プラズマ加工装置　ドライエッチャー　機種名：APX300 品番：NM-EFE3AA-S

2023 ドライエッチャー プラズマ加工装置 カタログ 機種名APX300 品番.NM-EFE3AA •LED薄膜の高速加工で、エッチング工程の高生産性に貢献します。 •LED基板表面を、台形、円錐等の形状にエッチング可能です。 •装置構成のワンボックス化で、面積生産性の向上に貢献します。 ※オプション構成やお客様仕様によっては 　機械指令及びEMC指令に適合しない 　場合があります。 機 種 名 APX300 品 番 NM-EFE3AA プ ラ ズ マ 源  ICPプラズマ プ ロ セ ス ガ ス 標準4系統（Max.6系統まで増設可：塩素系ガス、フッ素系ガス、Ar、O2、He等） 処理対象ウエハ※1 標準φ100 mmオリフラ付き 設 備 寸 法 W 1 350 mm × D 2 230 mm × H 2 000 mm（タッチパネル、操作部、シグナルタワー含まず） 質 量 2 100 kg（ 装置構成により異なります） 電 源※2 三相 AC 200 / 208 / 220 / 230 / 240 ±10 V、 50 / 60 Hz、 21.00 kVA 空 圧 源 0.5 MPa ～ 0.7 MPa、 250 L / min (A.N.R.) N2 源 0.1 MPa ～ 0.2 MPa、 50 L / min (A.N.R.) ※1:他サイズのウエハにつきましては当社へ別途ご相談ください。 ※2:三相電源は2系統あり、その合計を表しています。

機種名APX300 品番.NM-EFE3AA 独自の高密度プラズマ源とマルチESC電極により、 LED素子におけるGaN加工、PSS加工に最適な 高精度加工と高生産性を実現します。 プロセスを提供いたします。 MSC（Multi Spiral Coil）方式 ICP 高効率 LED Chip structure 独自の高密度プラズマ源 低インダクタンスの誘導コイルにより、 ［ 高いパワー効率を実現しました。 MSC-ICPの構成］ ●シングルスパイラルの 3倍の効率 ●マッチング特性に優れ、広い圧力範囲で 　安定な放電が可能 高均一 ICPコイル マッチング回路 GaN processing RF コイル形状の最適化により、 高均一なエッチングを実現しました。 GaN Isolation PSS GaN MESA Typical depth= Typical depth= Typical depth= 石英板 5 ～ 10 μm 1.0 ～ 2.0 μm 1.0 ～ 2.0 μm マルチESC電極 基　板 エッチングチャンバ 独自のマルチ ESC電極を用いて 個々の基板をダイレクトに温度制御 しながら、一括同時処理が可能。 p-Gan Active layer 高精度加工と高生産性の両立を n-Gan 下部電極 実現します。 Sapphire processing ダメージレスなダイシング加工を実現する 厚い保護膜や難加工材料の加工においても プロセスを提供いたします。 バッチ処理による高生産性を実現可能です。 Blade Dicing Plasma Dicing Chipping FREE （事例） 20 μm 石英 60 μm 酸化膜 Particle Water FREE FREE 130 μm Hole 34 μm Trench （事例） SiC 170 μm 155 μm 安全に関するご注意 ●ご使用の際は、取扱説明書をよくお読みの上、正しくお使いください。 ●カタログの記載商品を安全に使用して頂くために、取扱いについては稼働時、停止時に拘らず、設備付属の取扱説明書および 　設備の警告を十分確認した上で正しい作業を実施されますようお願い致します。 パナソニックグループは環境に配慮した製品づくりに取り組んでいます 詳しくは こちら ●お問い合わせは… パナソニック コネクト株式会社 プロセスオートメーション事業部 〒571-8502 大阪府門真市松葉町２番７号 このカタログの記載内容は 2023年1月1日現在のものです。 Ver.2023.1.1 © Panasonic Connect Co., Ltd. 2023 ●仕様および外観の一部を改良のため予告なく変更することがありますのでご了承ください。　 ●ホームページからのお問い合わせは https://industrial.panasonic.com/jp/r/fw