連続式を極めた高生産性常圧CVD装置 AMAX800V カタログのご案内です。
8インチ 毎時100枚の高スループット SiCトレー採用による重金属汚染対策と長期安定プロセス メンテナンス性の向上
6インチ以下小口径ウェハ用大量生産常圧CVD装置 A6300S カタログのご案内です...
6インチ 毎時120枚のスループット SiCトレー採用による重金属汚染対策
フェイスダウン方式を採用した高性能枚葉式常圧CVD装置 A200V カタログのご案内...
±2%以内の膜厚均一性 パーティクル発生抑制 コンパクトな装置構成 良好な段差被覆性 低温プロセス対応 メンテナンス性向上 安全性の向上
種類豊富に取り揃えています。
半導体製造用、太陽電池製造用等様々な用途に対応 少量生産から大量生産まで対応 SiO2、BPSG、BSG、PSG、AlOx等様々な膜種を形成 SiCトレーの採用により重金属汚染を防止 低温(200℃)から中温(500℃)領域まで幅広い成膜が可能