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ポリゴン走査ユニットを複数台(マルチ)連結することで、φ10μm(FWHM)のビーム径を維持したままワイド露光にも対応
このカタログについて
| ドキュメント名 | マルチポリゴンレーザ直描装置 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 245.7Kb |
| 関連製品 | |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 株式会社オプセル (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログ（マルチポリゴンレーザ直描装置）の内容
Page 1:マルチポリゴンレーザ直描装置ﾎﾟﾘｺﾞﾝ走査ﾕﾆｯﾄを複数台（ﾏﾙﾁ）連結することで、φ10μm(FWHM)のﾋﾞｰﾑ径を維持したままﾜｲﾄﾞ露光にも対応［標準基本仕様：走査ユニット２連結の場合］有効露光Jobサイズ 150mm（走査幅）×150mm（ステージ送り）走査ビーム径(FWHM) φ10μm レーザが405nmの場合レーザタイプ 固体レーザ：355nm，488nm，532nmも可データ解像度 2,540dpiデータフォーマット BMPフォーカスユニット（マニュアル操作） ﾌｫｰｶｽ光学系，モニタ，Z軸ステージ［選択オプション］データ解像度 5,080dpi 有効Jobサイズは150mm×80mm繰り返し露光機能 ステージ送り方向にJobを任意回数露光基準穴位置調整機能エアーチャクテーブル セラミックステーブル or アルミテーブル（注）このカタログは予告無く変更することがあります。ご質問、特注仕様などのお問い合わせはこちらまで株式会社オプセル http://www.opcell.co.jp E-mail：support@opcell.co.jp〒333-0844 埼玉県川口市上青木3-12-18 SAITEC752 TEL：048-260-3308 FAX：048-260-3309備 考要求仕様に合わせてY軸ステージ長を決定基準穴確認光学系，モニタ，X軸θ軸ステージ半導体レーザ（405nm，650nm，780nm，830nm)項 目 基本仕様ﾚｰｻﾞ記録装置本体 ｽﾃｰｼﾞ制御BOX ﾃﾞｰﾀ制御BOX ﾊﾟｿｺﾝ本体ﾓﾆﾀｰ（GUI)基準穴確認ﾓﾆﾀ2基準穴確認ﾓﾆﾀ1 ﾏﾆｭｱﾙﾌｫｰｶｽﾓﾆﾀ自動Yステージ Xステージ（ﾏｲｸﾛﾒｰﾀﾍﾄﾞ）θステージ（ﾏｲｸﾛﾒｰﾀﾍｯﾄﾞ）Zステージ（ﾏｲｸﾛﾒｰﾀﾍｯﾄﾞ） ｴｱｰﾁｬｯｸﾃｰﾌﾞﾙ基準穴確認ﾕﾆｯﾄ１基準穴確認ﾕﾆｯﾄ2ﾚｰｻﾞ走査ﾕﾆｯﾄ１ ﾚｰｻﾞ走査ﾕﾆｯﾄ2ﾏﾆｭｱﾙﾌｫｰｶｽﾕﾆｯﾄレーザ記録装置内部 システム全体構成露光ｻﾝﾌﾟﾙ［液体ﾎﾟｼﾞﾚｼﾞｽﾄ］ 露光ｻﾝﾌﾟﾙ［ﾈｶﾞﾄﾞﾗｲﾌｨﾙﾑ on 銅貼り基板