反射用レプリカ解析システム ASA-03RXD

反射用レプリカ解析システムＡＳＡ-０３ＲＸＤ スピーディで豊富な解析項目と、簡便な操作性を実現！！ 化粧品工業会のガイドラインに準拠した測定法です ASA-03RXDの特徴 ■レプリカキットはキメ・シワ等の溝にすばやく入り込み、約１分間で硬化させ、誰でも短時間で簡単・確実に皮 膚のレプリカを採取可能。また白色単色のレプリカにより皮膚の色素、毛、油分等の影響を受けずに正確 なキメ・シワ等の評価が可能になります。 ■専用の解析ソフトはキメ・シワ等の識別を自動認識で行い、個数、体積、面積等を自動的に計算するとともに、 識別された部位を着色表示できます ■高性能デジタル画像処理により、高精度な測定が可能 ■採取したレプリカを専用マウントに固定する事により、レプリカ自体の変形、位置ずれが少なくし、キメ・シ ワ等の走向に合わせたレプリカの撮影が可能 反射用レプリカキットASB-01W 別売反射用レプリカキット 構成 シリコン液（１００ CC ） １ 台紙（１００枚） １ サンプリングテープ（100枚） １ レプリカマウント（100枚） １ 混合カップ １

測定原理 （特許出願済） 反射用レプリカ解析システムASA-03RXDは採 取したレプリカに平行光を角度３０度で照射す る事により、得られるキメ・シワ等の形状に応じ た陰影画像をCCDカメラで撮像し、専用解析ソ フトで画像処理することによりキメ・シワ等の形 状、定量解析を行います。 シワでは得られた解析画像を基に深度に応じ て色が変化するため、合成画像による深度の 変化が捉えやすくなりました。 また、キメではヒストグラムでキメの分布状況の 変化が確認出来ます。 測定例 ◼ 仕様構成 ・反射用レプリカ撮像ユニット 画像撮像CCDカメラ 平行光照射装置 反射用スライドスロットル 反射用キャリブレ－ションディスク ・反射用レプリカキット ・専用遮光カーテン ・解析ソフトウェア－ カメラ画像 識別画像 ◼ 解析ソフトウェア－仕様 ・ラインキメ解析（Rz,Rt,全個数,平均深度、 キメ個数, 合成画像 キメ平均深度,キメ平均幅） ・エリアキメ解析（全体積,面積率,キメ体積, キメ最大 深度,キメ平均深度,キメ最大幅,キ メ平均幅） ・ラインシワ解析（全個数,平均深度,シワ個数 シワ平 均深度,シワ最大深度,シワ最大幅） シワ解析 ・エリアシワ解析（全体積,面積率,シワ体積, シワ最大 深度,シワ平均深度,シワ最大幅,シワ平均幅） ・ｷｬﾘﾌﾞﾚ-ｼｮﾝ（XY,影の長さ→深度変換） ・環境設定（キメ解析設定、シワ解析設定）・その他 （３次元表示、エッジ強調） カメラ画像 ・作動環境 Windows ８・１０ 合成画像 ヒストグラム 改良の為、お断り無く外観及び仕様を変更することが有ります。 開発・製造・販売 キメ解析 〒192-0045 東京都八王子市大和田町2-7-7 TEL042-648-5350 FAX042-648-5332