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鏡面研磨技術
創業当時から積み上げてきた結晶研磨加工技術。
クリスタル光学の全ての技術の基礎となり、ナノオーダーの仕上げに対応いたします。
材料は、単結晶、多結晶、ガラス、樹脂、表面処理層など様々な加工実績があります。
このカタログについて
| ドキュメント名 | 鏡面研磨技術 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 200.3Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社クリスタル光学 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログ（鏡面研磨技術）の内容
Page 1:鏡面研磨技術ナノレベルで仕上げる表面仕上げ。単結晶から⾦属・セラミック・樹脂まで様々な材料にご対応いたします。LINES LAPPING AND POLISHING単結晶⾦ 属非⾦属表⾯処理層材料実績研磨後の表面粗さ測定結果(営業窓口)大津工場／〒520-0235滋賀県大津市真野大野一丁目458番地TEL.077(572)4848 FAX.077(572)3368materialＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＫＣｌ、ＣｓＩ、ＣｓＢｒ、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＬｉＦ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ、Ｇｅ、ＳｉＣ、その他酸化物単結晶、その他⾦属単結晶ステンレス、アルミニウム 、銅 、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル、インコネル、ハステロイ、パーマロイ、インバー、 ホワイトメタル、超硬、超硬 ステンレス 同時研磨セラミックス︓ＳｉＣ、アルミナ、ジルコニア、ＹＡＧカーボン、⽯ガラス︓⽯英、ＢＫ７、⻘板、⽩板、ゼロデュア(ガラスセラミック複合素材)他樹脂︓アクリル、ＰＥＥＫ、ＰＶＣ、ＭＣナイロン、テフロン、ポリイミド、ＣＦＲＰ（カーボン繊維＋樹脂)アルマイト、Ｎｉ(ニッケルめっき)、Ｎｉ－Ｐ(無電解ニッケル－リンめっき)surface roughness材料 ⾯粗度Ra 主な用途 評価ポイントNaCl 5.5 光学窓・プリズム･薄膜用 ⾯粗さが重視。１０nm以下は難易度⾼い。(潮解性の為 )KDP 1.7 光学窓・プリズム ⾯粗さ・平⾯度(λ/4)とも重要。両⽅を満たす加⼯は難易度⾼い。Pt単結晶 2.5 薄膜形成用基板 面粗さ重要。Al単結晶 1.8 薄膜形成用基板 面粗さ重要。Cu (4N) 0.8 薄膜形成用基板 ⾯粗さ重要。*単結晶ではない為、1nm以下は難易度が⾼い。SUS430 0.5 薄膜形成用基板 ⾯粗さ重要。*単結晶ではない為、1nm以下は難易度が⾼い。(単位:nm)