レーザー耐性の優れた高透過膜並びに高反射膜の加工を実現
近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた高透過膜並びに高反射膜の加工を実現しております。
◆技術特徴
・使用波⾧:1064nｍ
・高透過膜:T≧99.5% 損傷閾値:35 J/cm2
・高反射膜:R≧99.5% 損傷閾値:145 J/cm2
・対応基板:合成石英、BK7、CaF2
◆詳細はカタログをダウンロードしご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
このカタログについて
| ドキュメント名 | ハイパワーレーザー用高透過膜/高反射膜 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 509.5Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 伊藤光学工業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
このカタログの内容
Page1
ハイパワーレーザー用高透過膜/高反射膜
✺技術概要
近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ
光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や
成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた
高透過膜並びに高反射膜の加工を実現しております。
✺技術特徴
・使用波⾧:1064nｍ
・高透過膜:T≧99.5% 損傷閾値:35 J/cm2
・高反射膜:R≧99.5% 損傷閾値:145 J/cm2
・対応基板:合成石英、BK7、CaF2
レーザー損傷試験結果
試験条件 高透過膜 高反射膜
波⾧ 1064nm 1064nm
パルス幅 10ns 11ns
照射角度 0° 0°
偏光 N N
ビーム径 X380μm,Y450μm X440μm,Y450μm
評価方法 100-on-1 1-on-1
損傷閾値 35 J/cm2 145 J/cm2
＊上記データは参考値であり保証値ではありません。
高透過膜分光特性 高反射膜分光特性
伊藤光学工業株式会社 ハイパワーレーザー用高透過膜 /高反射膜 Ver.2-01