エネルギー分散形蛍光X線分析装置　JSX-1000S

Scientific / Metrology Instruments エネルギー分散形蛍光X線分析装置 JSX-1000S Element EyeTM Smart Solution for Ultimate Analysis

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 シンプルオペレーションを支える高性能 長年培った当社独自のアルゴリズムによる FP( ファンダメンタルパラメータ ) 法により、 標準試料を使わず高精度な定性・定量分析が行えます。 新開発・自社製 SDD( シリコンドリフト検出器 ) と新設計の光学系、全エネルギー範囲対応フィルターにより 高感度分析が可能です。 よりスマートに、より多くのユーザーへ 試料室排気ユニット ( オプション ) を装着することにより軽元素の検出感度が向上します。 JSX-1000S は、タッチパネルを採用した、簡単かつ迅速に元素分析が行える蛍光 X 線分析装置です。 ■ シンプルオペレーション 試料をセットし、画面をタッチ するだけの簡単操作です。 分析値・合否判定結果はリアルタイムに更新され、スペクトルの確認も容易です。 「セット＆タッチ」のシンプルオペレーション 1試料をセット 2 画面をタッチ 3 分析結果のリアルタイム表示 スワイプで画面を切換え、ピークの有無を確認できます。 1 2

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 シンプルオペレーションを支える高性能 長年培った当社独自のアルゴリズムによる FP( ファンダメンタルパラメータ ) 法により、 標準試料を使わず高精度な定性・定量分析が行えます。 新開発・自社製 SDD( シリコンドリフト検出器 ) と新設計の光学系、全エネルギー範囲対応フィルターにより 高感度分析が可能です。 よりスマートに、より多くのユーザーへ 試料室排気ユニット ( オプション ) を装着することにより軽元素の検出感度が向上します。 JSX-1000S は、タッチパネルを採用した、簡単かつ迅速に元素分析が行える蛍光 X 線分析装置です。 ■ シンプルオペレーション 試料をセットし、画面をタッチ するだけの簡単操作です。 分析値・合否判定結果はリアルタイムに更新され、スペクトルの確認も容易です。 「セット＆タッチ」のシンプルオペレーション 1試料をセット 2 画面をタッチ 3 分析結果のリアルタイム表示 スワイプで画面を切換え、ピークの有無を確認できます。 1 2

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 ■ 全エネルギー範囲高感度分析 コリメーター ■ 高精度定量分析 二次フィルター 最大９種類のフィルター * と試料室排気ユニットにより 一次フィルター 新開発のスマート FP（ファンダメンタルパラメータ）法により、標準試料を準備することなく、かつ自動的に 全エネルギー範囲で高感度分析が可能になります。 残成分および厚さの補正を行った高精度な定量結果が得られます。 （残成分補正および厚さ補正機能は、有機物試料のみに対応しています） 表 2　ポリエチレン分析例 厚み 補正 Cr Zn Cd Pb 自動バランス カラーカメラ X 線管球 SDD 0.5 mm 0.008 0.037 0.001 0.002 99.76 無 3.8 mm 0.012 0.109 0.004 0.006 99.64 0.5 mm 0.011 0.137 0.015 0.010 99.54 有 表 1　フィルターと試料室排気ユニットにおける主要元素対応表 * Cl、Cu、Mo、Sb はオプション 3.8 mm 0.011 0.134 0.016 0.011 99.55 K-line 9F 〜 20Ca（試料室排気ユニット（オプション）使用時） 標準値 0.010 0.125 0.014 0.010 フ ィルター開放 K-line 9F 〜 55Cs ND( 減光 ) フィルター L-line 30Zn 〜 83Bi C I 分析用フィルター * K-line 16S 〜 19K L-line 38Sr〜 53I Cr 分析用フィルター K-line 20Ca 〜 26Fe ■ ハイスループット L-line 52Te 〜 66Dy Cu 分析用フィルター * K-line 27Co 〜 31Ga 新開発の高感度 SDD（シリコンドリフト検出器）とショートパス光学系により、当社従来機（JSX-3100R Ⅱ） L-line 67Ho 〜 82Pb と比較して最大約 7.6 倍のスループットを実現しました。 Pb 分析用フィルター K-line 32Ge 〜 39Y L-line 78Pt〜 83Bi Mo 分析用フィルター * K-line 38Sr〜 44Ru 表 3　Cd 10 ppm・Pb 50 ppm の測定時間による比較 C d 分析用フィルター K-line 42Mo 〜 51Sb 材 料 元 素 スループット S b 分析用フィルター * K-line 49In 〜 55Cs 0 5 10 15 20 25 30 35( 単位：KeV) Cd 7.6倍 濃度　Fe,Co,Ni,Cu,Zn, Pb:10 ppm 濃度　Pb:10 ppm 濃度　Cd:10 ppm PVC 　　　Zr: 1 ppm Pb Element EyeTM JSX-3100RⅡ Cd 真 鍮 Pb keV keV keV ■ オプション ■ ソリューションの提供 ・ 試料室排気ユニット ・ 多試料自動交換ユニット ソリューションアプリは、予め登録されたレシピに従い目的の測定分析を自動実行します。 　真空中で分析を行うことで軽元素（F 〜Al）の 　最大１２個のサンプルを自動交換し、 ソリューションアプリリストから目的のソリューションアイコンを選択するだけで簡単に分析結果が得られます。 感度向上が期待できます。 連続測定を自動実行します。 ソリューションアプリは、多種多様な業界において簡単分析を提供します F( フッ素）検出例　メンブレンフィルター 標準：Standard Solution Na Al Mg ー青：真空 ー赤：大気 ● RoHS 分析ソリューション（金属） ● RoHS 分析ソリューション（プラスチック） ● 簡易分析ソリューション（金属：大気 / 真空 *） ● 簡易分析ソリューション（有機物：大気 / 真空 *）　 S ● 簡易分析ソリューション（酸化物：大気 / 真空 *） * オプション オプション：Optional Solution ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● Sn メッキスクリーニングソリューション keV keV ● ハロゲンスクリーニングソリューション ● フォレージソリューション 3 4

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 ■ 全エネルギー範囲高感度分析 コリメーター ■ 高精度定量分析 二次フィルター 最大９種類のフィルター * と試料室排気ユニットにより 一次フィルター 新開発のスマート FP（ファンダメンタルパラメータ）法により、標準試料を準備することなく、かつ自動的に 全エネルギー範囲で高感度分析が可能になります。 残成分および厚さの補正を行った高精度な定量結果が得られます。 （残成分補正および厚さ補正機能は、有機物試料のみに対応しています） 表 2　ポリエチレン分析例 厚み 補正 Cr Zn Cd Pb 自動バランス カラーカメラ X 線管球 SDD 0.5 mm 0.008 0.037 0.001 0.002 99.76 無 3.8 mm 0.012 0.109 0.004 0.006 99.64 0.5 mm 0.011 0.137 0.015 0.010 99.54 有 表 1　フィルターと試料室排気ユニットにおける主要元素対応表 * Cl、Cu、Mo、Sb はオプション 3.8 mm 0.011 0.134 0.016 0.011 99.55 K-line 9F 〜 20Ca（試料室排気ユニット（オプション）使用時） 標準値 0.010 0.125 0.014 0.010 フ ィルター開放 K-line 9F 〜 55Cs ND( 減光 ) フィルター L-line 30Zn 〜 83Bi C I 分析用フィルター * K-line 16S 〜 19K L-line 38Sr〜 53I Cr 分析用フィルター K-line 20Ca 〜 26Fe ■ ハイスループット L-line 52Te 〜 66Dy Cu 分析用フィルター * K-line 27Co 〜 31Ga 新開発の高感度 SDD（シリコンドリフト検出器）とショートパス光学系により、当社従来機（JSX-3100R Ⅱ） L-line 67Ho 〜 82Pb と比較して最大約 7.6 倍のスループットを実現しました。 Pb 分析用フィルター K-line 32Ge 〜 39Y L-line 78Pt〜 83Bi Mo 分析用フィルター * K-line 38Sr〜 44Ru 表 3　Cd 10 ppm・Pb 50 ppm の測定時間による比較 C d 分析用フィルター K-line 42Mo 〜 51Sb 材 料 元 素 スループット S b 分析用フィルター * K-line 49In 〜 55Cs 0 5 10 15 20 25 30 35( 単位：KeV) Cd 7.6倍 濃度　Fe,Co,Ni,Cu,Zn, Pb:10 ppm 濃度　Pb:10 ppm 濃度　Cd:10 ppm PVC 　　　Zr: 1 ppm Pb Element EyeTM JSX-3100RⅡ Cd 真 鍮 Pb keV keV keV ■ オプション ■ ソリューションの提供 ・ 試料室排気ユニット ・ 多試料自動交換ユニット ソリューションアプリは、予め登録されたレシピに従い目的の測定分析を自動実行します。 　真空中で分析を行うことで軽元素（F 〜Al）の 　最大１２個のサンプルを自動交換し、 ソリューションアプリリストから目的のソリューションアイコンを選択するだけで簡単に分析結果が得られます。 感度向上が期待できます。 連続測定を自動実行します。 ソリューションアプリは、多種多様な業界において簡単分析を提供します F( フッ素）検出例　メンブレンフィルター 標準：Standard Solution Na Al Mg ー青：真空 ー赤：大気 ● RoHS 分析ソリューション（金属） ● RoHS 分析ソリューション（プラスチック） ● 簡易分析ソリューション（金属：大気 / 真空 *） ● 簡易分析ソリューション（有機物：大気 / 真空 *）　 S ● 簡易分析ソリューション（酸化物：大気 / 真空 *） * オプション オプション：Optional Solution ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● Sn メッキスクリーニングソリューション keV keV ● ハロゲンスクリーニングソリューション ● フォレージソリューション 3 4

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 TM Element Eye によるスマート・アシスト ■ 主な仕様 ＆ オプション 主な仕様 蛍光 X 線分析装置は、簡単な試料調整または試料調整なしに元素分析が可能です。 お客様の分析を Element EyeTM は簡単操作でアシストします。 検出元素範囲 Mg 〜 U F 〜 U　（オプション） X 線発生装置 ５〜５０ｋ V　１ｍ A SEM - EDS 　XRF 固体分析アシスト XRF：全砂粒を分析 SEM：反射電子像 ターゲット Rh OPEN、ND（減光フィルター）、Cr、Pb、Cd フィルター　最大 9 種　自動交換 Cl、Cu、Mo、Sb（オプション） EDS コリメーター　3 種　自動交換 0.9 mm, 2 mm, 9 mm 検出器 シリコンドリフト検出器 MO フィルター Si Kα + a Zr K α + b 試料室サイズ 300 mm φ× 80 mmH Zr Lα 試料室雰囲気 大気　/　真空 ( オプション） OKα Zr K β CKα a 試料室観察機構 カラ―カメラ b 操作用コンピュータ Windows®　タッチパネル式デスクトップパソコン keV Energy(keV) ジルコニウム（Zr）は海浜や河川の砂に含まれています。しかし、全ての砂にZrが含まれているわけではありませ 分析用ソフトウェア 定性分析（自動定性、KLM マーカー、サムピーク表示、スペクトル検索） ん。XRFを用いることで砂粒群にZrが含まれているかを迅速に判別することができます。また、SEM-EDSを利用 定量分析（バルク FP 法、検量線法） するとZrが存在する砂粒を特定することができます。 RoHS ソリューション（Cd,Pb,Cr,Br,Hg) XRFとSEM-EDSを併用することで目的元素の所在を絞り込むことができます。 簡易分析ソリューション レポート作成ソフトウェア 日常チェック用ソフトウェア 管球エージング、エネルギーチェック、強度チェック XPS　XRF 薄膜分析アシスト ＊ Windows は米国マイクロソフト社の米国もしくはその他の国においての登録商標または商標です XRF XPS プリント基板 1 1, Cu 各層の厚み分析結果 緑色：Cu 2 2, Ni 3 3, Cr 第 1 層　Cu：48nm 桃色：Ni 第 2 層　Ni：43nm 青色：Cr 主なオプション JSX-1000S 設置図 4 4, ポリイミド 第 3 層　Cr：10nm 赤色：O ● 試料室排気ユニット ● 薄膜 FP 法分析ソフトウェア ● 多試料自動交換ユニット ● サムピーク除去ソフトウェア ● フィルターセット ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● 高感度コリメーター ● Sn メッキスクリーニングソリューション ● フィルター FP 法分析ソフトウェア ● ハロゲンスクリーニングソリューション Table(1800x750) keV Etching depth(nm) ● フォレージソリューション XPSで多層薄膜試料のデプスプロファイルデータ（深さ方向分析）を取得する場合、予め各層の膜厚が分かってい ると適切なエッチングの条件を設定することができます。XRFを用いると多層膜の厚みを迅速に求めることができ ます。右のデプスプロファイルデータはXRFで求めた膜厚をもとにエッチンングの条件を設定し得られた結果です。 設置条件 XPSでは、主成分の膜構造に加えて不均一な酸素の分布も知ることができます。 500 1800 電 源 単相１００-120 V ± 5％　１５A　５０/ ６０ Hz D 種接地 電圧変動　± 5％以内　（最大電圧　125 V） NMR　XRF 液体分析アシスト （但し、1.5 kVA 時の電圧降下 5% 以内） XRF NMR 環 境 室温１８〜２８ ℃　 20111219_K2PtC16_single_pulse-4-5.jdf FP 法 single_pulse Pt 信号 湿度 3 ０〜７0％ ( 結露のないこと ) 本体サイズ 600 mm(W) x 560 mm(D) x 430 mm(H). 64 kg Pt　0.36mass％ 腐食性ガスや粉塵及び有感振動のないこと 空調の風が直に装置に当たらないこと ＊装置の周辺には 50 cm 以上のメンテナンススペースを設けてください。 ＊外観・仕様は改良のため予告なく変更することがあります。 ＊本体と PC を置くテーブルとイスはお客様でご用意ください。 keV X:parts per Millon : Platinum195 NMRは有機材料の構造解析に広く用いられており、主に水素（1H）や炭素（13C）が測定対象となっています。 1H や13C以外の核種を測定する場合は、核種の濃度によって感度が変わることから、予め試料に含まれる成分情報を入 X 線装置設置に関する届出について 手することで適切な測定条件を見積もることができます。XRFを利用するとPtなど含有元素の種類と濃度を簡単に 知ることができます。 本装置の使用について、労働安全衛生法、労働安全衛生規則 （安衛則）および電離放射障害防止規則（電離則）にしたがっ て装置の設置手続きが必要です。詳細につきましてはお問い 合わせください。設置要項書のご案内をさせていただきます。 5 6 CPS CPS/mA CPS/mA [ x1. E-3 ] Counts Intensity(arb.unit) (thousandths) 750 500

■ JSX-1000S　エネルギー分散形蛍光 X 線分析装置 TM Element Eye によるスマート・アシスト ■ 主な仕様 ＆ オプション 主な仕様 蛍光 X 線分析装置は、簡単な試料調整または試料調整なしに元素分析が可能です。 お客様の分析を Element EyeTM は簡単操作でアシストします。 検出元素範囲 Mg 〜 U F 〜 U　（オプション） X 線発生装置 ５〜５０ｋ V　１ｍ A SEM - EDS 　XRF 固体分析アシスト XRF：全砂粒を分析 SEM：反射電子像 ターゲット Rh OPEN、ND（減光フィルター）、Cr、Pb、Cd フィルター　最大 9 種　自動交換 Cl、Cu、Mo、Sb（オプション） EDS コリメーター　3 種　自動交換 0.9 mm, 2 mm, 9 mm 検出器 シリコンドリフト検出器 MO フィルター Si Kα + a Zr K α + b 試料室サイズ 300 mm φ× 80 mmH Zr Lα 試料室雰囲気 大気　/　真空 ( オプション） OKα Zr K β CKα a 試料室観察機構 カラ―カメラ b 操作用コンピュータ Windows®　タッチパネル式デスクトップパソコン keV Energy(keV) ジルコニウム（Zr）は海浜や河川の砂に含まれています。しかし、全ての砂にZrが含まれているわけではありませ 分析用ソフトウェア 定性分析（自動定性、KLM マーカー、サムピーク表示、スペクトル検索） ん。XRFを用いることで砂粒群にZrが含まれているかを迅速に判別することができます。また、SEM-EDSを利用 定量分析（バルク FP 法、検量線法） するとZrが存在する砂粒を特定することができます。 RoHS ソリューション（Cd,Pb,Cr,Br,Hg) XRFとSEM-EDSを併用することで目的元素の所在を絞り込むことができます。 簡易分析ソリューション レポート作成ソフトウェア 日常チェック用ソフトウェア 管球エージング、エネルギーチェック、強度チェック XPS　XRF 薄膜分析アシスト ＊ Windows は米国マイクロソフト社の米国もしくはその他の国においての登録商標または商標です XRF XPS プリント基板 1 1, Cu 各層の厚み分析結果 緑色：Cu 2 2, Ni 3 3, Cr 第 1 層　Cu：48nm 桃色：Ni 第 2 層　Ni：43nm 青色：Cr 主なオプション JSX-1000S 設置図 4 4, ポリイミド 第 3 層　Cr：10nm 赤色：O ● 試料室排気ユニット ● 薄膜 FP 法分析ソフトウェア ● 多試料自動交換ユニット ● サムピーク除去ソフトウェア ● フィルターセット ● Ni メッキスクリーニングソリューション ● 高感度コリメーター ● Sn メッキスクリーニングソリューション ● フィルター FP 法分析ソフトウェア ● ハロゲンスクリーニングソリューション Table(1800x750) keV Etching depth(nm) ● フォレージソリューション XPSで多層薄膜試料のデプスプロファイルデータ（深さ方向分析）を取得する場合、予め各層の膜厚が分かってい ると適切なエッチングの条件を設定することができます。XRFを用いると多層膜の厚みを迅速に求めることができ ます。右のデプスプロファイルデータはXRFで求めた膜厚をもとにエッチンングの条件を設定し得られた結果です。 設置条件 XPSでは、主成分の膜構造に加えて不均一な酸素の分布も知ることができます。 500 1800 電 源 単相１００-120 V ± 5％　１５A　５０/ ６０ Hz D 種接地 電圧変動　± 5％以内　（最大電圧　125 V） NMR　XRF 液体分析アシスト （但し、1.5 kVA 時の電圧降下 5% 以内） XRF NMR 環 境 室温１８〜２８ ℃　 20111219_K2PtC16_single_pulse-4-5.jdf FP 法 single_pulse Pt 信号 湿度 3 ０〜７0％ ( 結露のないこと ) 本体サイズ 600 mm(W) x 560 mm(D) x 430 mm(H). 64 kg Pt　0.36mass％ 腐食性ガスや粉塵及び有感振動のないこと 空調の風が直に装置に当たらないこと ＊装置の周辺には 50 cm 以上のメンテナンススペースを設けてください。 ＊外観・仕様は改良のため予告なく変更することがあります。 ＊本体と PC を置くテーブルとイスはお客様でご用意ください。 keV X:parts per Millon : Platinum195 NMRは有機材料の構造解析に広く用いられており、主に水素（1H）や炭素（13C）が測定対象となっています。 1H や13C以外の核種を測定する場合は、核種の濃度によって感度が変わることから、予め試料に含まれる成分情報を入 X 線装置設置に関する届出について 手することで適切な測定条件を見積もることができます。XRFを利用するとPtなど含有元素の種類と濃度を簡単に 知ることができます。 本装置の使用について、労働安全衛生法、労働安全衛生規則 （安衛則）および電離放射障害防止規則（電離則）にしたがっ て装置の設置手続きが必要です。詳細につきましてはお問い 合わせください。設置要項書のご案内をさせていただきます。 5 6 CPS CPS/mA CPS/mA [ x1. E-3 ] Counts Intensity(arb.unit) (thousandths) 750 500

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＊装置の外観・仕様は予告なく変更することがあります。 No.1506B948C(Bn)