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極めてダイヤモンドに近い組成のカーボン膜を作製可能
DLC皮膜 特徴
1) 従来の単原子をイオンにするプロセスと異なり、原子を数千の塊にしてイオン化、基材に照射するプロセス
2) クラスターイオンの特異な照射効果により、極めてダイヤモンドに近い組成のカーボン膜を作製することができる
3) 高硬度・耐摩耗性・高耐熱・高導電性・耐防汚性の皮膜を生成できる
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このカタログについて
ドキュメント名 | GCIB方式DLC 超硬質炭素皮膜・高導電性炭素皮膜 製品概要 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 1.4Mb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 株式会社野村鍍金 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
この企業の関連カタログ
このカタログの内容
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GCIB方式DLC
超硬質炭素皮膜
高導電性炭素皮膜
製品概要
-株式会社 野村鍍金-
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DLC皮膜
特徴
ガスクラスターイオンビーム
(GCIB)
1) 従来の単原子をイオンにするプロセスと異なり、原子を数千の塊にしてイオン化、
基材に照射するプロセス
2) クラスターイオンの特異な照射効果により、極めてダイヤモンドに近い組成の
カーボン膜を作製することができる
3) 高硬度・耐摩耗性・高耐熱・高導電性・耐防汚性の皮膜を生成できる
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高硬度DLC皮膜(タフカーボン)
特徴
1) 高硬度Hv5000・耐熱性500℃・寸法保持性が良い
2) 炭素のみからなる薄膜(コーティング)で水素を全く含まない
3) アモルファス(非晶質)であり、結晶性を持たない 平滑で滑り性が良い
4) 従来膜(CVD)と比べて、2~3倍の硬さ、2倍の耐熱性、高い密着性あり
5) 低温形成プロセス100℃以下、従来膜(CVD)は200℃以上
(CVD)
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タフカーボン 用途例 ①
精密機械部品(摺動部品、ガイド部品)
効果:2~4倍
(比較相手:DLC処理した素材)
※非汚染性も良好(相手材:はんだ)
刃物(フィルム、紙、樹脂向け)
効果:2~4倍
(比較相手:コーティング未処理の素材)
非鉄金属向け工具チップ
効果:10~15倍
(比較相手:コーティング未処理の素材)
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タフカーボン 用途例 ②
インプラント(カラー部分)
チタン製であるカラー部分にタフカーボンを成膜し、チタン表面性状を改質す
ることで、細菌付着とバイオフィルム(=微生物の集合体)形成の抑制及び形
成されたバイオフィルムの剥離が容易になる。
口腔内からの細菌の入口となる
カラー部分にタフカーボンを成膜
協力:東北大学大学院歯学研究科、東京都市大学工学部機械工学科
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タフカーボン 用途例 ③
外科用器具
SUS製の外科用器具にプリオン(=病原体タンパク質)を付着させた。
プリオンが付着しにくい為、水洗で簡単に除去できる。
水洗
細菌を蛍光に光らせる 蛍光部分が確認されない
協力:東北大学大学院歯学研究科
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導電性DLC皮膜
(タフコンダクターB・タフコンダクターM)
特徴
1) 体積低効率と硬度
<タフコンダクターB> <タフコンダクターM>
体積抵抗率:5×10-3Ω・cm 体積抵抗率:1×10-3Ω・cm
硬 度:Hv4000相当 硬 度:Hv2000相当
2) 接触抵抗値
3500
プローブ接触抵抗
3000
2500 タフ
コン
2000 タフコンダクターB
はんだ
1500
1000
左記抵抗測定の概略図
500 タフコンダクターM (プローブ先端はクラウン型)
金めっき
0
0 10 20 30 40
荷重(g)
接触抵抗値(mΩ)
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タフコンダクターB・タフコンダクターM
皮膜特性①
・タフコンダクターMは、金めっきプローブに近い接触抵抗を示す
・タフコンダクターBは、接触抵抗がやや高いものの形状保持性が高い
金めっき タフコンダクター
10万回連続接触抵抗測定後の形状変化
(荷重30g×10万回 相手材:はんだ)
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タフコンダクターB・タフコンダクターM
皮膜特性②-1
・はんだ付着に対して、強い耐性がある
タフコンダクターM タフコンダクターB タフカーボン
金めっき
はんだ片
加熱後の結果は次ページへ
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タフコンダクターB・タフコンダクターM
皮膜特性②-2
金めっき タフコンダクターM タフコンダクターB タフカーボン
フラックス等は焦げ付いているが、
溶着
溶融はんだ片は粒になって弾かれている
<用途>
・電子部品検査装置の電極
・ICソケット向けプローブ 等
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野村鍍金は産業と社会の発展に貢献できる
価値ある企業をめざしてチャレンジし続けます
企業概要
企 業 名 : 株式会社野村鍍金
本 社 : 大阪市西淀川区姫島5-12-20
Tel (06)6471-0966 / Fax (06)6471-8299
事業内容: 産業機械向け表面処理加工
産業用機械製品の設計及び製作
表面処理プラントエンジニアリング
表面処理技術コンサルタント
資 本 金 : 1600万円
創 業 : 大正5年(1916年)
設 立 : 昭和17年(1942年)11月12日
代 表 者 : 代表取締役社長 野村修平
従業員数: 250名
事 業 所 : 大阪市西淀川区・神戸市北区・広島県福山市
栃木県鹿沼市・さいたま市中央区