プラズマシステムの開発、及び、販売　社魁半導体製品カタログ

SAKIGAKE プラズマ技術で未来を切り拓く 株式会社魁半導体 製品カタログ F O R E S I G H T SAKIGAKE 魁半導体 https://sakigakes.co.jp/ × A C T I O N Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved.

常に新しい技術を提供することで 会社概要 豊かで安全な、生活しやすい社会作りに貢献します。 当社は国の資産である研究成果を活用し会社を設立した経緯からも、社会貢献を第一に目指 して会社を経営しています。お客様と社員の思いを大切にして常に新しい技術を提供します。 ■ 社名 株式会社魁半導体 (サキガケハンドウタイ) ■ 創業 2002年 (京都工芸繊維大学発ベンチャー企業) ■ 主な事業内容 プラズマシステムの開発、及び、販売 ■ 所在地 (京都本社) 〒600-8897 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地 TEL：075-204-9589 FAX：050-3488-5883 https://sakigakes.co.jp ※JR 京都駅より１駅 ■ 代表者 代表取締役 田口 貢士 ■ 主な受賞歴 2006年 「ものづくり認定企業」に認定 2009年 「ものづくり認定企業」に認定 2010年 関西フロントランナー大賞2010受賞（粉体プラズマ処理技術） 2010KANSAIモノ作り元気企業100社に選定 京都府「知恵の経営」実践モデル企業に認証 2011年 平成23年度京都府中小企業優秀技術賞受賞（粉体プラズマ処理技術） 2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」（大面積大気圧プラズマ装置SKIp-CBL300） 優良賞、産学官連携特別賞受賞 2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」（世界初の液体電極を用いた粉体処理技術）奨励賞受賞 2012年 平成24年度科学技術分野の文部科学大臣表彰創意工夫功労賞受賞 2012年 「関西ものづくり新撰」認定(大気圧紛体プラズマ処理装置「PPU‐800 ） 2012年 京都府中小企業応援条例に基づく「元気印認定制度」に認定 2013年 「関西ものづくり新撰」認定(回転式真空プラズマ装置「YHS-DΦS」） 2014年 「新連携連携事業計画」認定(粉体や細かい部品を効率的に一括表面処理できる プラズマ処理装置の事業化） 2015年 ベストヒント賞受賞 2016年 「“超”ものづくり部品大賞」（ガス供給不要誘電体バリア放電電極）電気・電子部品賞受賞 2018年 「関西ものづくり新撰」認定(流動層式大気圧プラズマ粉体処理装置「LLPP ） 京都モデル ワーク・ライフ・バランス認証企業 2021年 令和2年度京都市輝く地域企業表彰 地域企業輝き賞 受賞 京（きょう）から取り組む健康事業所宣言 認定 ■ 納入実績企業一覧（五十音順・敬称） ＜企業＞ ＜大学＞ 旭化成株式会社 凸版印刷株式会社 大阪大学 株式会社朝日ラバー 豊田合成株式会社 大阪歯科大学 AGC株式会社 株式会社パイロットコーポレーション 京都大学 アルバックテクノ株式会社 パナソニック株式会社 京都工芸繊維大学 オリンパス株式会社 日立化成工業株式会社 神奈川大学 加賀東芝エレクトロニクス株式会社 株式会社日立製作所 九州大学 株式会社カネカ 富士フイルム株式会社 神戸大学 京セラ株式会社 株式会社本田技術研究所 神戸大学大学院 株式会社シード 三菱鉛筆株式会社 滋賀県立大学 シャープ株式会社 三菱電機株式会社 静岡大学 ソニー株式会社 株式会社村田製作所 東京大学 ダイキン工業株式会社 株式会社メニコンネクト 東京工業大学 ダイハツ工業株式会社 株式会社リコー 東京農業大学 THK新潟株式会社 YKK株式会社 など 東京理科大学 TDK株式会社 東北大学 ＜研究機関＞ デュポン株式会社 名古屋大学 大阪市立工業研究所 株式会社東芝 北海道大学 国立研究開発法人産業技術総合研究所 東レ株式会社 山形大学 独立行政法人物質・材料研究機構 東レエンジニアリング株式会社 立命館大学 など 国立研究開発法人理化学研究所 など 0 1 0 2

常に新しい技術を提供することで 会社概要 豊かで安全な、生活しやすい社会作りに貢献します。 当社は国の資産である研究成果を活用し会社を設立した経緯からも、社会貢献を第一に目指 して会社を経営しています。お客様と社員の思いを大切にして常に新しい技術を提供します。 ■ 社名 株式会社魁半導体 (サキガケハンドウタイ) ■ 創業 2002年 (京都工芸繊維大学発ベンチャー企業) ■ 主な事業内容 プラズマシステムの開発、及び、販売 ■ 所在地 (京都本社) 〒600-8897 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地 TEL：075-204-9589 FAX：050-3488-5883 https://sakigakes.co.jp ※JR 京都駅より１駅 ■ 代表者 代表取締役 田口 貢士 ■ 主な受賞歴 2006年 「ものづくり認定企業」に認定 2009年 「ものづくり認定企業」に認定 2010年 関西フロントランナー大賞2010受賞（粉体プラズマ処理技術） 2010KANSAIモノ作り元気企業100社に選定 京都府「知恵の経営」実践モデル企業に認証 2011年 平成23年度京都府中小企業優秀技術賞受賞（粉体プラズマ処理技術） 2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」（大面積大気圧プラズマ装置SKIp-CBL300） 優良賞、産学官連携特別賞受賞 2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」（世界初の液体電極を用いた粉体処理技術）奨励賞受賞 2012年 平成24年度科学技術分野の文部科学大臣表彰創意工夫功労賞受賞 2012年 「関西ものづくり新撰」認定(大気圧紛体プラズマ処理装置「PPU‐800 ） 2012年 京都府中小企業応援条例に基づく「元気印認定制度」に認定 2013年 「関西ものづくり新撰」認定(回転式真空プラズマ装置「YHS-DΦS」） 2014年 「新連携連携事業計画」認定(粉体や細かい部品を効率的に一括表面処理できる プラズマ処理装置の事業化） 2015年 ベストヒント賞受賞 2016年 「“超”ものづくり部品大賞」（ガス供給不要誘電体バリア放電電極）電気・電子部品賞受賞 2018年 「関西ものづくり新撰」認定(流動層式大気圧プラズマ粉体処理装置「LLPP ） 京都モデル ワーク・ライフ・バランス認証企業 2021年 令和2年度京都市輝く地域企業表彰 地域企業輝き賞 受賞 京（きょう）から取り組む健康事業所宣言 認定 ■ 納入実績企業一覧（五十音順・敬称） ＜企業＞ ＜大学＞ 旭化成株式会社 凸版印刷株式会社 大阪大学 株式会社朝日ラバー 豊田合成株式会社 大阪歯科大学 AGC株式会社 株式会社パイロットコーポレーション 京都大学 アルバックテクノ株式会社 パナソニック株式会社 京都工芸繊維大学 オリンパス株式会社 日立化成工業株式会社 神奈川大学 加賀東芝エレクトロニクス株式会社 株式会社日立製作所 九州大学 株式会社カネカ 富士フイルム株式会社 神戸大学 京セラ株式会社 株式会社本田技術研究所 神戸大学大学院 株式会社シード 三菱鉛筆株式会社 滋賀県立大学 シャープ株式会社 三菱電機株式会社 静岡大学 ソニー株式会社 株式会社村田製作所 東京大学 ダイキン工業株式会社 株式会社メニコンネクト 東京工業大学 ダイハツ工業株式会社 株式会社リコー 東京農業大学 THK新潟株式会社 YKK株式会社 など 東京理科大学 TDK株式会社 東北大学 ＜研究機関＞ デュポン株式会社 名古屋大学 大阪市立工業研究所 株式会社東芝 北海道大学 国立研究開発法人産業技術総合研究所 東レ株式会社 山形大学 独立行政法人物質・材料研究機構 東レエンジニアリング株式会社 立命館大学 など 国立研究開発法人理化学研究所 など 0 1 0 2

W H A T I S プラズマ技術資料 …………………… 05 P L A S M A ? 1.表面改質 2.洗浄・エッチング プラズマ処理 用途・利用産業 …… 08 真空プラズマシリーズ ……………… 09 大型真空プラズマシリーズ 大容量真空プラズマシリーズ プラズマエッチャーシリーズ 小型真空プラズマシリーズ プラズマとは物質の第4の状態 粉体処理プラズマシリーズ ………… 14 回転式卓上真空プラズマシリーズ 電子 粉体処理プラズマシリーズ － 液面・液中大気圧プラズマシリーズ 大規模粉体処理プラズマシリーズ ＋ － 大気圧プラズマシリーズ …………… 19 中性子 プラズマの効果 ＋ 反応性の高いプラズマ状態の分子・原子は、通常状態で リモート型大気圧プラズマシリーズ は得られない特異な化学反応を起こします。 ダイレクト型大気圧プラズマシリーズ 表面改質や有機物の除去、エッチング、薄膜形成などは 陽子 この現象を利用したプロセスです。 チューブ内壁・凹凸面処理プラズマシリーズ 電離した分子（原子）の模式図 プラズマ測定製品 …………………… 23 小型測定機器 その他製品ラインナップ エレクトロスプレー ESC-100 / ディップコーター YN2-TKB 受託処理・受託研究 ………………… 27 プラズマ装置レンタル ……………… 29 0 3 0 4

W H A T I S プラズマ技術資料 …………………… 05 P L A S M A ? 1.表面改質 2.洗浄・エッチング プラズマ処理 用途・利用産業 …… 08 真空プラズマシリーズ ……………… 09 大型真空プラズマシリーズ 大容量真空プラズマシリーズ プラズマエッチャーシリーズ 小型真空プラズマシリーズ プラズマとは物質の第4の状態 粉体処理プラズマシリーズ ………… 14 回転式卓上真空プラズマシリーズ 電子 粉体処理プラズマシリーズ － 液面・液中大気圧プラズマシリーズ 大規模粉体処理プラズマシリーズ ＋ － 大気圧プラズマシリーズ …………… 19 中性子 プラズマの効果 ＋ 反応性の高いプラズマ状態の分子・原子は、通常状態で リモート型大気圧プラズマシリーズ は得られない特異な化学反応を起こします。 ダイレクト型大気圧プラズマシリーズ 表面改質や有機物の除去、エッチング、薄膜形成などは 陽子 この現象を利用したプロセスです。 チューブ内壁・凹凸面処理プラズマシリーズ 電離した分子（原子）の模式図 プラズマ測定製品 …………………… 23 小型測定機器 その他製品ラインナップ エレクトロスプレー ESC-100 / ディップコーター YN2-TKB 受託処理・受託研究 ………………… 27 プラズマ装置レンタル ……………… 29 0 3 0 4

プラズマ技術資料 1.表面改質 官能基修飾の原理 プラズマ OH* N* O * O2 3 H2O H O O* 2 N O 2 2 N2 O3* OH OH O OH N OH O 基板 基板 基板（ステンレス・ガラス・PP・アルミ・シリコンなど）にプラズマを照射するとプラズマ中の電離された分子が 極性基（OH基など）として表面に修飾され水のぬれ性が劇的に向上します。 ポリカーボネート表面の組成評価 XPS測定から求めた結合状態 実験内容 100 大気圧プラズマ(窒素)と真空プラズマ(空気)で 90 ポリカ―ボネートを処理し、表面の組成を比較した。 80 結果 70 水色 ＝ 両機種共に処理後カルボキシル基COOHが増加 60 carbonate 濃緑 ＝ 両機種共にCOの二重結合が増加 COOH 黄緑 ＝ 両機種共にCOの一重結合が増加 C=O 50 C-O オレンジ ＝ 大気圧プラズマにてC-Nの結合が増加 C-N 40 C-C, C-H 真空プラズマでも微量の窒素が現れた。 30 考察 両機種共に酸素を中心とした官能が基表面に生成された。 20 大気圧プラズマは窒素をキャリアガスにする為 10 真空プラズマより多く窒素が修飾された。 この効果を利用しキャリアガスを制御する事により 0 未処理 真空プラズマ処理 大気圧プラズマ処理 表面をコントロール出来る事が予想できる。 0 5 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 結合状態比 [%]

素材・形状別表面改質事例 PTFE 接触角 接触角とは、基材と 100° 4° 水滴のなす角度 値が小さいほど 高い濡れ性を示す 水滴 基材 before after 撥水化に成功！ 粉体の親水化 チューブ内壁 フッ系素ガスを導入し 水に浮かぶ炭素粉体も フッ素樹脂製でもインクを 撥水処理も可能に！ 分散し真っ黒に！ 毛細管現象で吸い上げ！ 29° 91° 103°120° before after before after before after 大気暴露時間と親水性の関係 プラズマ処理後、常温常湿の大気中に暴露し接触角を測定 90 結果 PET(15s) 80 親水性は2,3日後までに変動し PET(1min) 70 その後は一定の値で飽和する。 SUS(15s) 60 SUS(1min) 処理効果の維持 50 ガラス(15s) 低温・低湿環境、真空中、光を 40 ガラス(1min) 遮断した環境では処理効果 30 の減衰は抑制される。 PET未処理 20 接着・塗装、水性溶液への浸漬 SUS未処理 など行い、界面が大気に暴露 10 ガラス未処理 されない状態にすることで 0 経時的な変化は生じなくなる。 処理0 直後 1日1後 2日2 後 3日3 後 4日4 後 5日5 後 6日6 後 フッ素系ガスによる撥水化では 経過日数 大気中に暴露した際の処理効果 の経時的な変化は生じない。 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 0 6 接触角(°)

プラズマ技術資料 2. 洗浄・エッチング 化学的エッチングの原理 プラズマ CO H 2 2* OH* CO CO O3* OH* H2O H O 2O 2 N* H N O* 2O 2 O2 N O3* 2 有機物 基板 基板 基板に付着した有機物は、プラズマ照射することによってプラズマ中の活性な分子と反応し気化します。 これによって洗浄剤なしで有機物の除去が可能になります。 物理的エッチングの原理 酸化膜の除去や半導体の精密な凹凸加工に使われている技術です。 マスク イオンの衝突により物理的に 未処理サンプル 表面をエッチングします (SiO2、Si 等) イオン マスク外の部分は nm～μmで制御が可能 マスクで守られている部分は そのままの形状を保ちます 水素プラズマで酸化膜の還元 表面をエッチングしながら組成を解析した結果 酸化した銅を、水素プラズマで還元 11 酸素プラズマ 0.05.5 水素プラズマ 00 0 1 2 3 0 1 2 3 深さ(nm) before after 水素プラズマでは酸素が減少し還元されている。 0 7 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. O/Cu

プラズマ処理 用途・利用産業 エレクトロニクス 粉体の表面改質 塗工の前処理 リチウムイオン電池の電極材に用いる炭素粉体の親水処理 メッキの密着力を強化 炭素粉体を使った材料開発の表面改質 樹脂成型品のスタンプ密着力強化 カーボンナノチューブの親水化 飲料水容器の印刷力を強化 水溶性インクを生成する粉体の親水処理 ネジのコーティング密着力を強化 ダイヤモンド粉体の表面改質 Oリングのコーティング力を強化 フィラーやスラリーに用いる粉体の表面改質 光学関連 廃材を利用した粉体の表面改質 カメラレンズの洗浄 各種粉体の微粒子化 コンタクトレンズの親水性向上 半導体・電子部品 光ファイバーの親水処理 ワイヤーボンディングの接着強化 自動車 コンデンサーのコーティング前処理 自動車エンジン部品に付着する有機物の除去 ウエハーの洗浄・接着強化 自動車外装品・複合材料の表面改質 LSIの洗浄・表面改質 繊維への前処理 LEDの接着強化 中空糸膜フィルターなどろ過膜の親水性向上 ノズルの液切れに関する表面改質 羊毛など繊維の染色力を強化 プリント配線の濡れ性向上 その他 ディスプレイ PPやPCなどの樹脂成型品の接着強化 タッチパネルや多層フィルムの接着力を強化 CDやDVDスタンパーの表面洗浄 有機ELや太陽電池など薄膜形成のムラを防止 マテリアル マイクロ流路の接着前処理 マイクロ流路などの微細溝の親水性向上 プリンターヘッドの洗浄 チューブ内の空気だまり防止・親水化 医療・バイオ シャーレなどの細胞培養の活性効果 歯科用合金の接着強化 歯科医療の滅菌・殺菌 カテーテルの接着強化 チューブ内壁の洗浄 マイクロプレートに抗体の密着を強化 不織布の親水性向上 医療用器具の滅菌処理 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 0 8

真空プラズマシリーズ マイクロ流路への活用！ PDMS ガラス板 ガラスとPDMS基板を、接着剤を使わず接着！ 親水化により流量が衰えにくいマイクロ流路製作が可能 炭素膜の製膜 有機薄膜の除去に！ 各種保護膜やマスクに活用！ 油性ペンのインクも除去！ドライ洗浄で環境に優しく安全な処理！ ガラス基板 炭素膜741nm プラズマ プ ラ 未処理 １０分後 ２０分後 ズ マ プラズマ30分 before after ５０分後 ４０分後 ３０分後 堆積レート：約25nm/min 分解されて気化していく ガラス基板のエッチング 細胞培養の前処理に！ 真空度の違いによるエッチングレートのデータ シャーレ等の前処理で、細胞の培養効率が増殖！ 2020 0 151050 1010 0 5050 00 00 5500 110000 115500 220000 プラズマ プラズマ 圧力(Pa) なし あり CPE-200、アルゴン300Wで処理 120時間後の細胞数の評価：プラズマ処理後は増殖 低圧ほどエッチングレートが高く深く掘れることがわかる 資料提供：株式会社マテリアルデザイン 0 9 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. エッチングレート （nm/min）

大型真空プラズマシリーズ ボトル内面・外面を表面改質！容器のプラズマ処理で細胞培養効率化！ 容器投入イメージ 真空プラズマ装置 US-80A 生産対応 サイズ : 本体 745 (W) × 695 (D) × 1445 (H) 製 品 概 要 ■正式名称 真空プラズマ装置 US-80A ■特徴 ・500 mLペットボトルの場合80本を一括でプラズマ処理可能 最小約50 mL～約100 L容器の処理が可能。（容器のサイズ形状によって一度の処理本数は変わります。） ・処理時間：10分～20分（材質や効果など条件により処理時間が変動します） ・電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応 ■用途 ・PETなどの樹脂ボトル、ガラス瓶、缶などの金属容器内面および外面の表面改質 ・細胞培養容器への処理 ・PETなどの樹脂ボトル、ガラス瓶、缶などの金属容器の表面印刷の前処理 製 品 仕 様 型式 US-80A 外形寸法 W 745 mm、D 695 mm、H 1445 mm（蓋閉時、突起部含まず） 重量 約 250 g 操作系 タッチパネル 処理圧力調整 APCによるプロセス圧力自動制御 処理量 80本／バッチ 【アイボーイ500mLボトル(直径 75mm、高さ 160mm)使用時】 ガス導入 1系統、MFCによる流量自動制御 放出電力 13.56 MHz max.1 kW 必要ユーティリティ 電源 3 相 200 V 15 A ＋ 単相 200 V 15A、圧空 CDA 0.3 MPa Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 1 0

大容量真空プラズマシリーズ 特 徴 用 途 ・多段式の電極で一度に大量処理可能！ ・ワイヤーボンディングの前処理 → 生産に最適！ ・LEDへのポッティング前処理 ・電極を変えることで大型製品の処理も ・ペットボトルのコーティング前処理 → 通常の装置には入り切らない大型品も処理可能！ ・大型成形品の親水化 ・必要最小限のコンパクトな設計！ → 仕様を満たす必要最低限の大きさに収めました！ ・細胞培養容器への前処理 内 観 A. 扉を開け、マガジンを装填していない状態の電極部 B. マガジンを装填した状態の電極部 C. マガジンにサンプルを配置した状態 A B C マガジン サンプル サンプル 仕 様 ■ 外形寸法 W 772 mm ×D 775 mm ×H1500 mm （突起含まず） ■ 処理槽内寸法 W 450 mm ×D 576 mm ×H 360 mm ■ 圧力招請 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整 ■ 真空計 大容量真空プラズマ装置 アナログ表示ピラニ式真空計 SCB-106 ■ ガス系統 生産対応 1系統 ■ 電源 単相100V,15A (50Hz/60Hz) 1 1 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved.

プラズマエッチャーシリーズ 用 途 特 徴 ■ PTFE(テフロン)の親水化(要NH3) ■ 生産現場での製造工程に組み込み可能 ■ 各種素材の撥水処理(要CF ) → 既存の設備と合わせての使用が可能となる為、 4 コストや時間、製造効率もUP ■ シリコン膜(基板)のエッチング処理(要CF4) ■ シンプルで導入コストを抑えた価格帯 ■ ガラス膜(基板)の形成(要バブラー) → 企業努力により低価格化した製品販売を実現 ■ 細胞培養容器への処理 プラズマエッチャー プラズマエッチャー CPE-Aシリーズ CPE-Sシリーズ 生産対応マルチガス RF電源 生産対応マルチガス RF電源 プラズマエッチャー プラズマエッチャー CPE-Mシリーズ CPE-Bシリーズ 生産対応 マルチガス RF電源 生産対応 マルチガス RF電源 CPE-A CPE-S CPE-M CPE-B (オート) (セミオート) (マニュアル) (バラックタイプ) タッチパネル ○ ○ × × 自動圧力調整(バルブ) ○ × × × オートモード ○ ○ × (ワンボタンオペレーション) ○ マスフロ オプション有 オプション有 ○ ○ (マスフロコントローラーガス導入) × × 自動整合機 ○ ○ ○ ○ Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 1 2

小型真空プラズマシリーズ 洗浄からエッチング・製膜まで幅広い処理が可能！ 特 徴 ■エッチング・薄膜形成・撥水化・酸化還元 ■高い均一性 様々なガスが使用でき、幅広い処理が可能※ グロー放電によりステージ全体を一括で処理 ■大量生産にも対応 ■コンパクト・簡易な操作性 2,00枚/1バッチでリードフレームを処理する 家電感覚で使用できる卓上装置も 大容量装置で生産性を向上 小型真空プラズマ装置 卓上真空プラズマ装置 NMR-Gtsシリーズ YHS-Rシリーズ 研究開発 研究開発 ステージ : Φ100mm×電極間距離 (H) 6mm 電力 : 約45W (最大) ステージ : Φ100mm 電力 : 約45W (最大) サイズ : 本体 230 (W)×221 (D)×120 (H) サイズ : 本体 220 (W)×250 (D)×300 (H) 撥水化 卓上真空プラズマ装置 卓上撥水化装置 ガス導入YHS-Gシリーズ YHS-Ωシリーズ 生産対応 マルチガス 生産対応 マルチガス ステージ : Φ100mm~ 電力 : 約170W ステージ : Φ100mm~ 電力 : 約170W サイズ : 本体 562 (W)×562 (D)×360 (H) サイズ : 本体 562 (W)×562 (D)×360 (H) オプション ・ステージサイズ・チャンバーの高さ変更 ・排気速度の向上 ・0.1Pa以下の高真空対応 ・高周波電源 ・加熱機構・冷却機構 ・デジタル表示 ・タッチパネル操作 Φ400 ・クリーンボックス・保管容器 Φ250 Φ100 オーダーメイドにも柔軟に対応します。 ※NMR-Gts、YHS-Rはガス導入不可、製膜不可 1 3 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved.

粉体処理プラズマシリーズ リチウム電池への応用 フッ素系樹脂を使わないので導電性の高い電極材に！ 処理前 処理後 負極(フッ化黒鉛) 水面に浮く粉体 分散した粉体 正極(リチウム) ビーカー 純水 大掛りな 表面処理と 真空排気ユニット 分散を同時に！ が不要！ 処理時間、コスト面の 課題を大きく改善！ 界面活性剤が不要で 処理した粉体の再分散も容易 環境問題にも貢献 粉体の凝集を改善！ 純水へ分散させた際の凝集が改善！有機溶剤と同等の分散性に 各条件での粒径分布 各条件での平均粒径 プラズマ処理前後の炭素粉体を純水と溶剤に ① 処理なし：純水へ分散 分散させ、粒経分布と平均粒径を測定した。 ② 処理あり：プラズマ処理後に純水へ分散 ③ エタノール：エタノールへ分散 Oリングのコーティング前処理に！ 両面を一括処理！親水性が劇的に向上！裏返す工程が無くなり、コスト低減に貢献 液滴 液滴 表 after 液滴 before 裏 装置：回転式真空プラズマ装置 YHS-DΦS 処理時間：5分 after 材質：樹脂Oリング Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 1 4 平均粒径(μm)

回転式卓上真空プラズマシリーズ 粉体の新しい可能性を生みだす プラズマ チャンバー 回転筒 被処理物 チャンバー模式図 回転式卓上 真空プラズマ装置 YHS-DΦS 生産対応マルチガス RF電源 サイズ : 本体 720 (W)×450 (D)×450 (H) 回転部 φ210×200 特 徴 装置名称 回転式真空プラズマ装置 ■ ドライプロセスによる粉体表面改質 型式 YHS-DφS ■ ガス導入により様々な処理が可能 （親水化・撥水化） 外形寸法 W720mm, D450mm, H450mm ■ スパッタリング・製膜にも対応可能 チャンバー Φ210mm, H200mm ※ 対応仕様のみ 寸法 ※オプションにて変更対応可能 ■ 生産対応の大型化も可能 重量 40kg 処理能力 300mL/1batch 主 な 用 途 電源出力 300W(13.56MHz) ・電池の負極材向け炭素粉体の分散性向上 1系統 ・樹脂粉体の親水性向上（高機能樹脂開発） ガス系統 ※オプションにて複数系統対応可能 ・各種粉体への金属スパッタリング 浮き子式流量計 ガス制御 ・粉体への絶縁膜製膜 ※オプションにてMFC対応可能 ・小型部品の表裏一括処理 電源 100V, 15A (60Hz/50Hz) 1 5 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved.

粉体処理プラズマシリーズ 真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入、乾式で全面一括処理！ 特 徴 用 途 • 医療試薬・化学試料の表面処理 ■エッチング・薄膜形成・撥水化・酸化還元 • 研究用炭素粉体材料の親水化処理 粉体に対しても、幅広いプラズマ処理が可能 ■高い均一性 グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保 ■少量・大容量化にも対応 小型回転式 処理容量の縮小・拡大に柔軟に対応 真空プラズマ装置 ■作業工程の省略 MUG-80 チップなどの小部品を裏返す手間が不要 研究開発 ■乾式処理 気相処理のため乾燥工程が不要 サイズ : 本体 400 (W)×353 (D)×340 (H) 回転部 φ80×42 ■省スペースでの作業 卓上設置できるコンパクトサイズ 卓上粉体供給装置 Z03-10 ステッピングモーター駆動による高精度粉体供給。 通信機能付きの電子天秤（オプション）と連携させることで、より高精度の供給が可能。 定速供給の実施例 テスト条件 使用粉体：ガラス粉末(粒径：200～300μm) ZO3 装置外観 サイズ : 外形寸法 100(W)×200(D)×215(H) ※突起含まず 粉体へのドライコート技術 例）プラズマ処理により、一粒一粒の表面に炭化水素膜を形成 30分間のプラズマ処理 用途 水面に浮く！ • 粉体の撥水処理 • 金属粉体への絶縁膜付与 ガラス粉体 • 粉体表面の摺動性向上 等に 水中に沈む コーティング サンプル：ガラスビーズ（粒径38-53μm） Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 1 6

液面・液中大気圧プラズマシリーズ 特 徴 液面プラズマによる 液中プラズマによる 処理前 混合処理 分散性向上 連続処理が可能 減圧が不要で連続的な処理・生産が可能 強力な処理パワー 液面プラズマ 集中的な放電により迅速に親水化 液中プラズマ 衝撃波で凝集を解砕しながら処理 分散工程の省略 表面改質と分散工程を同時に 炭素粉体などの濡れにくい 液面プラズマにより液面の粉体を 液中プラズマにより液中に 粉体は液面に浮遊 表面改質粉体は液中に沈降する 沈降した粉体を表面改質し 分散性が向上 大容量大気圧液面 大気圧液中プラズマ装置 プラズマ装置 DKN-128 SKIp-ZKB 研究開発 生産対応 サイズ : 外形寸法 685 (W)×425 (D)×440 (H) サイズ : 外形寸法 860 (W)×500 (D)×560 (H) 大気圧液面プラズマ装置 ASS-400 パルス状の高電圧を液中の電極間 研究開発 に印加し、放電を行う。高電界や 活性種、衝撃波、紫外線等を利用 液中での放電 サイズ : 外形寸法 し、親水化だけでなく、分解、解 450 (W)×300 (D)×630 (H) 砕、合成プロセスにも用いられる。 液面に薄膜/液中に粉体を形成 評 価 結 果 ■ FTIR（フーリエ変換赤外分光光度計）による膜質の分析 水面上に形成された膜 水中で生成された粉体 原料にHMDSを使用した場合 ( Hexamethyldisilazane ) | | -Si-O-Si- | | 水面/水中でケイ素系（シリコン樹脂・ガラス）の膜/粉体を形成 シリコーン樹脂に類似のスペクトル 概要 水面に吹き付け/ 原料にTEOSを使用した場合 ( Tetraethyl orthosilicate ) 水中に噴出しながら キャリアガス プラズマ生成 Si-CHx | | -Si-O-Si- | | 液体原料 液面に膜が！ （HMDS, TEOS等） ガラス(SiO2)系(シリカゲル)に類似のスペクトル 1 7 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved.

大規模粉体処理プラズマシリーズ ガラス管 粉体 液面 純水 水を吸い上げる高さ激変！ 評 価 方 法 ガラス管に粉体を充填、純水に浸して吸い上げる速度を比較した。図は3分後の様子。 ほぼ吸い上げない処理前に対し、処理後は毛細管現象により約20mm吸い上げた。 特 徴 し く み ・乾式、かつ、大気圧プロセス 粉 攪 粉体にプラズマを含んだガスを供給 ・スケールアップが容易で 体 拌 一度に大量の処理が行える！ ガスと粉体が混ざり、流動性が向上 → 流動床によって可能に （流動床） 撹拌性が飛躍的に向上、 用 途 例 満遍なくプラズマ処理が可能に ・インクジェットプリンタ用インクの分散 流 動 床 ・リチウムイオン電池の電極材開発 プラズマを 含んだ気泡 流動床とは、粉体に対して上向きに プラズマ ・水性化粧品の原料への表面改質 生成部 流体を噴出させることで、粒子を流 体中に懸濁浮遊させた状態を指す。 ガス供給 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 1 8 → →

大気圧プラズマシリーズ ワイヤーボンディングの接着強化に！ ピール強度が3倍以上の実績！ コンベアを組み合わせたインラインシステム例 プラズマ 接着剤塗布 接着 ワイヤーボンディング ワーク2 搬送方向 IC 基 板 ワーク1 排気ダクト 金パッド-金ワイヤーのワイヤーボンディングのピール試験結果 接着不良による歩留りを改善！ 接着ポイント 処理前 処理後 ① ② ④ ⑤ ③ 大気圧プラズマ処理(S5000-BM)によりワイヤーボンディングの引っ張り強度が3倍以上に上昇！ 各種金属・樹脂等の貼り合わせ強化に！ 密着性強化実験 プラズマ処理により接着力が強化！ サンプル (SUS, PE, 多様な材質で強化可能、短時間の処理でも十分な効果！ Al) PE×PE SUS×SUS AI×AI 150 N2プラズマ処理 2液型エポキシ系接着剤 (ベストンPM-4) 100 接着面：5mm×10mm 50 サンプルの接着面をプラズマ処理後 接着剤を塗布し固化 0 接着力をフォースゲージで評価 時間 時間 時間 印字の前処理に！ 繊維の内側まで処理！ 印刷できない素材にスタンプが可能！ 不織布へのプラズマ照射で水が染み込む！ ハンコ スポイト プラズマ処理 未処理 はじいて 印字できず 未処理 プラズマ処理 はじいている 処理済 処理済 くっきり印字！ 水が染み込む！ 1 9 Copyright (C) 2021 SAKIGAKE-SEMICONDUCTOR Co., Ltd. All Rights Reserved. 接着力(N)