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半導体製造工程で発生する有毒ガスから 周辺機器と作業者を保護
230種類以上(ホルムアルデヒド、オゾン、二酸化硫黄、硫化水素、アンモニア、TVOCなど)の刺激性・臭気性・腐食性の有毒で有害なガス状汚染物質の除去に高い効果を発揮
◆クリーンルームAMC制御・乾式排ガススクラバー
高効率
対象AMCの正確な制御
ライフサイクルを予測
AMCの永久除去
フレキシブルな設置スタイル
メンテナンスコストの低減
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このカタログについて
ドキュメント名 | 有害・有毒なガス状汚染物質の除去 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 688.3Kb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 日本フィルトレーショングループ株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
このカタログの内容
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半導体製造工程で発生する有毒ガスから
周辺機器と作業者を保護
有害・有毒なガス状汚染物質の除去
230種類以上(ホルムアルデヒド、オゾン、二酸化硫黄、硫化水素、アンモニア、TVOCなど)の
刺激性・臭気性・腐食性の有毒で有害なガス状汚染物質の除去に高い効果を発揮
クリーンルームAMC制御・乾式排ガススクラバー
高効率 対象AMCの正確な制御 ライフサイクルを予測
クリーンルーム内のAMC制御により微細 エリア内の除去対象ガスの種類と濃度に 使用中のメディアをサンプリングし、purafil
加工の歩留まりを大幅に改善、ウェットプロ 応じカスタマイズされたpurafilメディアは、 ラボでライフサイクル分析を行うことが
セス用ドライ排ガススクラバーは、もっとも 各フィルターメディアが対象とする特定濃度 可能。これにより、メディアがそのライフサイ
厳しい排出規制や法的要件を満たし作業 を射程とし、最大のパフォーマンスを確保。 クル内で十分な性能を発揮できることが
者の健康と安全な環境を確保 廃棄ガスとメディア間の十分な接触時間を 保証され、寿命が来る前にメディアを交換
確保することで、ろ過効率を高め、長いろ過 することで、不必要なメンテナンスコストの
寿命を実現 増加やメディアの寿命による損害を回避
AMCの永久除去 フレキシブルな設置スタイル メンテナンスコストの低減
purafilメディアは、化学的吸着によって さまざまな仕様があるため、お客様のご要望 各フィルターレンジのメディアを単独で交換
AMCを除去し、化学反応で汚染物質は にあわせて柔軟に対応 できるため、メディアの交換が容易。メンテ
メディアの中に閉じ込められ、無害な固体 ナンスにかかる時間とコストを低減し、
粒子に変化。除去した汚染物質の気中再放出 トータルコストを削減
を不可逆化し、再侵入を防止
AMC制御用MAU用フィルター ヨコ型 タテ型
purafilメディアラインナップ 空気中の汚染物質の広範囲の酸化と中和
IAQ_Blend 経済的 Purakol_P+
Purafil AC Pellet Purafilのエンジニアード活性炭
発生源が特定されない広範囲の汚染物質を制御します。 ペレット化メディア。押し出しカーボンペレットに匹敵
例:屋外からの臭気、建材・家具から放出されるガス等 する性能。未使用および含浸の形で利用できます。
Purafil_Chemisorbent Odorkol
化学吸着剤媒体は、酸化電位を高めるように設計され
ています。4%の過マンガン酸カリウムが含まれてい プラコールバージンCTC60、活性化、非含浸押出カー
ます。 ボンメディアペレット。
Purafil_Select Purafil_Puracarb
補給空気から硫黄酸化物やその他の臭気のある汚染
物質を除去し、果物、野菜、花の保存にも推奨されます。 腐食性の高い環境で塩素、硫化水素、二酸化硫黄など
8%の過マンガン酸カリウムが含まれています。 の汚染物質を中和するように設計されています。
Purafil_SP Chlorosorb_Ultra、Purafil_CSO、Puracarb_AM
複数のガスチャレンジが存在する実際のフィールド条件で、 メディアは、塩素、アンモニア、二酸化硫黄などの有毒ガ
汚染物質の広域スペクトル酸化に対してより高い作業能 スの壊滅的な放出から保護し、purafilの緊急ガススクラ
力を示します。12%の過マンガン酸塩が含まれています。 バーで使用するために配合されています。
Odoroxidant_SP Odorcarb_Ultra
SPHINX™Yield +カビや真菌を99.9%除去するこ 疎水性で、媒体1cm(3 cc)あたり0.30g(g)の臭気の
とで、植物の汚染を防ぎ、収穫量を保護します。 パフォーマンス ある硫化水素ガス(H2S)を除去します。