【試作承ります！】高出力レーザーへの耐性を持った反射防止膜。成形~蒸着まで一貫生産が可能なのでコストメリットが出せます。設計から量産まで対応可能。
製品カタログ
【ハイパワーレーザー用反射防止膜】基板の表面状態や成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた反射防止膜の加工を実現。ISO9211-8に準拠しています。
近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や、成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた反射防止膜の加工を実現しております。
◆技術特徴
・使用波長:1064nm
・高透過率:T≧99.5%
・損傷閾値:35 J/cm2
・対応基板:合成石英、BK7、CaF2
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 【試作承ります！】高出力レーザーへの耐性を持った反射防止膜。成形~蒸着まで一貫生産が可能なのでコストメリットが出せます。設計から量産まで対応可能。 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 615.9Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 伊藤光学工業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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ハイパワーレーザー用反射防止膜
✺技術概要
近年、レーザーの高出力化が進む中、より高いレーザー損傷耐性を持つ
光学素子が求められています。伊藤光学工業では基板の表面状態や
成膜材料及び成膜条件の最適化を行うことで、レーザー耐性の優れた
反射防止膜の加工を実現しております。
✺技術特徴
・使用波⾧:1064nｍ
・高透過率:T≧99.5%
・損傷閾値:35 J/cm2
・対応基板:合成石英、BK7、CaF2
レーザー損傷試験結果
波⾧ パルス幅 照射角度 偏光 ビーム径 評価方法 損傷閾値
X380μm
1064nm 10ns ０° N 100-on-1 35 J/cm2
Y450μm
＊上記データは参考値であり保証値ではありません。
光学分光特性
伊藤光学工業株式会社 ハイパワーレーザー用反射防止膜 Ver.1-01