ノリタケ/ LiSMixer

「滴下操作」 バッチ処理からの脱却 徐々に濃度を上げながら、強い剪断をかけずに連続混合する装置 滴下 滴下 こんなお悩みありませんか？ 開始 終了 濃度が線形的に上昇 ・滴下操作をインライン連続処理したい B液 ・2液を徐々に連続混合したい A液 ・原料に力をかけずに混合したい 時間 滴下操作 リニアグラジエント混合 TM LiSMixer はリニアグラジエント混合の連続化を実現する装置です 基本機能 【特許取得】 特長 多孔質セラミックス膜とバッフルの組合せにより、膜の外側を 1. 滴下の連続化が可能（2液を徐々に連続混合） 流れる液体と内側から溢出させた液体を層流下で均一に混合します。 2. 層流条件の流量でも均一混合 A+B混合液 3. 細孔径の均一な多孔質セラミックス膜を使用 多孔質セラミックス 4. バッフルにより低剪断での連続混合を実現 5. シンプルな装置構成により多段/並列化が容易 （ナンバリングアップ） バッフル 用途例 徐々に濃度を上げながら 連続混合を実現 ⚫ 連続貧溶媒晶析（インダクションタイムが遅い系） ⚫ フロー合成反応（高濃度溶液の接触が適さない反応） A液 ⚫ 低せん断力混合（原料に力を加えない優しい混合） ⚫ インライン連続pH調整（ハンチングしやすい混合） etc B液 A+B液混合液量

混合の仕組み 実際の混合の様子 A+B混合液 モジュール内の濃度変化 着色試験 CFD 混合モジュール 混合モジュール 多孔質セラミックス 入口 出口 リニアグラジエント混合 バッフル B液 A液 B液 A液 時間（位置） 多孔質セラミックスから染み出したB液がA液に徐々に添加 滴下操作の連続化を実現 バッフルを通過することで2液の混合を促進 試験事例 【連続貧溶媒晶析】 アセトアミノフェン晶析実験系 粒度分布制御実験 （H2O － IPA －アセトアミノフェン） アセトアミノフェン粒度分布 【条件】 8 ・内容 ･･･ アセトアミノフェンの晶析 7 ・良溶媒 ･･･ H2O：IPA（v/v）＝40：60 平均粒子径 ・貧溶媒 ･･･ H2O 6 ・アセトアミノフェン飽和液濃度 ･･･ 186g/L 5 条件① 65.64㎛ ・粒度分布表示 ･･･ 体積 4 条件② 20.78㎛ ・測定回数 ･･･ 3回 析出したアセトアミノフェン結晶 ・流量条件 3 アセトアミノフェン 2 純水(貧溶媒) 飽和液 1 アセトアミノフェン 飽和液 条件① 32 ml/min 48 ml/min 0 100㎛ 1 10 100 1000 条件② 64 ml/min 96 ml/min 粒子径 [μm] ※混合比はそのままで、飽和液と貧溶媒の流量を変更 ※条件②は条件①の流量2倍 純水(貧溶媒) 流量によって粒径の制御が可能 装置構成 装置仕様 流量 5～100mL/min （1液あたり） 推奨粘度 ～200mPa･s 耐圧 ※常温時 ～0.3MPa（高圧仕様は応相談） 耐熱 0～40℃（凍結なきこと） 電源 AC100V 50/60Hz ハウジング：SUS304 継手類：SUS316 株式会社タクミナ バッフル：SUS304 スムーズフローポンプ 接液材質 チューブ：PFA Qシリーズ 多孔質セラミックス：アルミナ ●無脈動ダイヤフラムポンプ パッキン：バイトン ●吐出量 ~100mL/min A+B混合液流量 頻度 [%]