テフロンの親水化・接着強化!
◆ドライプロセスによる製膜・エッチング
◆ガス導入により様々な処理が可能
◆1ボタン操作で生産にも使用可能
◆精度を要求される実験や、特殊な用途に
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このカタログについて
| ドキュメント名 | コンパクトに製膜・エッチング プラズマエッチャー CPE-300S |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 759.1Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社魁半導体 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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コンパクトに製膜・エッチング
■ ドライプロセスによる製膜・エッチング
■ ガス導入により様々な処理が可能
■ 1ボタン操作で生産にも使用可能
■ 精度を要求される実験や、特殊な用途に
主な用途
SiO2保護膜の製膜
シリコンウェハのエッチング
樹脂の撥水処理
PTFEの親水化
CPE-300S
Page2
テフロンの親水化・接着強化！ 撥水化も可能！
プラズマ処理で塗装が剥がれない！ 不織布（ベンコットン）に処理
（CPE-200A使用、フッ素系ガスで処理）
1200
未処理：水が染み込む 処理済：水を弾く
800 プ
ラ
ズ
400 マ
未 処
未処理 処理済 処 理
0 理 色水 ベンコットン
製膜
各種保護膜やマスクに活用！
プラズマ処理によりガラス表面に膜が形成
炭素膜741.7nm
ガラス基板
プ
ラ
ズ
マ
プラズマ30分
before after
堆積レート：約25nm/min
装置名称 プラズマエッチャー
型式 CPE-300S
外形寸法 680(W)×785(D)×1020(H)
Φ300mm, H30mm
チャンバー寸法
※オプションで変更可能
重量 80kg
電源出力 300W(13.56MHz)
1系統
ガス系統
※オプションにて複数系統対応可能
ガス制御 マスフローコントローラー
電源 100V, 15A (50Hz/60Hz)
接着力(kPa)