真空蒸着・スパッタリンングのしくみ/光学膜のしくみのご紹介です
○真空蒸着・スパッタリンングのしくみ
真空蒸着とは、真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させ
発生した分子基板表面に堆積させて薄膜を形成させる技術です。
○光学膜のしくみ
光学膜とは、単層または多層の構成により成り立ち、各層の境界面で生じる
光の反射の干渉を利用し、必要な反射特性、および透過特性をもつ薄膜です。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 真空蒸着・スパッタリンングのしくみ/光学膜のしくみ |
|---|---|
| ドキュメント種別 | その他 |
| ファイルサイズ | 293.2Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 河合光学株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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