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種類豊富に取り揃えています。
半導体製造用、太陽電池製造用等様々な用途に対応
少量生産から大量生産まで対応
SiO2、BPSG、BSG、PSG、AlOx等様々な膜種を形成
SiCトレーの採用により重金属汚染を防止
低温（200℃）から中温（500℃）領域まで幅広い成膜が可能
このカタログについて
| ドキュメント名 | 半導体製造用の常圧CVD装置 太陽電池製造用の常圧CVD装置の開発 の 株式会社天谷製作所 会社案内 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 2.3Mb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社天谷製作所 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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