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12インチリング付きウェハ処理が可能! 表面改質、無機物/有機物汚染除去! 量産前の評価、研究に最適! 高速、低価格
★ 12インチリング付きウェハ処理が可能!
★ 表面改質、無機物/有機物汚染除去!
★ 量産前の評価、研究に最適!
★ 高速、低価格
★ 様々なオプション機能
★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可
このカタログについて
ドキュメント名 | 小型プラズマクリーナー『KNPC-1』 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 1.5Mb |
取り扱い企業 | KNE株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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KNPC-1小型プラズマクリーナー
★ 12インチリング付きウェハ処理が可能!
★ 表面改質、無機物/有機物汚染除去!
★ 量産前の評価、研究に最適!
★ 高速、低価格 適用基板~オプション選択含む
★ 様々なオプション機能
★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可
輻射熱を遮断しダイシングテープを保護
汚染物 Arイオン
300mmフレーム付きウェハ
フレーム付きウェハ 300mmウェハ
リードフレーム
ガラエポ基板
※テープ基板など各種基板への対応も可能です
プラズマクリーナーの具体的用途(例:BGA基板)
モールド密着性向上
ワイヤー接合強度
(対IC保護膜)
IC モールド樹脂 ワイヤー 向上
モールド密着性向上
(対基板レジスト)
基板
技術本部 092-408-9101
URL http://www.kne-hakata.com
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[ 主要性能]
・到達圧力:6.0Pa以下(ガスバラスト閉時)
※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用
・リークレート:1.07 Pa/min以下
※ビルドアップ基準値:0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算
・RFパワー制御:13.56MHz/100~1,000W
※設定値±5%又は±5wのいづれか大きい値
整合範囲
ワイドレンジオートチューニング
ウェハ時整合挙動軌跡例
矩形基板時整合挙動軌跡例
スミスチャート上の本装置整合範囲
・プロセスガス流量制御:設定値に対して±10%以内
・エッチング性能
独自技術により業界プラズマクリーナーに比べて短時間で処理可能!
無機物エッチングレート:平均20nm/min以上±20%
有機物エッチングレート:平均500nm/min以上±20%
テストチップをφ300電極上5ポイントに配置
※φ280円周上4点及び中央1点に配置
※矩形電極[オプション]時は□300コーナー4点及び中央1点に配置
・プロセス時間
量産機並みのプロセス時間で処理可能!
1プロセス 30 s 以下
※排気スタート~ガス導入~放電~ベント完了まで
処理時間 8 s 設定時
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[ 主要諸元]
装置寸法 690 mm(W) x 580 mm(D) x 880 mm(H)
処理エリア Φ300mm [標準] ※□350mm[選択オプション]
装置質量 350 kg ※ポンプ含まず
電 源 単相 AC200V ±10% 50/60Hz 3.0 kVA
エアー源 0.4 MPa以上 0.6 MPa 以下
操作部 4.3 型TFTカラー液晶モニター、非常停止、USBポート1ヶ
RF電源 最大1kW : 13.56MHz ※総合通信局への申請が必要です
ガス源 Ar1系統標準:0.1~0.15MPa ※O2[追加オプション]
真空ポンプ 最大排気速度:500 L/min
本カタログの内容は、2021年9月現在のものです。品質向上や機能改善のため、予告なく変更になることがあります。
KNE販売サービス株式会社
KNE 株式会社 技術本部
〒818-0041 福岡県筑紫野市上古賀3-2-16
クリエイション・コア福岡 212
https://www.kne-hakata.com info@kne-hakata.com 電話 092-408-9101
880
1 410 (蓋全開時)