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ウェハ・ガラス基板だけでなく、その他の鏡面基板上の膜厚測定が可能!
●概要
本装置は分光器と光干渉式膜厚解析ソフトを搭載し、各種パラメータの設定をする事により膜厚測定を可能とした非接触式自動膜厚測定装置です。
本解析ソフトは薄膜の表面及び基盤との界面からの干渉波形を解析することにより、非接触で、透明もしくは半透明の薄膜の膜厚、屈折率及び吸収係数を簡単に自動測定及びマッピング処理する事が出来ます。
●特長
・ウェハ・ガラス基板だけでなく、その他の鏡面基板上の膜厚測定が可能。
・膜の光学定数を設定する事で、各種の膜厚測定が測定可能。
・薄膜酸化膜、SOI、EG膜、カラーフィルター等の測定に優れています。
・標準として3・4・5・6・8・12インチウェハに対応したオートステージ。
・ローダ仕様にもオプションで対応可能です。(カセット・FOUP、ポート数にも相談に応じます。)
・測定ヘッド仕様よって、薄膜から厚膜の膜厚測定に対応。
・GEM通信は、オプション。
◆詳細はカタログをダウンロードしてご覧ください。
このカタログについて
ドキュメント名 | 【非接触で簡単測定・マッピング処理も可能】非接触式自動膜厚測定装置 LF-1000 |
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ドキュメント種別 | 製品カタログ |
ファイルサイズ | 365.6Kb |
登録カテゴリ | |
取り扱い企業 | 株式会社ラポールシステム (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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LF-1000
● 概要
本装置は分光器と光干渉式膜厚解析ソフトを搭載し、各種パラメータの設定を
する事により膜厚測定を可能とした非接触式自動膜厚測定装置です。
本解析ソフトは薄膜の表面及び基盤との界面からの干渉波形を解析すること
により、非接触で、透明もしくは半透明の薄膜の膜厚、屈折率及び吸収係数を
簡単に自動測定及びマッピング処理する事が出来ます。
● 特長
◆ウェハ・ガラス基板だけでなく、その他の鏡面基板上の膜厚測定が可能。
◆膜の光学定数を設定する事で、各種の膜厚測定が測定可能。
◆薄膜酸化膜、SOI、EG膜、カラーフィルター等の測定に優れています。
◆標準として3・4・5・6・8・12インチウェハに対応したオートステージ。
◆ローダ仕様にもオプションで対応可能です。(カセット・FOUP、ポート
数にも相談に応じます。)
◆測定ヘッド仕様よって、薄膜から厚膜の膜厚測定に対応。
◆GEM通信は、オプション。
<基本測定>
測定波長範囲 400nm~1000(1700)nm(波長範囲は仕様による)
測定膜厚範囲 150Å ~50(250)μm(測定膜厚は仕様による)
光学定数測定範囲 1000Å ~5(10)μm(測定範囲は仕様による)
測定時間 0.3~3秒以内(膜種によって異なる)
繰返し再現性 ±10Å以内あるいは±0.3%以内どちらか大きい数値
<画面例>
下記画面例は、3ポート・ローダー仕様のものです。