高千穂は、世界中から探した半導体材料ガスに、独自の製法を加え、高付加価値製品としてご提供し続けます。
高千穂は、世界中から探した半導体材料ガスに、独自の製法を加え、
高付加価値製品としてご提供し続けます。
この度、新しいデバイス開発のキーとなるALD,ALEt,ALC材料を多数ラインアップ致しました。
・Atomic Layer Deposition New Precursor 18 Elements
(Al,Co,Cu,Hf,La,Li,Mn,Ni,P,Ru,Sb,Se,Si,Sn,Ta,Ti,Zn,Zr)
・ALD Reactant Gases
・ALEt Atomic layer Etching Gases
・ALC Atomic layer Cleaning Gases
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このカタログについて
| ドキュメント名 | TAKACHIHO's Materials for ALD,ALEt,ALC |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 686.3Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 高千穂商事株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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