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ALD成膜装置 モデルRシリーズカタログのご案内です。
ALDは既存のPVD，CVD、蒸着等の成膜技術よりいくつかの点で優れているため、
急速に市場に浸透してきている。
それは段差被覆性に優れており、膜厚が１原子層レベルで制御でき、膜厚分布が良く、
バリア性が高く膜質が良く、低温（e.g.100℃）でも成膜できる。
このカタログについて
| ドキュメント名 | Picosun社ALD成膜装置 Rシリーズ |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 300.9Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | PICOSUN JAPAN株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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