い ます。PLC自動シーケンス制御、チャンバー蓋開閉（モメンタリースイッチ式）、プ ロセス・ベントガス導入、などの一連の操作は作業者レベルを選ばずどなたで “Φ8inch-CCCフラットエレメント” “専用ウエハートレー” も簡単に行うことができ、さらに安全性も考慮されておりますので、企業・大学・ シングルゾーン, 2ゾーン式も可能 Φ8inch用 研究機関での実験設備として最適です。 6inch、8inchウエハーアニール専用機 コンパクトサイズ・簡単操作 2000℃まで Technical Specification 急速昇温。SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基 サンプルサイズ 最大Φ3inch 礎研究、製品開発部門などで幅広く活用いただけます。 プロセスガス 最大1系統まで、ニードルバルブ手動調整式 Φ6inch, Φ8inchウエハー焼成・急速昇温・均一加熱（1, 又は2ゾーン制御式） 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ 専用ウエハートレー製作致します。 到達真空度 5×10-5Pa（*空炉の状態） Technical Specification ■ TE series “Thermic Edge furnace” 温度センサー Cタイプ熱電対 最高使用温度 Max2000℃ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ 加熱源 高純度グラファイト, C/Cコンポジット ■ MiniLab-CF-Φ8inch-HT-2000℃ 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ MB-Prism 超高温実験炉 Max２000℃ MiniLab High Temperature Furnace for R&D Mini-BENCH-Prism: High temperature semi-auto furnace up to 2000℃ 小サンプル焼成用 セミオート式実験炉 MiniLab-CF 超高温実験炉 Max2900℃ MiniLab-CF High-temperature furnace for R&D ヒーター素線オプション 有効加熱範囲：～Φ4inch 高純度グラファイトヒーター Max2900℃ C熱電対/2色放射温度計 自動切替式 タングステンヒーター 有効加熱範囲：～Φ4inch 【小型・コンパクトサイズ】 ヒーター素線オプション Mini-BENCH-Prismは、セミオートモデルカーボン実験炉シリーズの4inch対応装置です。 SiC3コーティング（～Φ4inch） 自動真空引き～自動ベント、インターロック（冷却水・異常加熱・チャンバー表面温度）を備 えており、さらに幅603mm x 奥行603mmの筐体内に全ての機器を収納する超コンパクト TiC3コーティング（～Φ4inch） サイズ。研究室の限られた実験スペースを最大限に活用できるハイパフォーマンス実験炉 です。 作業者の熟練度を問わない簡単・安全操作。るつぼ内の小片試料最大2900℃ま での焼成実験用。新素材・新材料開発、及び電子部品・燃料電池などの先端基礎 技術開発部門でのさまざまなアプリケーションでの焼成実験に対応致します。 Max2900℃：C熱電対、2色放射温度計の自動切替式 PLC全自動プロセスコントロール・セミオート式 Technical Specification 8箇所のインターロックで安全を確保 前面LEDランプで常時監視 サンプルサイズ 最大Φ4inch 小型・省スペース：1,120（W) x 590(D) x *911(H) *チャンバー含まず プロセスガス 最大1系統まで、ニードルバルブ手動調整式 Technical Specification 真空排気系 ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ 最高使用温度 Max2900℃（*Arガス置換雰囲気, 真空の場合Max2000℃） 到達真空度 5×10-5Pa（*空炉の状態） 加熱源 高純度グラファイト, C/Cコンポジット 温度センサー Cタイプ熱電対 真空ポンプ ロータリーポンプ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ ■ MiniLab-CF-HT-Max2900℃ オプション APC プロセス圧力自動制御 , ターボ分子ポンプ、ドライポンプ ■ Mini-BENCH-Prism