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OPIE'18 レーザーEXPO2018 出展予定の加工用レーザー光源をご紹介いたします
OPIE'18 レーザーEXPO2018 出展予定品のカタログです。
レーザー周辺機器をご紹介いたします。
◆加工用レーザー光源
オールインワン・ピコ秒 / フェムト秒レーザー (NKT Photonics)
Q スイッチパルス Nd:YAG レーザー (Quantel)
加工用ピコ秒 DPSS レーザー (PhotonEnergy)
高出力パルスファイバレーザー (SPI Lasers)
高出力ピコ秒レーザーシステム (AMPHOS)
レーザークリーナー (Brimo Technology)
微細加工用ピコ秒レーザー (Lumentum)
DUV Q スイッチ LD 励起レーザー (Xiton Photonics)
------【レーザーEXPO2018 出展のご案内】------------------------------
日本レーザーはおかげさまで50周年!日本で最古、最大のレーザー専門企業です。
本展示会でも、最先端のレーザー光源をはじめ、光計測器、光応用製品、オプトメカニクス等トータルな光技術製品を用途や分野ごとに多数出展。レーザー加工やクリーニングなど産業用途向け、分光や光干渉など理化学向け、顕微鏡やライフサイエンス関連といった各種アプリケーションごとに光のインテグレーション・ソリューションを提案します。
【OPIE'18 レーザーEXPO2018 】
日時:2018年4月25日〜27日
場所:パシフィコ横浜 小間:F-10
このカタログについて
ドキュメント名 | 加工用レーザー光源/レーザーEXPO2018 出展予定品【日本レーザー】 |
---|---|
ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 3.9Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 株式会社日本レーザー (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
Page1
加工用レーザー光源
F-10小間
Page2
NEW
■ 軽量、コンパクト、簡単接続ケーブル
■ 波長変更が簡単
■ 高調波の自動チューニング機能 電源 27 kg[59.5 lbs]
■ 直感的なタッチパネル操作
507 mm
[19.95’]’
■ ランプ寿命 1億ショット
■ 波長 1064, 532, 355, 266, 213 nm
■ イーサネットコントロール 直感的タッチパネル操作
819.5 mm
[32.3’’]
513 mm
526 mm 123 mm 123 mm 47,5 mm [20.18’]’
[20.7’’] [4.84’’] [4.84’’] [1.87’’]
147 mm
[5.79’’]
Ø74 mm 99 mm
[2.91’’] [3.9’’]
283 mm
43 mm [11.14’]’
[1.69’’]
■ ユニバーサル電圧
125 mm ■
[4.92’’] 空冷
レーザー 7 kg 59.8 mm[2.32’’)
ヘッド [15.4 lbs]
ニアフィールド像 ファーフィールド像 時間的プロファイル
@1064 nm @1064 nm @1064 nm
www.quantel-laser.com
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Q-smart 450 仕様
繰返し周波数 (Hz) 10 20
パルスエネルギー(mJ) 1064 nm 450 400 測定値は校正済み電力計で測定
532 nm 220 200 1 標準/高エネルギー
355 nm 80/130 75/120 UV オプション
266 nm 60 50
213 nm 10 8
エネルギー安定性 (%) 1064 nm 2 (0.6) ピーク間, ショットの100% (RMS)
532 nm 4 (1.3)
355 nm 6 (2)
266 nm 8 (2.6)
213 nm 12 (4)
パワードリフト(%) 1064 nm 3 8時間以上 。位相整合の再アライ
532 nm 5 メント無し。温度18~28℃
355 nm 5
266 nm 10
213 nm 14
パルス幅(秒 ) 1064 nm 6 FWHM, 高速フォトダイオード
532 nm 5 及び 1GHz オシロスコープ
355 nm 5
266 nm 5
213 nm 5
ポインティング安定性 (μrad) 1064 nm < 40 2m フォーカスレンズの焦点面上
532 nm < 40 で200パルスをSpiricon LBA FWB
355 nm < 40 により測定,。RMS
266 nm < 40
213 nm < 40
ジッタ(ns) Standard 0.5 Qスイッチトリガー入力について
+/-0.5 ns, 500 蓄積ショットで、
ショットの99%の半値幅を測定
フォーカス度合い 1064 nm 2 ピークの1/e2
(回折限界に対する倍率 ) Spiricon LBA FWBで測定
線幅(cm-1) Standard 0.7 FWHM。0.045cm-1 分解能 回折
格子スペクトロメータで測定
ビーム広がり角 (mrad) 1064 nm < 0.5 フルアングル。ピークの1/e2
全エネルギーの 85%
偏光比 (%) 1064 nm > 90 > 80
ビーム径 (mm) 1064 nm 6-7 レーザー出射部
空間プロファイル 最小二乗法ガウシアンフィット
ガウシアンフィット (完全フィット=1)
2
ニアフィールド2 1064 nm > 0.70 > 0.70 レーザー出射部から1m
3
ファーフィールド3 1064 nm > 0.95 > 0.9 2m フォーカスレンズの焦点面
偏光
1064 nm Horizontal
532 nm Vertical
355 nm Horizontal
266 nm Horizontal
213 nm Vertical
温度範囲
動作環境 18/28°C
保管環境 4 -10/50°C
フラッシュランプ寿命 >100 million shots
電源要求仕様 100-240 VAC
50-60 Hz
Single phase
ケーブル長 3 m (10 feet)
4 EGWによるシステム排水 ・出水
www.japanlaser.co.jp E-mail:lase@japanlaser.jp
01/14 ‒ Quantel reserves the right to modify the specifications without prior notice.
Printed on PEFC™ certified paper (Programme for Endorsement of Forest Certification schemes). Design: Poussières d’Étoiles
Page4
CEPHEUS 1002
Specifications
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CEPHEUS 1008
Specifications
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CEPHEUS 1016
Specifications
Page7
CEPHEUS 1050
Specifications
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AMPHOS 400W 出力 超短パルスレーザー
● 出力パワー > 400 W
● パルスエネルギー > 300 μJ
● パルスパラメータ可変
● > 1,000Wまでアップグレード可能
● アンプのみバージョン提供可能
www.japanlaser.jp ‒ lase@japanlaser.jp
東京本社 東京都新宿区西早稲田2-14-1 TEL 03-5285-0863 FAX 03-5285-0860
大阪支店 大阪市東淀川区東中島1-20-12ユニゾーン新大阪2階 TEL 06-6323-7286 FAX 06-6323-7283
名古屋支店 名古屋市中区錦3-1-30錦マルエムビル TEL 052-205-9711 FAX 052-205-9713
©03/2013 AMPHOS GmbH ‒ Kaiserstraße 100 ‒ 52134 Herzogenrath ‒ +49 241 565292 10 ‒ info@amphos.de
All specifications are typical data and subject to change without notice in order to provide the best product possible.
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4
パラメータ 平均出力 波長 パルス幅 繰返し 最大パルス ビームパワー 周波数 エネルギー 品質
>400 W 1030 nm <1 ps ... 500 kHz ...5 ps 40 MHz >300 μJ M
2 <1.5
InnoSlab 増幅スキーム: コントロールユニット: AMPHOS 400 による
コンパクト、シンプル、拡張可能 28HU 19インチラック CFRP の加工
特長 オプション 応用例
● 高繰返しレート EOM ● より高いパルスエネルギー ● OPCPA
● パワー設定ユニット ● シードレーザー: fs, ps, ns, CW ● 微細加工
● ソフトウェアにより、パル ● アンプの追加で1000Wまで出 ● 薄膜 PV パターニング
ス幅、繰返し周波数可変 力可能 ● レーザースクライビング
● ハイパワー・光アイソレー ● 低出力150Wシステム ● レーザーダイシング
タ内蔵 ● 非線形周波数変換 ● シリコンエッジ分離
● アンプのみバージョン ● マイクロ流体デバイス
● ISLE 加工
寸法、インタフェース
● レーザーヘッド
● 幅: 72 cm
● 高さ: 16.5 cm
● 長さ: 111 cm
● TCP/IP コマンド
● 高速外部変調
● 冷却水
©03/2013 AMPHOS GmbH ‒ Kaiserstraße 100 ‒ 52134 Herzogenrath ‒ +49 241 565292 10 ‒ info@amphos.de
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PicoBlade® 2
ピコ秒微細加工レーザー
高精度&高い柔軟性で理想的な加工を実現
̶ 最高性能 加工用システム
www.lumentum.com Data Sheet
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PicoBlade Gen 2 Picosecond Micromachining Laser
PicoBlade 2 レーザーシステムは、あらゆる素材に対して高精度・高信頼性の加工を実現する
汎用ツールです。
特長
オプション
応用例
www.lumentum.com 2
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PicoBlade Gen 2 Picosecond Micromachining Laser
50
1064 nm
40
30
532 nm
20
10 355 nm
0
100 1000 10000
Repetition rate (kHz)
www.lumentum.com 3
Power (W)
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PicoBlade Gen 2 Picosecond Micromachining Laser
出力ビームプロファイル
寸法図 (mm)
27.5
322.5 352.5
Beam Exit
675
78
989
www.lumentum.com 4
276
177.6 250
139.7
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PicoBlade Gen 2 Picosecond Micromachining Laser
仕様
一般仕様
コントローラ (19インチラック)
チラー (19インチラック)
パラメータ
規制順守
規制基準
IEC/EN 61010-1
IEC/EN 60825-1
IEC/EN 61000-6-2
IEC/EN 61000-6-4
CDRH 21 CFR 1040.10
Safety certification markings Laser safety warning label
www.lumentum.com 5
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ご注文コード ご注文例
PB2- - - - 0000R
出力レベル コード PRF コード NLO コード
アクセサリ
項目 製品コード
コントローラ
チラー
アンビリカルケーブル
チラーホース
アクセサリ
www.japanlaser.jp – lase@japanlaser.jp
North America
Toll Free: 844 810 LITE (5483)
Outside North America
Toll Free: 800 000 LITE (5483)
China
Toll Free: 400 120 LITE (5483)
© 2016 Lumentum Operations LLC
Product specifications and descriptions in this
document are subject to change without notice.
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