ギ酸還元・水素還元 両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 ・卓上型酸化膜還元装置 Model VSS-450-300

Page 1:UJCL1605 MODEL VSS-450-3002016 UniTemp Japan Co., Ltd. All right reserved.Model VSS-450-300 ギ酸・⽔素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置 フラックスレス・フラックス⼊りはんだ両対応 最⼤ 300 mm x 300 mm 基板対応加熱エリア下⾯に IR（⾚外）⽅式のヒーターを装備し、最⼤到達温度 450℃、最⾼ 90 K/min.の⾼速昇温可能。オプションで、チャンバー上部ユニットに IR（⾚外）⽅式のヒーターを装備すると、最⾼ 150 K/min.の⾼速昇温に対応。⽔冷⽅式を採⽤し、最⼤ 90 K/min.の降温も実現しています。（450〜200℃間）プロファイルプログラム作成、制御にタッチパネルを採⽤。温度制御、ガス流量（MFC）、真空制御などのプロファイルプログラム作成の他、プロセスデータの保存を⾏うことができます。最⼤、300 x 300 mm、またはΦ300 mm までの対象物を加熱させることができます。＜主な特徴＞ フラックスレスはんだ（還元⽅式）・フラックス⼊りはんだ両対応 卓上型サイズながら、最⼤到達温度 450℃を実現 ⼤気リフロー、窒素ガスパージリフロー、真空リフローに標準対応 ギ酸還元リフロー、フォーミングガス（⽔素＋窒素）リフローにオプションで対応可 ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスや、その他のクリチカルなプロセスに使⽤することが可能 下⾯からの IR（⾚外）ヒーターによって加熱が⾏われるため、正確で⾼速な加熱を⾏うことが可能 適切な真空ポンプとの組み合わせによって、最⼤ 0.1 Pa（10-3hPa）の真空環境を実現可能 ⽔冷⽅式による⾼速降温に対応 タッチパネル式モニターを標準装備。タッチ操作による簡単なオペレーションが可能 50 セグメント（⾏）の温調プログラムを最⼤ 50 プログラム、本体に登録可能 経過時間、チャンバー内温度、チャンバー内真空度など、多彩なトリガーモードを使⽤可

Page 2:UJCL1605 MODEL VSS-450-3002016 UniTemp Japan Co., Ltd. All right reserved.＜主な対応アプリケーション＞ フラックス⼊りはんだリフロー フラックスレスはんだリフロー ギ酸ガスパージによる、酸化膜除去（酸化還元処理） フォーミングガス（⽔素＋窒素）による、酸化膜除去（酸化還元処理）卓上型真空はんだリフロー装置（モデル VSS-450-300）は、⼩型でリーズナブルなフラックス⼊りはんだリフロー、フラックスレスはんだリフロー装置をお探しのお客様のために設計されました。この装置は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応します。有効加熱エリアは 300 x 3000 x 50 mm ですので、⾼さのある部品実装にも余裕で対応することができます。プログラムで⾃由にガス流量を設定できるマスフローコントローラ（MFC）ガスラインが 1 ライン標準で装備されていますので、窒素ガスや⽔素と窒素の混合ガス（概ね、⽔素の混合量が5%未満程度までのもの）を接続してご利⽤できます。合計 4 系統のガスモジュールを追加することができ、同様にマスフローコントローラを使⽤したプログラムガス流量制御が可能です。チャンバー筐体は、 0.1 Pa（10-3mbar）までの真空度に耐えることができますので、接続する真空ポンプを適切に選定することで、⾼真空環境にも対応させることができます。また、本装置最⼤のポイントは、IR （⾚外）ヒーターによる最⼤ 90 K/min.以上の⾼速昇温速度に対応できることです。プロファイルプログラムは、新たに採⽤されたタッチパネル式コントローラによって正確に制御できます。そのため加熱プレート上の⾯温度バラツキは±1%以内に抑えることができ、加熱プレート中⼼部と端部の製品バラつきがほとんどありません。タッチパネル式コントローラ（SPS Controller）には、最⼤ 50 セグメント（⾏）のプログラムを 50通り登録しておくことができますので、希望のプロセスプログラムを簡単な操作によって呼び出し、実⾏できます。プログラム作成の他、実⾏したプロセスの各種データを CSV 形式で保存することもできますので、外部 PC に頼ることなく、本体のみですべての操作を完結することが可能です。ギ酸ガス還元、またはフォーミングガス（⽔素＋窒素）による酸化膜除去にも対応させることができますので、この装置 1 台で、⼤気リフロー、窒素ガスパリフロー、真空リフロー、ギ酸ガスリフロー、フォーミングガスリフローのすべてを⾏っていただくことができます。

Page 3:UJCL1605 MODEL VSS-450-3002016 UniTemp Japan Co., Ltd. All right reserved.＜技術データ＞モデル名 ︓VSS-450-300チャンバー材質 ︓アルミ合⾦有効加熱エリア ︓300 mm x 300 mm x 50 mm（W x D x H）チャンバー⾼さ ︓標準 50 mm※ オプションで、正⾯のぞき窓付 120 mm に変更可チャンバー真空耐久度 ︓0.1 Pa（10-3hPa）最⼤到達温度 ︓450℃温度安定度 ︓±1.5%以下ガス供給ライン ︓マスフローコントローラ（MFC）1 系統標準装備（最⼤毎分 5 リットル）最⼤ 4 系統装備可能加熱⽅式 ︓下部からの IR（⾚外）ヒーター（最⼤ 6 kW）※ オプションで、上部 IR ヒーターモジュール装備可最⼤昇温速度 ︓90 K/min. ※但し、対象物の熱質量による※ 上部 IR ヒーターオプション装備時は、150℃/min.最⼤降温速度 ︓90 K/min.（450~200℃） ※但し、対象物の熱質量による冷却⽅式 ︓循環冷却⽔による⽔冷⽅式 ※要チラー温度プロセス制御 ︓タッチパネル⽅式（SPS コントローラ）※温度プロファイルプログラム作成、実⾏、モニター機能、データ保存機能プロファイルプログラム登録数 ︓最⼤ 50 ステップ（セグメント）、50 プログラム登録可※プログラムのインポート、エクスポートに対応窒素ガス ︓0.35〜0.4 MPa（3.5〜4 bar）ガスライン供給⼝ ︓外径Φ6 mm、内径Φ4 mm ⽤スエージロックフィッティング継⼿真空ポンプ ︓要、外付け真空ポンプ真空ポンプ接続⼝ ︓ISO DN25-KFドライ圧縮空気 ︓0.55〜0.6 MPa（5.5〜6 bar）ドライ圧縮空気供給⼝ ︓外径Φ6 mm、内径Φ4 mm ⽤ワンタッチフィッティング継⼿電源仕様 ︓3 相 200 V, 50/60 Hz, 40 A※ 上部 IR ヒーターオプション装備時は、2 x 40 A（合計 80 A）外形⼨法 ︓504 x 544 x 700 mm（W x D x H）装置重量 ︓約 100 kg

Page 4:UJCL1605 MODEL VSS-450-3002016 UniTemp Japan Co., Ltd. All right reserved.＜オプション、及びアクセサリ＞VSS-FA I 外付けギ酸ガスモジュール（マスフローコントローラ単独） ※後付け可能VSS-FA II 内蔵ギ酸ガスモジュール（マスフローコントローラ単独）VSS-FA III 内蔵ギ酸ガスモジュール（標準装備マスフローコントローラ（窒素ガス⽤）を共⽤）VSS-FA-T ギ酸ガス除去⽤フィルターVSS-FT フラックス除去フィルターVSS-MFC 追加ガスライン⽤マスフローコントローラ ※標準装備のものを含め、合計 4 ラインまでVSS-MM チャンバー内湿度測定⽤センサー、データ記録機能VSS-OxAtAn チャンバー内残留酸素濃度測定⽤センサー、及びデータ測定・記録オプションVSS-PT 3 ⾊（⾚、⻩、緑）パトライトオプションVSS-TC 対象物温度測定⽤追加熱電対（K-Type）、及びデータ測定・記録オプションVSS-RVP 真空到達度 0.6 Pa 対応、ロータリー式真空ポンプ（オイルミスト付）VSS-RVP-C 耐腐⾷性真空到達度 0.6 Pa 対応、ロータリー式真空ポンプ（オイルミスト付）VSS-MP 真空到達度 100 Pa 以下対応、ダイヤフラムポンプVSS-MP-C 耐腐⾷性真空到達度 150 Pa 以下対応、ダイヤフラムポンプVSS-WC III 冷却能⼒ 5.3 kW クーラー付きチラーユニット＜温度プロファイルプログラム実⾏例＞＜お問い合わせ先＞ユニテンプジャパン株式会社 http://www.unitemp.jp/〒242-0003 神奈川県⼤和市林間 1-5-8 ナガラビル 4 階TEL : 046-204-7531 / FAX : 050-3730-8404E-mail : sales@unitemp.jp