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全ての水分校正問題に対し、経済的なソリューションを提供
◆水分濃度はシングルオーブンで 20:1、デュアルオーブンで 400:1、希釈用質量流量計を付加すれば10,000:1 にレンジを調整できます。
◆モデルを選択することにより水分濃度は0.01~10,000 ppm レンジまで作成できます。
◆100ppb 以下の水分濃度をご要望の場合には溶接モデルとなります。
◆現場用として NEMA 4 キャビネット型やZ パージ型や X パージ型のご提供も可能です。
◆KIN-TEK 社製 使い捨て型 または 再充填型パーミエーションチューブをご利用ださい。
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このカタログについて
ドキュメント名 | H20 微量水分標準ガス発生器 Span Pac(TM) |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 512.9Kb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 八洲貿易株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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Span Pac™ H20 微量水分標準ガス発生器
The Span Pac™ H20 微量水分標準ガス発生器
次の特徴:
• 水分濃度はシングルオーブンで 20:1、デュアルオ
ーブンで 400:1、希釈用質量流量計を付加すれば
10,000:1 にレンジを調整できます。
• モデルを選択することにより水分濃度は
0.01~10,000 ppm レンジまで作成できます。
• 100ppb 以下の水分濃度をご要望の場合には
溶接モデルとなります。
• 現場用として NEMA 4 キャビネット型や
Z パージ型や X パージ型のご提供も可能です。
• KIN-TEK 社製 使い捨て型 または 再充填型パ
ーミエーションチューブをご利用ださい。
プロセスにおいて広範囲に利用されているガスに対して微量水分濃度は極めて重要なパラメータ
です。しかしながら、全てのアプリケーションにおいて絶対水分分析法はありません。
も高感度な測定方法では水分応答時間がキャリヤ(希釈)ガスに影響され、 も一般的な方法で
は必ずガス中に存在するコンタミネーション物質によって影響を受けます。基本的に全ての分析装
置は外部標準による校正が要求され、精度が維持されているのを実証するためにも標準による確
認が求められます。
微量水分校正に関連した 3 つの特別な問題点を以下に説明します:
1. 低濃度レベルでは水分に真の基準がないこと.単純にドライガスに水のベーパーを加え
た標準は不明確、不確実です。
2. 水分は全ての材料に素早く作用し、その場合、圧力や温度変化が一時的な濃度変化とし
て表れることがあります。安定するまで長時間を要することもあります。
3. 水分は大気に拡がり易く、高精度の標準であっても搬送中に汚染されるかも知れない。
The Span Pac™ H2O 標準水分発生器は差分解析法として有効な手段です。この動作原理はキャリ
ヤ(希釈)ガスの水分量が 少発生水分量の 10%を超える場合には重要な意味を持ちます。 校正
は KINTEK 社製水分パーミエーションチューブからの既知水分をキャリヤガスに加えることによる
分析値の変化に基づいています。この差分解析法によりゼロ点校正の問題やキャリヤガスに含ま
れる水分の問題を解消してくれます。
パーミエーションチューブ抽出率は質量重量法を採用している米国 NIST に基づく工場確認で証明
されています。この方法は一次標準が得難い状況における代替標準として利用できます。KIN-TEK
社では設計、組み立てやガスと接する部品、配管、継手などに十分注意を払い、大気との接触に
伴うコンタミネーションや装置内の他の材料との相互作用による誤差を 小限にしています。
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Span PacTM H2O フロー図
KIN-TEK 社では数種類の Span Pac™ H2O models を製造販売しており全ての水分校正問題に対
し、経済的なソリューションを提供しています。
A. シングルオーブン(Span Pac™ 61-H2O)
シングルオーブンモデルでは窒素や不活性ガスキャリヤの下では水分濃度 0.1~10,000ppm の範
囲の中でレンジ比 1:20 の水分濃度を作成できます。(パーミエーションチューブの抽出量とキャリヤ
ガス流量による) 標準的な一次希釈質量流量レンジは 0.25~5lpm。他の流量レンジについては
オプションです。
サンプルガス配管にはヒートトレース付電解研磨ステンレスチューブを採用しています。
キャビネットパージ入口は以下の場合ご利用してください:
• 低水分濃度を発生させる時、キャビネット内部と外部に跨る部品に対する大気中水分によ
る汚染の影響を避けるため、ドライ不活性ガスでパージして下さい。
• 希釈ガスとして水素を利用する場合、爆発限界以下となるようにキャビネット内に窒素ガス
を流してください。ユーザーに置かれては必ず必要量の窒素ガスが途切れないように留意
して下さい。
B. デュアルオーブン (Span Pac™ 261-H2O)
デュアルオーブンモデルは基本的にはシングルオーブンモデルを同じですがレンジ比が 400:1 以
上の水分濃度を発生することができます。(パーミエーションチューブの抽出量による)
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C. 二次希釈装置付きシングルオーブン (Span Pac™ 61-H2O-SD)
二次希釈付シングルオーブン標準水分発生器(SD)は も広範に利用できる水分発生装置です。
この発生器は一次希釈、二次希釈を兼ね揃えています。二次希釈側では広範囲にわたって超低
濃度水分を作成できます。( 10,000:1 以内) 加えて、取り出し流量一定で濃度を変えることもできま
す。
サンプルガス配管にはヒートトレース付電解研磨ステンレスチューブを採用しています。
キャビネットパージ入口は以下の場合ご利用してください:
• 低水分濃度を発生させる時、配管への漏れ込みに対する大気中水分による汚染の影響を
避けるため、ドライ不活性ガスでパージして下さい。
• 希釈ガスとして水素を利用する場合、爆発限界以下となるようにキャビネット内に窒素ガス
を流してください。ユーザーに置かれては必ず必要量の窒素ガスが途切れないように留意
して下さい。
D. 溶接モデル(100ppb 以下の微量水分用)
シングルオーブン (Span Pac™ 61-W-H20)
二次希釈付シングルオーブン (Span Pac™ 61-W-H2O-SD)
溶接モデル標準水分発生器は (W) は単一または複数の 100ppb 以下の水分濃度を発生するアプ
リケーションで必要とされます。(高水分濃度でも利用可能)
一次希釈だけのシングルオーブンモデルでは 少水分濃度は 5ppb を設定することができ、その
場合、 少のパーミエーション抽出率と 大の希釈流量を組み合わせる。二次希釈モデルではさら
に低濃度の水分を発生させることが可能です。
溶接モデルには通常モデルと同じようにパージ口やヒートトレース付電解研磨ステンレスチューブ
が付いており構造や機能も同じ。加えて、大気中水分の漏れ込みを極力軽減するために継手をシ
ール溶接した継ぎ目なしチューブを使用しています。機器に特殊のハードウェアを付加することによ
って高純度のサービスを提供しています。
E. 産業用モデル
工場内雰囲気での使用では全ての非溶接モデルは NEMA 4 キャビネットに収めることもできます。
オプションとして次の防爆構造も含まれます。 (1) Z-purge for Class 1, Group C or D, Division II
and (2) X -purge for Class 1, Group C or D, Division I.
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仕様 : ラボ用モデル
・ Span PacTM H2O 61 – 単一レンジ、シングルオーブンユニット
・ Span PacTM H2O 261 – 2 レンジ並列動作、デュアルオーブンユニット
通常は片方を 10ppm といった高レンジに設定し、もう一方を 100ppb のように低レンジに設定
します。
オーブン容量 : 6 個まで搭載可能な使い捨て式Φ1/4”×5“パーミエーションチューブ、
または 1 本の再充填可能なパーミエーションチューブ
流 量 範 囲 : 0.25~5L/min
寸 法 : 508 ㎜(W)×254 ㎜(H)×482.6 ㎜(D)
重 量 : 約 15.9 ㎏
仕様 : プロセス用モデル
全てのラボ用モデルは NEMA 4 キャビネットによりプロセス仕様に変更可能です。これにより
Class 1, Group C, D, Div.2 に適用できます。
・ Span PacTM H2O 61 I – 単一レンジ、シングルオーブンユニット
・ Span PacTM H2O 261 I – 2 レンジ並列動作、デュアルオーブンユニット
オーブン容量 : 上記ラボ用モデルと同じ
流 量 範 囲 : 0.25~5L/min
寸 法 : 508 ㎜(W)×508 ㎜(H)×235 ㎜(D)
重 量 : 約 22.7 ㎏
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