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350℃以下の低温処理が可能 半導体製造向けコーティング:ELIP coat

製品カタログ

超越した耐プラズマエッチング特性と耐熱&電気特性を持つコーティング

『ELIPcoat』は、JCCのPVD技術で開発したコーティングです。

酸化物や炭化物セラミックス被膜を緻密な結晶構造で成膜。
生成された被膜には電気的特性や耐熱特性等の化学的・物理的特性を付与します。

結晶粒の大きさの違いが明確なので、パーティクルサイズに影響。
また、被処理材に合わせた温度調整も可能です。

ELIPコートの特長
■低温処理が可能(350℃以下)
■絶縁物・樹脂への処理も可能
■酸化物・炭化物セラミックス被膜

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ホームページ:https://www.jcc-coating.co.jp/
お問い合わせ:https://www.jcc-coating.co.jp/contact_pro/

このカタログについて

ドキュメント名 350℃以下の低温処理が可能 半導体製造向けコーティング:ELIP coat
ドキュメント種別 製品カタログ
ファイルサイズ 552.6Kb
登録カテゴリ
取り扱い企業 日本コーティングセンター株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧)

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