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スラリー分散剤
ヴァニラップベースシリーズは、砥粒を均一に分散・安定させ、再分散性にも優れ凝集を防ぐ、スラリー分散剤です。
ダイヤモンドペレット等の固定砥粒、研磨砥石に最適な水性クーラントもラインナップしております。
又、ご要望により貴社のご使用条件・環境に応じて製品開発を行います。
金属・セラミック等の電子部品材料から、サファイア、石英、水晶やレンズ・プリズム等の光学部品材料、 SiやGaAs等の半導体ウェーハのラッピング・ポリッシング加工など超微細加工に適した砥粒分散剤をご提供をしております。
このカタログについて
| ドキュメント名 | ヴァニラップベース |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 303.1Kb |
| 関連製品 | |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | ヴァーデン販売株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログ（ヴァニラップベース）の内容
Page 1:COD BOD ※ ご要望により貴社使用目的 使用環境に応じて製品開発を行います。 >>> お問い合わせ先ご不明な点がございましたらお問合せ下さい。水性タイプ油性タイプ50 60280 130180 170ダイヤモンドペレット用加工液 ガラスHD、サファイヤなどヴァニラップベース №130 1∼2 8.20 − 防錆添加剤オクタ ヴァニソール№18S 3∼5 9.50 223 350ダイヤモンド8.25 250240ペレット研削ポリッシング用分散剤 金属・セラミックス・ガラスなどヴァニラップベース №174 3∼5 9.20 ダイヤモンド ポリッシング用分散剤 低発泡タイプ 金属・セラミックス・ガラスなどヴァニラップベース №2002 3∼5ガラス・レンズ・プリズム・水晶ヴァニラップベース №3500 3∼5 9.32 WA・ダイヤ 1000以上 ポリッシング用分散剤 金属・セラミックス・ガラスなど220 210ヴァニラップベース №1800.1% Solnヴァニラップベース №162 1∼3 8.5810 9.80ヴァニラップベース №112 3∼5 9.87 GC・WA・FO 3000以上製 品 名希釈倍率％ｐH25℃適用砥粒 ・ 粒径110 105適 用 材 質金属・セラミックスなど金属・セラミックスなど特 長 適 用 材 質洗浄性に優れ、加工後の水洗可能GC・WA・FO 3000以下 ラッピング加工用途 比較的粗い砥粒に最適−粘度 40℃mm2/s引火点℃ヴァニラップベース S№3 31 98−−286 340 TECHNOLOGY & TRIBOLOGY特 長製 品 名ヴァニラップベース S№414 3 ダイヤモンド 微粉86 洗浄性に優れ、加工後の水洗可能〒143-0016 東京都大田区大森北6-23-20TEL; 03(3763)9151 FAX; 03(3764)7737適用砥粒 ・ 粒径全種 大粒径鉄・非鉄金属・薄板結晶材などラッピング加工用途 比較的細かい砥粒に最適 金属・ガラス・カーボンなど酸化セリウム セリウムの凝集を防止、洗浄し易くなります。ラッピング・ポリッシング用遊離砥粒分散剤