高精度レーザー描画装置により最小1μmからの微細パターンに対応しております
・測長装置 高精度測長装置を用いた寸法検査によりフォトマスクの寸法精度を管理しております。
・外観検査装置 最新の外観検査装置により、微小な欠陥を検出致します。
・外観検査装置 最小2μmからの無欠陥規格に対応可能です。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 技術資料 フォトマスク Photomask |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 681.3Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 東洋精密工業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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