CF用ITO膜は、透過率や抵抗値、エッチング性に優れており、また低温成膜技術により、CFへ熱衝撃を抑えています。
成膜条件を制御することにより研磨同様の平坦性を実現し、成膜後の研磨を不要としました。研磨が不要になったことにより、研磨剤の残渣やキズに対しての懸念がなくなりました。 ITO膜のドメイン構造が均質なので、綺麗なパターニングエッジに仕上がります。また、通常の...
均一な膜質と高い透過率、低い抵抗値、優れたエッチング性を備えています。硝子基板のほか、樹脂・フィルム基板への成膜が可能です。様々なタイプの静電容量式タッチパネルに対応します。
多くの成膜物質と蒸着・スパッタリングの成膜方法を組み合わせ、お客様のニーズに合わせた金属電極膜、金属反射膜をご提供しております。
均一な膜質と高い透過率、低い抵抗値、優れたエッチング性を備えています。硝子基板のほか、樹脂・フィルム基板への成膜が可能です。